1令和３年７月２０日判決言渡令和２年（行ケ）第１００５４号 審決取消請求事件口頭弁論終結日 令和３年６月１０日判 決 5原 告 株式会社ウィングターフ 同訴訟代理人弁理士 実 広 信 哉 被 告 株式会社シーライブ10 同訴訟代理人弁理士 河 野 貴 明主 文１ 特許庁が無効２０１７－８００００４号事件について令和２年３月１７日にした審決のうち，「特許第５４６３３７８号の請求項２ないし15４に係る発明についての審判請求は，成り立たない。」との部分を取り消す。 ２ 訴訟費用は被告の負担とする。 事実及び理由第１ 請求20主文同旨第２ 事案の概要（以下，書証については，単に「甲１」などと略記する。）１ 特許庁における手続等（当事者間に争いがない）(1) 被告及び株式会社ノベルト（以下「ノベルト」という。）は，平成２４年３25月１９日，発明の名称を「核酸分解処理装置」とする発明について特許出願2（特願２０１２－６２８８０号。以下「本件出願」という。）をし，平成２６年１月２４日，特許権の設定登録を受けた（特許番号第５４６３３７８号。 請求項の数４。以下，この設定登録を受けた特許を「本件特許」という。）。 (2) 原告は，平成２９年１月１７日，本件特許の請求項１ないし４に係る発明についての特許を無効とすることを求める特許無効審判（無効２０１７－８5００００４号事件）を請求した。 被告及びノベルトは，同年１１月３０日付けの審決の予告を受けたため，同年１２月２７日付けで，請求項１ 効とすることを求める特許無効審判（無効２０１７－８5００００４号事件）を請求した。 被告及びノベルトは，同年１１月３０日付けの審決の予告を受けたため，同年１２月２７日付けで，請求項１ないし４からなる一群の請求項について，請求項２ないし４を訂正し，請求項１を削除し，本件出願の願書に添付した明細書（以下，図面を含めて「本件明細書」という。）について訂正する旨の10訂正（以下，この一連の訂正を「一次訂正」という。）を請求した。 その後，特許庁は，平成３０年３月２７日，上記訂正を認めた上で，「本件審判の請求は，成り立たない」との審決（以下「一次審決」という。）をし，その謄本は，同年４月５日，原告に送達された。 この間に，被告は，ノベルトから，本件特許に係る特許権の持分の譲渡を15受け，その旨の移転登録（受付日平成３０年１月５日）を受けた。 (3) 原告は，平成３０年５月２日，一次審決の取消しを求める審決取消訴訟（知的財産高等裁判所平成３０年（行ケ）第１００６４号）を提起した。 同裁判所は，平成３１年２月２８日，一次審決を取り消す旨の判決（以下「一次判決」という。）をし，同判決は，その後確定した。 20(4) その後，特許庁は，上記無効審判について更に審理を行った。 被告は，令和元年９月４日付けの審決の予告を受け，同年１１月８日付けで請求項１ないし４からなる一群の請求項について，請求項２ないし４を訂正し，請求項１を削除し，本件明細書について訂正する旨の訂正（以下「本件訂正」という。）を請求した。 25特許庁は，令和２年３月１７日，本件訂正を認めた上で，「特許第５４６３3３７８号の請求項２ないし４に係る発明についての審判請求は，成り立たない。同請求項１に係る発明 請求した。 25特許庁は，令和２年３月１７日，本件訂正を認めた上で，「特許第５４６３3３７８号の請求項２ないし４に係る発明についての審判請求は，成り立たない。同請求項１に係る発明についての審判請求を却下する。」旨の審決（以下「本件審決」という。）をし，その謄本は，同月２６日，原告に送達された。 (5) 原告は，同年４月２４日，本件審決のうち，本件特許のうち請求項２ないし４に係る部分について取消しを求める本件訴訟を提起した。 5２ 特許請求の範囲本件訂正後の本件特許の請求項２ないし４の記載は，以下のとおりである（以下，本件訂正後の請求項２に係る発明を「訂正発明２」などといい，訂正発明２ないし４を「訂正発明」という。また，一次訂正後本件訂正前の請求項２に係る発明を「一次訂正発明２」という。なお，本件訂正箇所のうち一次訂10正箇所と同内容の部分は下線で，一次訂正と異なる部分は二重線で示す。）。 【請求項２】メタノールタンクから供給されたメタノールを霧状に噴射するノズルを備え，該ノズルを介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方に位置して，熱15反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部とからなり，該上部には空気を供給する空気供給部が連結されており，該メタノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該空気供給部から供給された空気を所定の割合で混合させる筒体部と，上記筒体部の上方に位置し，該筒体部において上記所定20の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを有し，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形して 筒体部と，上記筒体部の上方に位置し，該筒体部において上記所定20の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを有し，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒より構成され，該ラジカル反応触媒を複数積層してなり，空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して少なくともメタノールに由来する活性種を含み生成される複合ガス（以下「バイオガス」という）を発25生するバイオガス発生部と，4上記バイオガス発生部における生成ガス量を供給空気量とメタノール量で制御する生成ガス量制御手段と，上記バイオガス発生部により発生したバイオガスが供給される暴露部と，上記暴露部の暴露空間内の温度を制御する温度制御手段と，上記暴露部の暴露空間内の湿度を制御する湿度制御手段と，5上記暴露部に供給されたバイオガスを排気する排気処理部と，上記排気処理部により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御するバイオガスの排気量制御手段と，上記暴露部におけるバイオガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定するホルムアルデヒド成分濃度測定手段と，10臭いを検出又は測定する手段を備え，上記ホルムアルデヒド成分濃度測定手段による測定結果として得られるガス濃度情報が上記生成ガス量制御手段に帰還され，上記バイオガス発生部において，一定の触媒の自己反応温度と濃度のバイオガスとなるように，上記生成ガス量制御手段により上記バイオガス発生部における生成ガス量が供給空気量と15メタノール量で制御されるとともに，上記排気量制御手段により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内ガス濃度を一定にし，上記排気量制御手段により制御される排 メタノール量で制御されるとともに，上記排気量制御手段により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内ガス濃度を一定にし，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による上記暴露部の暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出する庫内差圧20検出手段を備え，上記庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排気量制御手段により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることを特徴とする核酸分解処理装置。 25【請求項３】5上記バイオガス発生部は，メタノール，ホルムアルデヒド，一酸化炭素，二酸化炭素，水素，酸素の成分を少なくとも含有した活性酸素とフリーラジカルからなる複合ラジカルガスを発生することを特徴とする請求項２に記載の核酸分解処理装置。 【請求項４】5上記バイオガス発生部は，上記自己反応温度が４００℃～５００℃の範囲内に制御されることを特徴とする請求項３記載の核酸分解処理装置。 ３ 一次審決及び一次判決の要旨(1) 一次審決ア 一次審決が認定した甲１（特開２０１０－５１６９２号公報。公開日平10成２２年３月１１日）に記載された発明（以下「甲１発明」という。）は，後記４(2)アのとおりであり，甲１発明と一次訂正発明２との一致点及び相違点は，以下のとおりである。 （一致点）「メタノールタンクから供給されたメタノールを霧状に噴射するノズルを15備え，該ノズルを介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方に位置して，熱反射可能 タノールを霧状に噴射するノズルを15備え，該ノズルを介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方に位置して，熱反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部とからなり，該上部には空気を供給する空気供給部が連結されており，上記メタノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により20上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該空気供給部から供給された空気を所定の割合で混合させる筒体部と，上記筒体部の上方に位置し，該筒体部において上記所定の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを有し，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒より構成され，25該ラジカル反応触媒を複数積層してなり，空気が混合したメタノールガス6を触媒反応によりラジカル化して，ＭＲガスを発生するＭＲガス発生装置と，上記ＭＲガス発生装置における生成ＭＲガス量を供給空気量とメタノール量で制御する生成ＭＲガス量制御手段と，上記ＭＲガス発生装置から発生したＭＲガスが供給される滅菌タンクを備えたＤＮＡ破壊処理装置。」である点。 5（相違点１）一次訂正発明２は，滅菌タンク内の温度を制御する温度制御手段と，滅菌タンク内の湿度を制御する湿度制御手段と，滅菌タンクに供給されたＭＲガスを排気する排気処理部と，上記排気処理部により滅菌タンクから排気するＭＲガスの排気量を制御するＭＲガスの排気量制御手段と，滅菌タ10ンクにおけるＭＲガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定するホルムアルデヒド成分濃度測定手段と，臭いを検出又は測定する手段を備え，上記ホルムアルデヒド成分濃度測定手段による測定結果として得 10ンクにおけるＭＲガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定するホルムアルデヒド成分濃度測定手段と，臭いを検出又は測定する手段を備え，上記ホルムアルデヒド成分濃度測定手段による測定結果として得られるガス濃度情報が生成ＭＲガス量制御手段に帰還され，ＭＲガス発生装置において，一定の触媒の自己反応温度と濃度のＭＲガスとなるように，生成Ｍ15Ｒガス量制御手段によりＭＲガス発生装置における生成ＭＲガス量が供給空気量とメタノール量で制御されるとともに，上記排気量制御手段により滅菌タンクから排気するＭＲガスの排気量を制御することにより，滅菌タンクの庫内ガス濃度を一定にするという構成を備えるのに対し，甲１発明は，かかる構成について記載されていない点。 20（相違点２）一次訂正発明２は，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による滅菌タンク内のＭＲガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出する庫内差圧検出手段を備え，上記庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排気量25制御手段により滅菌タンクから排気するＭＲガスの排気量を制御するこ7とにより，滅菌タンクの庫内差圧を一定にするという構成を備えるのに対し，甲１発明は，かかる構成について記載されていない点。 イ 一次審決の要旨（ただし，無効理由１（甲１を主引用例とする一次訂正発明２の進歩性の判断の誤り）に限る。）(ア) 一次訂正発明２は，相違点１の容易想到性は認められるが，相違点5２の容易想到性は認められない。 (イ) 一次審決の相違点２の容易想到性に関する判断の要旨は，以下のとおりである。 ①本件明細書の【０１４３】ないし【０１４７】の記載事項によれば，一次訂正発明 められない。 (イ) 一次審決の相違点２の容易想到性に関する判断の要旨は，以下のとおりである。 ①本件明細書の【０１４３】ないし【０１４７】の記載事項によれば，一次訂正発明２の「庫内差圧検出手段」は，「滅菌タンク内がタンク外よ10りも陰圧であることを検出する庫内差圧手段であって，滅菌タンク内のＭＲガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出するものである」と認められる，②滅菌タンク内の圧力は，一次訂正発明２では，陰圧で維持するように制御されるのに対して，甲２（国際公開第０１／０２６６９７号の再公表公報（平成１５年５月７日発行））には，陽圧を維持す15るように制御することが記載されており，滅菌タンク内の圧力を陰圧に維持するように滅菌タンクからのＭＲガスの排気量を制御して，滅菌タンク内の庫内差圧を一定にしようとすることは，甲２の記載事項から導き出せる事項ではないから，甲１発明に甲２に記載された発明及び周知技術を組み合わせても，相違点２に係る一次訂正発明２の「庫内差圧検20出手段」の構成を当業者が容易に想到することができない。 (2) 一次判決の要旨①一次訂正後の特許請求の範囲（請求項２）の記載及び本件明細書の記載に鑑みると，一次訂正発明２の「庫内差圧検出手段」の検出の対象となる「庫内差圧」は，「庫内」（暴露部の暴露空間内）の圧力と暴露空間外の圧力との25差圧であれば，特定の数値範囲のものに限定されるものではなく，陰圧の数8値範囲のものに限定されるものでもないと解すべきである，②甲２における「本発明」の第２の実施の形態の「微差圧検出器５６」，「コントロールユニット５８」及び「排気量調整電磁弁７４及び送風機８２」は，それぞれ，一次訂正発明２における「庫内差圧検出手段」，「上記庫内差圧検 「本発明」の第２の実施の形態の「微差圧検出器５６」，「コントロールユニット５８」及び「排気量調整電磁弁７４及び送風機８２」は，それぞれ，一次訂正発明２における「庫内差圧検出手段」，「上記庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が･･･帰還され」る「上記排気量制御手段」5及び「上記排気量制御手段により制御される排気処理手段」に相当するものと認められるから，甲２には，相違点２に係る一次訂正発明２の構成が開示されているものと認められる，③甲１及び甲２に接した当業者は，甲１発明において安定した濃度の滅菌ガスを発生させるとともに，十分に保証可能な殺菌効果を得るために，甲２記載の被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃10度，湿度，温度をそれぞれ所定の値に制御し，かつ，被殺菌空間の室圧を一定に保つための構成を適用する動機づけがあるものと認められる，④したがって，当業者は，甲１及び甲２に基づいて，甲１発明に甲２記載の上記構成を適用して相違点２に係る一次訂正発明２の構成を容易に想到することができたものと認められる。 15４ 本件審決の要旨(1) 本件審決の要旨は，①訂正発明２は，本件出願前に頒布された刊行物である甲１に記載された発明（甲１発明）及び甲２発明及び技術常識を組み合わせることにより当業者が容易に発明することができたものとはいえず，また，訂正発明３は訂正発明２の発明特定事項を全て有する発明であり，また，訂20正発明４は訂正発明３の発明特定事項を全て有する発明であり，訂正発明２について当業者が容易に発明することができたものとはいえないので，訂正発明３及び４についても当業者が容易に発明することができたものとはいえないから，訂正発明は，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができないということはできない， たものとはいえないので，訂正発明３及び４についても当業者が容易に発明することができたものとはいえないから，訂正発明は，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができないということはできない，②本件訂正後の特許請求の範囲は，特許法25３６条６項１項に規定する要件（以下「サポート要件」という。）を満たして9いるといえる，③本件訂正後の本件明細書（以下「訂正明細書」という。）の記載は，同条４項１号に規定する要件（以下「実施可能要件」という。）を満たしている，というものである。 (2) 本件審決が認定した甲１発明，訂正発明２と甲１発明の一致点及び相違点は，以下のとおりである。 5ア 甲１発明「メタノールタンクから供給されたメタノールを霧状に噴射するノズルを備え，該ノズルを介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方に位置して，熱反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部10とからなり，該上部には空気を供給する空気供給部が連結されており，該メタノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該空気供給部から供給された空気を所定の割合で混合させる筒体部と，上記筒体部の上方に位置し，該筒体部において上記所定の割合で空気が混合したメタノー15ルガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを有し，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒より構成され，該ラジカル反応触媒を複数積層してなり，空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して，ＭＲガスを発生するＭＲガス発生装置と，上記ＭＲガス発生装置における生成ＭＲガス濃度を供給空気量と 該ラジカル反応触媒を複数積層してなり，空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して，ＭＲガスを発生するＭＲガス発生装置と，上記ＭＲガス発生装置における生成ＭＲガス濃度を供給空気量とメタ20ノール量で制御する生成ＭＲガス濃度制御手段と，上記ＭＲガス発生装置から発生したＭＲガスによって滅菌処理を施す滅菌タンクを備えた滅菌処理装置であって，ＤＮＡを破壊することが可能な滅菌処理装置。」イ 一致点及び相違点【一致点】25「メタノールタンクから供給されたメタノールを霧状に噴射するノズルを10備え，該ノズルを介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方に位置して，熱反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部とからなり，該上部には空気を供給する空気供給部が連結されており，該メタノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により上5方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該空気供給部から供給された空気を所定の割合で混合させる筒体部と，上記筒体部の上方に位置し，該筒体部において上記所定の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを有し，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒より構成され，10該ラジカル反応触媒を複数積層してなり，空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して少なくともメタノールに由来する活性種を含み生成される複合ガス（以下「バイオガス」という。）を発生するバイオガス発生部と，上記バイオガス発生部における生成ガス量を供給空気量とメタノール量で制御する生成ガス量制御手段と，上記バイオガス発生15部により発 ス（以下「バイオガス」という。）を発生するバイオガス発生部と，上記バイオガス発生部における生成ガス量を供給空気量とメタノール量で制御する生成ガス量制御手段と，上記バイオガス発生15部により発生したバイオガスが供給される暴露部を備えた核酸分解処理装置。」【相違点１】訂正発明２は，暴露部の暴露空間内の温度を制御する温度制御手段と，暴露部の暴露空間内の湿度を制御する湿度制御手段と，暴露部に供給され20たバイオガスを排気する排気処理部と，上記排気処理部により暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御するバイオガスの排気量制御手段と，暴露部におけるバイオガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定するホルムアルデヒド成分濃度測定手段とを備え，上記ホルムアルデヒド成分濃度測定手段による測定結果として得られるガス濃度情報が上記生成ガス25量制御手段に帰還され，上記バイオガス発生部において，一定の触媒の自11己反応温度と濃度のバイオガスとなるように，上記生成ガス量制御手段により上記バイオガス発生部における生成ガス量が供給空気量とメタノール量で制御されるとともに，上記排気量制御手段により暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内ガス濃度を一定にし，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による暴5露部の暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出する庫内差圧検出手段を備え，上記庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排気量制御手段により暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることを特徴とするのに10対して，甲１発明は，かかる構成について記載されていない 量制御手段により暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることを特徴とするのに10対して，甲１発明は，かかる構成について記載されていない点。 【相違点２】訂正発明２は，臭いを検出又は測定する手段を備えるのに対し，甲１発明は，かかる構成について記載されていない点。 (3) 原告の主張に関連する本件審決の理由の要旨は，以下のとおりである。 15ア 無効理由１（特許法１２３条１項２号）について①甲１及び甲２に接した当業者は，甲１発明において安定した濃度の滅菌ガスを発生させるとともに，十分に保証可能な殺菌効果を得るために，甲２記載の被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ所定の値に制御し，かつ，被殺菌空間の室圧を一定に保つための構成20を適用する動機づけがある，②しかし，甲２には，相違点１に係る訂正発明２の構成のうち，「暴露部の暴露空間内の温度を制御する温度制御手段と，暴露部の暴露空間内の湿度を制御する湿度制御手段と，暴露部に供給されたバイオガスを排気する排気処理部と，上記排気処理部により暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御するバイオガスの排気量制御手25段と，暴露部におけるバイオガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定す12るホルムアルデヒド成分濃度測定手段とを備え，上記ホルムアルデヒド成分濃度測定手段による測定結果として得られるガス濃度情報が上記生成ガス量制御手段に帰還され，上記バイオガス発生部において，一定の触媒の自己反応温度と濃度のバイオガスとなるように，上記生成ガス量制御手段により上記バイオガス発生部における生成ガス量が供給空気量とメタ5ノール量で制御されるとともに，上記排気量制御手段により暴露部か 自己反応温度と濃度のバイオガスとなるように，上記生成ガス量制御手段により上記バイオガス発生部における生成ガス量が供給空気量とメタ5ノール量で制御されるとともに，上記排気量制御手段により暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内ガス濃度を一定にし，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による暴露部の暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出する庫内差圧検出手段を備え，上記庫内差圧検出手段による検出10結果から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排気量制御手段により暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内差圧を一定にすることを特徴とする」ことは開示されていると認められるものの，「上記暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にする」ことは開示されていないから，甲２には，相違点１に係る訂15正発明２の構成が開示されておらず，仮に，甲１発明に甲２に記載の構成を適用しても，当業者は，相違点１に係る訂正発明２の構成を想到し得ない，③請求人（原告）は，ＭＲガス等を処理室内で使用するに当たり，処理室内の圧力を処理室外の圧力に対して陰圧とした状態で使用する場合があることは技術常識であったから，甲１発明において甲２の記載に鑑み20ると，庫内差圧の制御を行うに当たり，陰圧で制御を行うことは容易であった旨主張するが， ＭＲガス等を使用する処理室内の圧力を処理室外の圧力に対して陰圧に制御することは，その主張する文献（甲２３ないし２７）のいずれにも開示されていないから，上記各文献から，上記の点が技術常識であったとはいえず，甲１発明において，甲２の記載に鑑みて庫内25差圧の制御を行うに当たり，陰圧で制御を行うことを当業者は容易に想到13 されていないから，上記各文献から，上記の点が技術常識であったとはいえず，甲１発明において，甲２の記載に鑑みて庫内25差圧の制御を行うに当たり，陰圧で制御を行うことを当業者は容易に想到13し得ない。 イ 無効理由２（特許法１２３条１項４号）について訂正明細書の図１９Ｂ及び図１９Ｃにおける「９０ｍｉｎ」のスペクトル図が図１８に示された評価基準のいずれのスペクトルにも該当せず，請求人（原告）の指摘するスペクトル図からは，これらのサンプル量におい5て暴露時間が９０分の場合に核酸を完全に分解することができたかが不明であるとしても，図１９Ｂ及び図１９Ｃに示された他のスペクトル図からは，いずれのサンプル量の場合も，９０分よりも短い時間で核酸を完全に分解できると理解できることから，訂正発明は，その課題を解決し得るといえるものであり，訂正明細書の記載は，サポート要件を満たしている。 10ウ 無効理由３（特許法１２３条１項４号）について請求人（原告）の主張は，訂正発明では処理開始から９０分経過後でも核酸を完全に分解することができない場合があることを前提とするものであるが，その前提に誤りがあることは前記イのとおりであり，訂正明細書の記載は，実施可能要件を満たしている。 15第３ 当事者の主張１ 取消事由１－１（甲１を主引用例とする訂正発明２の進歩性の判断の誤り）について(1) 原告の主張本件審決は，前記第２の４(3)アのとおり判断したが，以下のとおり誤りで20ある。 ア 訂正発明２において「暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすること」に格別の技術的意義はないこと(ア) 訂正明細書の【００２１】には，「本発明に係る核酸分解装置では，フィードバック制御により暴露部 発明２において「暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすること」に格別の技術的意義はないこと(ア) 訂正明細書の【００２１】には，「本発明に係る核酸分解装置では，フィードバック制御により暴露部の暴露空間内における温度，湿度，濃25度の定量的制御を行うことができ，検体の種類によっての短時間で高効14能を発揮する条件を定義することができる。」と記載されているように，訂正発明の技術的意義は，フィードバック制御により暴露部の暴露空間内の温度，湿度及びＭＲガスの濃度の定量的制御を行うことにあり，暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることについては格別の技術的意義はない。そして，訂正明細書には，暴露部の暴露空間内を陽圧とすること5に対して，暴露部の暴露空間内を陰圧とすることによって何らかの顕著な効果を奏することを示す記載もない。そうすると，訂正発明２において，暴露部の暴露空間内を陰圧とする必然性はなく，訂正発明２の暴露部の暴露空間内を陰圧とするか陽圧とするかは当業者が適宜決定し得る事項であるにすぎない。 10本件審決は，前記第２の４(3)ア②のとおり，甲２には「暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にする」との記載がないことから，相違点１の容易想到性を否定するが，上記のとおり，訂正発明２において「暴露部の暴露空間内を陰圧で一定にする」ことについての技術的意義はないから，本件出願日当時，滅菌，殺菌のためのＭＲガス等を処理室内で使用するに15当たり，処理室内の圧力を陰圧とした状態で使用することが技術常識であったか否かにかかわらず，相違点１の容易想到性は明らかである。 (イ) なお，被告は，後記(2)ア(ア)のとおり，訂正発明２は，バイオガスの暴露部としてはチャンバーのような狭い空間を想定している旨主張するが，本件訂正後 点１の容易想到性は明らかである。 (イ) なお，被告は，後記(2)ア(ア)のとおり，訂正発明２は，バイオガスの暴露部としてはチャンバーのような狭い空間を想定している旨主張するが，本件訂正後の請求項２には，バイオガス（ＭＲガス）による処理20を受ける空間については，単に「暴露部」，「暴露空間」，「庫内」等と記載されているにとどまり，当該空間が狭いものである旨の規定は存在せず，被告の上記主張は，訂正発明２に基づかないものであるし，また，具体的にどの程度の容積の空間が「狭い空間」であるか不明であり，「狭い空間」を客観的に特定することはできないから，被告の上記主張は失25当である。 15イ 訂正発明２で暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることは，周知技術に基づいて容易に想到し得ること前記アのとおり，訂正発明２の暴露部の暴露空間を陰圧とする目的は，訂正明細書に記載も示唆もなく，不明であるが，仮に，訂正発明２において暴露部の庫内差圧を陰圧とする目的として，ＭＲガスは人体に有害なホ5ルムアルデヒドを含むものであるため，ＭＲガスの暴露部外への漏えいを防止することにあるとしても，室内に存在する人体に有害な物質が室内から室外へ漏えいすることがないように，室内を室外に対して陰圧に制御することは周知である（甲８２の【０００４】，甲２３の【００２０】，甲８３の【００６４】，甲８４の請求項１，【００１３】，【００３０】）。 10そうすると，甲１発明に甲２発明を組み合わせてフィードバック制御を行うにしても，暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることは，このような周知技術に基づいて当業者であれば容易に想到する。 ウ 滅菌・殺菌のためにＭＲガス等を処理室内で使用するに当たり，処理室内の圧力を陰圧とした状態で使用する場合 圧で一定にすることは，このような周知技術に基づいて当業者であれば容易に想到する。 ウ 滅菌・殺菌のためにＭＲガス等を処理室内で使用するに当たり，処理室内の圧力を陰圧とした状態で使用する場合があることは技術常識である15こと(ア) 本件出願日前に刊行された各文献（甲７，２４，２６，８５，８６，８８ないし９０，９４，９５）によれば，滅菌・殺菌のためにＭＲガス等を処理室内で使用するに当たり，処理室の圧力に対して陰圧とした状態で使用する場合があることは，本件出願日当時の技術常識であり，本20件審決が，前記第２の４(3)ア③のとおり，これに反する判断をしたのは誤りである。 そうすると，甲１発明に甲２の記載を組み合わせてフィードバック制御を行うに当たり，暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることは，本件出願日当時の技術常識を踏まえると，当業者が適宜になし得る事項にす25ぎない。 16(イ) 被告は，後記(2)ウ(ア)のとおり，フィードバック制御が開示されているのは甲２のみであるから，相違点１の容易想到性についてはあくまでも相違点１が甲２に示されているか否かにより判断されるべきであるとも主張する。 しかし，甲２の請求項３には，「…前記室内の圧力を調整する室圧調整5装置とを備え･･･」と記載されており，室内の圧力を調整するに当たり陽圧制御としなければならないと記載されておらず，大気圧を基準とすれば，陽圧制御のほかには陰圧制御しかあり得ないから，甲２には文言として記載はないものの，最良の形態として推奨されている陽圧制御のほかに陰圧制御の態様についても実質的に開示されているといえる。そし10て，当業者は，甲１発明に甲２に開示されている構成を適用することはできるから，相違点 良の形態として推奨されている陽圧制御のほかに陰圧制御の態様についても実質的に開示されているといえる。そし10て，当業者は，甲１発明に甲２に開示されている構成を適用することはできるから，相違点１の構成は容易に想到するものといえるし，さらにいえば，上記のとおり，甲２には陰圧制御が実質的に開示されているから，相違点１の構成のうち「庫内差圧を陰圧で制御する」との点は，実質的な相違点ではない。 15したがって，被告の上記主張は理由がない。 エ 甲２の陽圧制御を陰圧制御とすることに阻害要因があるとの点について被告は，後記(2)エのとおり，甲２の陽圧制御を陰圧制御とすることについて阻害要因がある旨主張する。 確かに，甲２の発明の詳細な説明には，「ここで所定時間，室内の温度，20湿度，ホルムアルデヒドガスの濃度がそれぞれ温度２０～４０℃の範囲，湿度５０～９０％（相対湿度）の範囲，ホルムアルデヒドガス濃度１６０ｐｐｍ以上を維持している間，室圧調整装置により室内の圧力を陽圧力に維持する。」との記載があるが，これはあくまで発明を実施するための最良の形態の例として記載されているのであって，甲２発明を実施するに当た25って必ず陽圧制御としなければならないというわけではないから，陰圧制17御が積極的に排除され，否定され，回避すべき，あるいは適用があり得ないといった事情は存在しない。 オ 小括以上によれば，本件審決における相違点１の容易想到性の判断には誤りがあるから，本件審決は取り消されるべきである。 5(2) 被告の主張ア 訂正発明２の技術的意義の認定判断の誤りについて(ア) 訂正発明２は，バイオガスの暴露部はチャンバーのような狭い空間を想定している べきである。 5(2) 被告の主張ア 訂正発明２の技術的意義の認定判断の誤りについて(ア) 訂正発明２は，バイオガスの暴露部はチャンバーのような狭い空間を想定している（例えば，【００７７】では１㎥以内。狭い空間であることは「『庫内』差圧」という用語からも読み取ることができる。）。バイオ10ガス発生部では，安定した自己反応（メタノールガスの触媒燃焼反応）により反応温度を維持している（【００５１】，【００５２】，【００７２】等）ところ，暴露対象は，検体や精密機器等であり（【０２０１】，【０２１１】），暴露部の温度，湿度，バイオガス濃度，庫内差圧については細かな制御が必要となる。 15そこで，訂正発明２では，フィードバック制御を行っており，庫内ガス濃度情報及び庫内差圧情報という２つの情報を基に，生成ガス量及び排気量を調整し，庫内ガス濃度と庫内差圧の両者を一定にするという制御を行い，このフィードバック制御により暴露部の暴露空間内における温度，湿度，濃度，庫内差圧の定量的制御を行うことができ，検体の種20類によって短時間で高効能を発揮する条件を定義することができる（【００２１】，【０１６２】）。 (イ) 原告は，前記(1)アのとおり，訂正発明２の構成要件のうち，「暴露部の庫内差圧を陰圧で一定」という部分のみを取り上げてその技術的意義を主張しているが，訂正発明２は，前記(ア)のとおりフィードバック制25御を行うことによって暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にしている構成18を採用しており，その点に技術的意義が存在するから，原告の主張は理由がない。 イ 訂正発明２で暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることは，周知技術に基づいて容易に想到し得るとの点について原告は，前 の点に技術的意義が存在するから，原告の主張は理由がない。 イ 訂正発明２で暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることは，周知技術に基づいて容易に想到し得るとの点について原告は，前記(1)イのとおり主張するが，訂正発明２における「暴露部の5庫内差圧を陰圧で一定」との技術的意義は，フィードバック制御を行う構成と一体として判断されるべきであり，フィードバック制御により暴露部の暴露空間内における温度，湿度，濃度，庫内差圧の定量的制御を行うことができ，検体の種類によって短時間で高効能を発揮する条件を定義することができるものであることは，前記アのとおりである。 10そして，原告が挙げる甲２３及び８２は，バイオハザードやケミカルハザード対策施設で室内を陰圧にしてバイオハザード源やケミカルハザード源の外部漏洩を防止するものであり，甲８３及び８４は，オゾン等の滅菌性ガスにより室内を滅菌する際に対象室内を陰圧にすることのみを目的とするものであって，訂正発明２のようにフィードバック制御により暴15露部の暴露空間内における庫内差圧を定量的に制御することによって，短時間で高効能を発揮する条件を定義するものではなく，庫内ガス濃度情報及び庫内差圧情報という２つの情報を基に生成ガス量及び排気量を調整し，庫内ガス濃度と庫内差圧の両者を一定にする構成については，これらの文献には記載も示唆もない。 20そうすると，訂正発明２は，ガスの暴露部からの漏えい防止のためという目的にとどまらないから，原告の挙げる各文献（甲２３，８２ないし８４）から，訂正発明２の構成を当業者が容易に想到し得たとはいえない。 ウ 滅菌・殺菌のためにＭＲガス等を処理室内で使用するに当たり，処理室内の圧力を陰圧とした状態で使用する場合があることは技 ４）から，訂正発明２の構成を当業者が容易に想到し得たとはいえない。 ウ 滅菌・殺菌のためにＭＲガス等を処理室内で使用するに当たり，処理室内の圧力を陰圧とした状態で使用する場合があることは技術常識である25との点について19(ア) 前記アのとおり，訂正発明２の容易想到性の判断に当たっては，「暴露部の庫内差圧を陰圧で一定」という部分のみで判断するのではなく，フィードバック制御を行う構成によって「暴露部の庫内差圧を陰圧で一定」にし（同時にバイオガス濃度も一定に制御する。），暴露部内の反応環境を一定に制御するという技術思想の容易想到性で判断されるべきで5ある。そして，こうしたフィードバック制御が開示されているのは甲２のみであり，相違点１の容易想到性についてはあくまでも相違点１が甲２に示されているか否かにより判断されるべきであるところ，甲２は陽圧制御であって陰圧制御に変更することに阻害要因があることは後記エのとおりであるから，相違点１の構成について当業者は容易に想到し得10ない。 原告の挙げる文献（甲７，８５，８６，８８ないし９０）は，いずれも処理室内の圧力を処理室外の圧力に対して陰圧とした状態で使用することは記載されているが，フィードバック制御を行う構成については記載も示唆もないから，これらの記載から訂正発明２が容易想到である15とはいえない。 (イ) なお，甲２４について，原告が指摘する箇所（請求項２，【００１４】，【００１８】，【００１９】）は，ホルマリンガス供給前であり，ガス供給時の状態に関する記載はなく，また，ガスの供給量がガスの排気量を上回れば処理室内の差圧は陽圧となる傾向があり，必ずしも陰圧となるわ20けではなく，同文献がＭＲガスを陰圧下で使用して滅菌を行うことを の状態に関する記載はなく，また，ガスの供給量がガスの排気量を上回れば処理室内の差圧は陽圧となる傾向があり，必ずしも陰圧となるわ20けではなく，同文献がＭＲガスを陰圧下で使用して滅菌を行うことを示すものではない。また，甲２６について，原告が指摘する箇所（請求項９，【００２４】，【００２５】，【００２７】，【００２９】）は，減圧・ＭＲガス発生モードに関する記載であり，滅菌モードではなく，また，陰圧に制御すると記載されているわけでもない。 25エ 甲２に記載された室圧調整装置における庫内差圧を陰圧に制御すること20には阻害要因があること甲２には，「ここで所定時間，室内の温度，湿度，ホルムアルデヒドガスの濃度がそれぞれ温度２０～４０℃の範囲，湿度５０～９０％（相対湿度）の範囲，ホルムアルデヒドガス濃度１６０ｐｐｍ以上を維持している間，室内調整装置により室内の圧力を陽圧力に維持する。即ち，図３に示すフ5ローチャートに示す処理により，室内を陽圧力（１０～２０Ｐａ）に維持する。なお，このフローチャートに基づく制御は，コントロールユニット５８により微小時間間隔ごとに繰り返して行われる。また，陽圧力とは，（室内圧力）－（室外圧力）が正の値を示す場合をいう。」（１５頁２６行～１６頁３行）と記載されている。このように，甲２には，「室内の圧力を10陽圧力に維持する。」と断定的に記載されていることから，甲２は陽圧に制御することを目的とするものである。 また，フィードバック制御は，訂正発明２の圧力制御に関していえば，庫内差圧を検出して，制御手段に帰還（フィードバック）し，その情報に基づいて暴露部内の庫内差圧をバイオガスの排気量を制御することによ15り，陰圧で一定にするように厳密に細かく制御することである。 庫内差圧を検出して，制御手段に帰還（フィードバック）し，その情報に基づいて暴露部内の庫内差圧をバイオガスの排気量を制御することによ15り，陰圧で一定にするように厳密に細かく制御することである。このように，フィードバック制御を行う場合には，通常の圧力制御よりも厳密で細かい制御を行うことから，その制御される圧力値が陽圧でも陰圧でもよいということはあり得ないところ，上記のとおり，甲２には，陽圧（１０～２０Ｐａ）で制御すると記載されており，その技術的意義は，本件審決で20認定されたとおり，滅菌処理中の処理室内への室外空気の侵入を防止して処理室内の清浄度を維持することある。そして，甲２に記載された陽圧制御を陰圧制御とすると，甲２の被殺菌空間１００への室外空気の侵入を防止することができないことになり，処理室内の清浄度を維持するという上記技術的意義を損なうことになるから，甲２に記載された室圧調整装置に25おける庫内差圧の陽圧制御を陰圧制御に変更することには阻害要因があ21る。 オ 小括以上によれば，訂正発明２は，甲１発明，甲２に記載された発明及び周知技術ないし技術常識から容易に想到し得たものではないから，これと同旨の本件審決の判断に誤りはない。 5したがって，原告主張の取消事由１－１は理由がない。 ２ 取消事由１－２（甲１を主引用例とする訂正発明３及び４の進歩性の判断の誤り）について(1) 原告の主張ア 訂正発明３は，訂正発明２のバイオガス発生部から発生するガスを，メ10タノール，ホルムアルデヒド，一酸化炭素，二酸化炭素，水素，酸素の成分を少なくとも含有した活性酸素とフリーラジカルからなる複合ラジカルガスと特定するものであるところ，甲１２には，メタノールを気化させて触媒 ，ホルムアルデヒド，一酸化炭素，二酸化炭素，水素，酸素の成分を少なくとも含有した活性酸素とフリーラジカルからなる複合ラジカルガスと特定するものであるところ，甲１２には，メタノールを気化させて触媒と接触させることにより，メタノール，ホルムアルデヒド，一酸化炭素，二酸化炭素，酸素，過酸化水素や各種ラジカルガスが発生すること15が記載されており（【０００６】ないし【０００９】），訂正発明２において空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して生成するガスを，訂正発明３のように特定することは，当業者であれば格別の創意を要する事項であるとはいえない。 したがって，訂正発明３は，甲１発明に甲２及び甲１２に記載された発20明（必要に応じて技術常識）を組み合わせることにより当業者が容易に想到することができたものである。 イ また，訂正発明４は，訂正発明における触媒の自己反応速度が４００℃～５００℃の範囲内に制御されることを特定するものであるところ，甲１には，「ラジカル化触媒反応の温度を約４５０～５００℃の範囲で変化さ25せることが可能である。」（【００４２】）と記載されているから，このよう22な特定は訂正発明４と甲１発明の相違点とはならない。 したがって，訂正発明４は，甲１発明に甲２に記載された発明（必要に応じて技術常識）を組み合わせることにより，当業者であれば容易に想到することができたものである。 ウ 以上によれば，訂正発明３及び４は当業者が容易に発明することができ5たということはできないとした本件審決の判断は誤りであるから，本件審決は取り消されるべきである。 (2) 被告の主張訂正発明３は訂正発明２を引用する発明であり，訂正発明４は訂正発明３を引用する発明であ いとした本件審決の判断は誤りであるから，本件審決は取り消されるべきである。 (2) 被告の主張訂正発明３は訂正発明２を引用する発明であり，訂正発明４は訂正発明３を引用する発明であるところ，前記１(2)のとおり，訂正発明２は当業者が容10易に発明することができたということはできないから，訂正発明３及び４も当業者が容易に発明することができたものとはいえない。 したがって，これと同旨の本件審決の判断に誤りはなく，原告主張の取消事由１－２は理由がない。 ３ 取消事由２（サポート要件違反の判断の誤り）について15(1) 原告の主張訂正発明は，暴露部の空間内における温度，湿度及びバイオガス（ＭＲガス）濃度の３つの要素をフィードバック制御することによって，短時間で効率的な核酸分解処理を行うという課題の解決を意図するものである。 しかし，訂正明細書においては，訂正発明に係る核酸分解処理装置の試験20結果を示す図１９Ｂ及び１９Ｃに，「９０ｍｉｎ」の時点で核酸の分解が目的とするレベルまで進んでいない状態が示されており，短時間で効率的な核酸分解処理を行うという課題が実現できない場合がある以上，訂正明細書の記載に基づいて，訂正発明の課題を解決できるとは直ちに認識することができない。 25したがって，訂正発明は，訂正明細書の発明の詳細な説明に記載したもの23であるとはいえないから，訂正発明は，サポート要件に反するものではないとした本件審決の判断は誤りである。 (2) 被告の主張訂正明細書の図１９Ｂ及び図１９Ｃの「９０ｍｉｎ」時点のスペクトル図は，核酸の分解が目的とするレベルまで進んでいない状態や外部空間に漂う5核酸が暴露空間内に混入している状態に相当するの 訂正明細書の図１９Ｂ及び図１９Ｃの「９０ｍｉｎ」時点のスペクトル図は，核酸の分解が目的とするレベルまで進んでいない状態や外部空間に漂う5核酸が暴露空間内に混入している状態に相当するのではなく，何らかの理由により測定がうまくいっていないか，あるいはノイズが生じているものといえる。 図１９Ｂ及び図１９Ｃの他の時間のスペクトル図を見れば明らかなように，図１９Ｂの４５℃，２μｌの場合には，「１ｍｉｎ」のスペクトル図から核酸10が完全分解されており，図１９Ｃの３７℃，２μｌの場合でも，「５ｍｉｎ」のスペクトル図から核酸が完全分解されていることを見て取ることができる。 上記のとおり，「１ｍｉｎ」と「５ｍｉｎ」のスペクトル図において，核酸が完全分解されている状態が観測されている以上，その後，２μｌという少ないサンプル量で「９０ｍｉｎ」という長時間後のスペクトル図の１条件で15正確に測定することができなかったとしても，それは測定条件の問題であり，訂正発明が「短時間で効率的な核酸分解処理」を実現することができないということにはならない。 以上によれば，訂正発明は，訂正明細書の発明の詳細な説明に記載したものであるといえるから，訂正発明がサポート要件に違反するものではないと20した本件審決の判断に誤りはない。 したがって，原告主張の取消事由２は理由がない。 ４ 取消事由３（実施可能要件違反の判断の誤り）について(1) 原告の主張前記３(1)のとおり，訂正発明には，「短時間で効率的な核酸分解」を実現25できない場合があるため，訂正発明を用いて核酸分解処理を行うには，何ら24かの所定の処理条件を満たすことが必要であるが，訂正明細書にはそのような条件の記載がないから，当業 酸分解」を実現25できない場合があるため，訂正発明を用いて核酸分解処理を行うには，何ら24かの所定の処理条件を満たすことが必要であるが，訂正明細書にはそのような条件の記載がないから，当業者は過度の試行錯誤を強いられることになる。 そうすると，訂正明細書の発明の詳細な説明の記載は，当業者が訂正発明を実現可能な程度に明確かつ十分なものとはいえないから，実施可能要件に適合しない。 5したがって，これと異なる本件審決の判断は誤りである。 (2) 被告の主張前記３(2)のとおり，訂正明細書の図１９Ｂ及び図１９Ｃの「１ｍｉｎ」と「５ｍｉｎ」のスペクトル図において，核酸が完全分解されている状態が観測されている以上，その後に２μｌという少ないサンプル量で「９０ｍｉｎ」10という長時間後のスペクトル図の１条件で正確に測定することができなかったとしても，それは測定条件の問題であって，訂正発明が「短時間で効率的な核酸分解」を実現できないことを示すものではない。 したがって，本件審決の実施可能要件の判断に誤りはなく，原告主張の取消事由３は理由がない。 15第４ 当裁判所の判断１ 訂正明細書の記載事項について訂正明細書には，別紙１のとおりの記載があり，この記載事項によれば，訂正明細書には，訂正発明に関し，次の事項が開示されているものと認められる。 (1) ラジカル種メタノール由来の気相物質（ＭＲガス）を用いて核酸分解処理20を行う従来の方法には，５０℃以上の温度領域において，６０分以上の暴露時間を要し，かつ，ホルムアルデヒド成分の濃度が２０００ｐｐｍ以上での効果効能が発揮されるものがあったが，現実的な実用としては，常温から体温領域が求められており，かつ，検体の種類に対応した 上の暴露時間を要し，かつ，ホルムアルデヒド成分の濃度が２０００ｐｐｍ以上での効果効能が発揮されるものがあったが，現実的な実用としては，常温から体温領域が求められており，かつ，検体の種類に対応した短時間での効果効能を発揮することが求められていたという課題があった（【０００９】，【００１25１】，【００１２】）。 25(2) 「本発明」は，検体の種類に対応した短時間で高効能を発揮する条件を定義することが可能な核酸分解処理装置を提供することを目的とするものであり（【００１３】），前記課題を解決するための手段として，メタノールガス発生部と，空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して少なくともメタノールに由来する活性種を含み生成される複合ガスを発生する5バイオガス発生部と，バイオガス発生部における生成ガス量を供給空気量とメタノール量で制御する生成ガス量制御手段と，バイオガス発生部により発生したバイオガスが供給される暴露部と，暴露空間内の温度を制御する手段と，暴露空間内の湿度を制御する手段と，暴露部に供給されたバイオガスを排気する排気処理部と，暴露部からのバイオガスの排気量を制御する手段と，10暴露部におけるバイオガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定する手段と，臭いを検出又は測定する手段を備え，ホルムアルデヒド成分濃度測定手段による測定結果として得られるガス濃度情報が生成ガス量制御手段に帰還され，バイオガス発生部において，生成ガス量制御手段により生成ガス量が供給空気量とメタノール量で制御されるとともに，排気量制御手段により暴露部か15らのバイオガスの排気量を制御することにより，暴露部の庫内ガス濃度を一定にし，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因して生 により暴露部か15らのバイオガスの排気量を制御することにより，暴露部の庫内ガス濃度を一定にし，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出する手段を備え，庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排気量制御手段により暴露部からのバイオガスの排20気量を制御することにより，暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にする構成（訂正発明２の構成）を採用した（【００１６】，【００１７】）。 この構成により，「本発明」は，フィードバック制御により暴露部の暴露空間内における温度，湿度，濃度の定量的制御を行うことができ，検体の種類に対応した短時間で高効能を発揮する条件を定義することができるという効25果を奏する（【００２１】，【０１９６】）。 26２ 甲１の記載事項について甲１には，別紙２のとおりの記載があり，この記載によれば，甲１発明に関し，次のような事項が開示されているものと認められる。 (1) １５０～１８０ｍｍ程度の大きさを有する触媒部を備えた従来のＭＲガス発生装置では，メタノールガスのラジカル化反応に必要な温度を一定に維5持させることが難しく，一定の濃度を有するＭＲガスを発生させることができなかったため，加熱用の電熱ヒータを備える必要があったが，触媒部は必然的に大きくなってしまい，利便性を高めるためのＭＲガス発生装置自体の小型化を困難にしていたという問題点があった（【０００６】，【０００７】）。 (2) 「本発明」は，このような従来の問題点に鑑みて提案されたものであり，10ラジカル化のための触媒反応温度を一定に保ち，安定した濃度の滅菌ガスを発生させるとともに，小型化が可能な滅菌ガス発生装 2) 「本発明」は，このような従来の問題点に鑑みて提案されたものであり，10ラジカル化のための触媒反応温度を一定に保ち，安定した濃度の滅菌ガスを発生させるとともに，小型化が可能な滅菌ガス発生装置を提供することを目的とする（【０００８】）。 本件発明者らは，ハニカム構造を有する触媒を使用することにより，ラジカル化のための触媒反応温度を一定に維持することが可能になることを見出15し，「本発明」を完成するに至った（【０００９】）。 「本発明」は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒を使用する構成を採用したことにより，触媒部における表面積が増加して反応効率が向上し，触媒反応温度を一定に維持した自己反応を生じさせることができ，安定した濃度のＭＲガスを発生させることができ，さらには，触媒20部における反応効率の向上により，触媒部を小型化することができるとともに，滅菌処理装置自体を小型化することを可能にし，利便性を高めるという効果を奏する（【００１３】）。 ３ 甲２の記載事項について甲２には，別紙３のとおりの記載があり，この記載事項によれば，甲２に関25し，次のような事項が開示されているものと認められる。 27(1) ホルムアルデヒドガス殺菌装置において，十分に保証可能な殺菌効果を得るためには，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度を制御し，また，被殺菌空間は密閉された空間（室）となるため，室内圧力を制御する必要も生じる（別紙３の２(2)）。 「本発明」は，上記課題を解決するための手段として，密閉された室内に5ホルムアルデヒドガスを供給すると共に排出するホルムアルデヒドガス供給排出装置と，室内の圧力を調整する室圧調整装置とを備え，ホルムアルデヒドガス供給排出装置は， の手段として，密閉された室内に5ホルムアルデヒドガスを供給すると共に排出するホルムアルデヒドガス供給排出装置と，室内の圧力を調整する室圧調整装置とを備え，ホルムアルデヒドガス供給排出装置は，ホルムアルデヒドガスの発生器と，ホルムアルデヒドガスの湿度調節器と，ホルムアルデヒドガスの温度調節器と，ホルムアルデヒドガスを室内へ搬送して導入するガス搬送器と，室内からの排ガスを処10理する排ガス処理器と，排ガスの排出器と，室内のホルムアルデヒドガスの濃度，湿度及び温度を所定の濃度，湿度及び温度に制御する制御部とを有し，室圧調整装置は，室内に室外の空気を給気するユニットと，室内の空気を室外に排気するユニットと，室内と室外との圧力差を検出する圧力差検出手段と，これによる検出値に基づいて給気ユニット及び排気ユニットを制御する15手段と，前記検出値に基づいて前記室圧の制御状況を出力する手段とを有する構成を採用した。 この構成により，「本発明」は，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ所定の値に制御し，かつ，室内温度の上昇により室内の空気が膨張したような場合においても室圧を一定に保つことができるので，20十分に保証可能な殺菌効果を得られるという効果を奏する（以上，別紙３の２(3)，(4)）。 (2) 「本発明」の第２の実施の形態（図２）は，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４及び室圧調整装置６を備えて構成されるホルムアルデヒドガス殺菌装置であり，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４は，濃度センサ１２，湿25度センサ１４，温度センサ１６により得られた被殺菌空間１００内のホルム28アルデヒドガス濃度，湿度，温度の値に基づいて，ホルムアルデヒドガス発生器３６，温度調節器３４，湿度調節器３２，ポンプ２６及び ンサ１４，温度センサ１６により得られた被殺菌空間１００内のホルム28アルデヒドガス濃度，湿度，温度の値に基づいて，ホルムアルデヒドガス発生器３６，温度調節器３４，湿度調節器３２，ポンプ２６及び２８を制御する制御器２４を備え，また，室圧調整装置６は，室内と室外との圧力差を検出する微差圧検出器５６により検出された検出値に基づいて給気ユニット５２及び排気ユニット５４を制御するコントロールユニット５８を備えている5（別紙３の２(5)，(7)）。 第２の実施の形態に係るホルムアルデヒドガス殺菌装置は，「所定時間，室内の温度，湿度，ホルムアルデヒドガスの濃度がそれぞれ温度２０～４０℃の範囲，湿度５０～９０％（相対湿度）の範囲，ホルムアルデヒドガス濃度１６０ｐｐｍ以上を維持している間」，室圧調整装置６のコントロールユニ10ット５８により室内の圧力を陽圧力に維持している（別紙３の２(9)）。 ４ 本件出願日当時の技術常識等について(1)ア 本件出願日前に頒布された甲２３，甲８２ないし８４には，それぞれ別紙４のような記載がある。 イ 上記アの各文献における記載を総合すると，本件出願日当時，バイオハ15ザード施設やケミカルハザード施設等，人体に有害な物質が室内に存在する場合には，室内から室外へその物質が漏えいすることがないように，室内を室外に対して陰圧に制御することや，人体に有害なオゾンガスを用いて室内の滅菌を行う場合には，オゾンガスが室内から室外へ漏洩することがないように，室内を室外に対して陰圧に制御することは，周知の技術20であったものと認められる。 (2)ア 本件出願日前に頒布された甲８１，甲８５，甲８８，甲９４及び甲９５には，それぞれ別紙５のような記載がある。 イ 上記アの各文献にお 術20であったものと認められる。 (2)ア 本件出願日前に頒布された甲８１，甲８５，甲８８，甲９４及び甲９５には，それぞれ別紙５のような記載がある。 イ 上記アの各文献における記載を総合すると，本件出願日当時，ホルムアルデヒドガスは，人体に有毒であることは周知であり，また，滅菌・殺菌25のためにホルムアルデヒドガスを処理室内で使用するに当たり，処理室内29の圧力を処理室外の圧力に対して陰圧とした状態で使用する場合があることは，本件出願日当時の技術常識であったと認められる。 ５ 取消事由１－１（甲１を主引用例とする訂正発明２の進歩性の判断の誤り）について(1) 特許無効審判事件についての審決の取消訴訟において審決取消しの判決5が確定したときは，審判官は特許法１８１条２項の規定に従い当該審判事件について更に審理を行い，審決をすることとなるが，審決取消訴訟は行政事件訴訟法の適用を受けるから，再度の審理ないし審決には，同法３３条１項の規定により，上記取消判決の拘束力が及び，この拘束力は，判決主文が導き出されるのに必要な事実認定及び法律判断にわたるものであるから，取消10判決の上記認定判断に抵触する認定判断をすることは許されず（最高裁第三小法廷判決平成４年４月２８日判決・民集４６巻４号２４５頁参照），その審判を不服とする審決取消訴訟においても，これを前提に判断されるべきことになる。 前記第２の３(2)のとおり，一次判決は，①甲２における「本発明」の第２15の実施の形態の「微差圧検出器５６」，「コントロールユニット５８」及び「排気量調整電磁弁７４及び送風機８２」は，それぞれ，訂正前発明２における「庫内差圧手段」，「上記庫内差圧検出手段による検出結果による検出結果から得られる庫内差圧 ，「コントロールユニット５８」及び「排気量調整電磁弁７４及び送風機８２」は，それぞれ，訂正前発明２における「庫内差圧手段」，「上記庫内差圧検出手段による検出結果による検出結果から得られる庫内差圧情報が･･･帰還され」る「上記排気量制御手段」及び「上記排気量制御手段により制御される排気処理手段」に相当するものと認めら20れるから，甲２には，相違点２に係る本件訂正前の請求項２の発明の構成が開示されているといえる，②甲１及び甲２に接した当業者は，甲１発明において安定した濃度の滅菌ガスを発生させるとともに，十分に保証可能な殺菌効果を得るために甲２に記載の被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ所定の値に制御し，かつ，被殺菌空間の室圧を一定に25保つための構成を適用する動機づけがあると認められる，③したがって，当30業者は，甲１及び甲２に基づいて，甲１発明に甲２に記載の上記構成を適用して相違点２に係る本件訂正前の請求項２に係る発明の構成を容易に想到し得たものと判断した。 そして，被告は，一次判決の確定後の審判手続において，前記第２の２のとおり，一次訂正の内容に加えて更に請求項２に「上記暴露部の庫内差圧を5陰圧で一定にする」（二重下線は本件訂正箇所を示す。）との訂正を行い，本件審決は，前記第２の４(2)イのとおり，一次審決の相違点１（ただし，本件審決が認定した相違点２を除く。）及び２の構成を合わせて相違点１とし，本件訂正により訂正発明２に加わった構成である「暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることを特徴とする」点を同相違点に加えた。 10以上の経緯を踏まえると，訂正発明２の進歩性の判断に関しては，甲２には，一次審決が認定した相違点２の構成が開示されていることを前提として，さらに，「暴露部の庫 点を同相違点に加えた。 10以上の経緯を踏まえると，訂正発明２の進歩性の判断に関しては，甲２には，一次審決が認定した相違点２の構成が開示されていることを前提として，さらに，「暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にする」という訂正発明２の構成が容易想到といえるかについて判断されるべきことになる。 以下，これを前提として，検討する。 15(2) 甲２の開示事項について甲２の発明の詳細な説明には，①甲２発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置は，室内と室外との圧力差を検出する圧力差検出手段と，圧力差検出手段により検出された検出値に基づいて給気ユニットと排気ユニットを制御する制御手段を有しており，こうした室内調整装置を備えるため，室内温度の上20昇により室内の空気が膨張したような場合においても，室内を一定に保つことができる（別紙３の２(4)）との記載があり，②「発明を実施するための最良の形態」の１つである「第２の実施の形態」として，室内と室外との圧力差を検出する微差圧検出器５６，微差圧検出器５６により検出された検出値に基づいて給気ユニット５２及び排気ユニット５４を制御するコントロール25ユニット５８を備え，コントロールユニット５８は，微差圧検出器５６によ31り検出された検出値に基づいて，給気量調整電磁弁６２，送風機６６，排気量調整電磁弁７４及び送風機８２等の制御を行う構成が開示され，さらに，湿度センサ１４，温度センサ１６により得られた室内の温度及び湿度がそれぞれ所定の温度２０～４０℃，湿度の範囲５０～９０％（相対湿度）の範囲になるように制御器２４で湿度調整器３２及び温度調整器３４で調整し，ホ5ルムアルデヒドガス濃度が１６０ｐｐｍ以上で維持するようにホルムアルデヒドガス発生器３６及びポンプ２６で調整して所定の時間 になるように制御器２４で湿度調整器３２及び温度調整器３４で調整し，ホ5ルムアルデヒドガス濃度が１６０ｐｐｍ以上で維持するようにホルムアルデヒドガス発生器３６及びポンプ２６で調整して所定の時間を維持し，さらに，所定の時間，室内の温度，湿度，ホルムアルデヒドガスの濃度を上記の数値で維持している間，室圧調整装置により室内の圧力を陽圧力（１０～２０Ｐａ）に維持する態様が開示され，その上で，室圧制御装置６により室内と室10外の圧力差を常時１０～２０Ｐａに維持することができるため，ホルムアルデヒドガスを用いて室内の殺菌を行う場合に，室内温度の上昇により室内空気の体積が増加した場合においても，ホルムアルデヒドガスがエアー処理装置７６で処理された後に排出されるため，ホルムアルデヒドガスが未処理のまま室外に漏れ出すことを防止することができる（別紙３の２(7)ないし(9)）15旨の記載がある。 このように，甲２において開示されている，被殺菌空間である室内を室圧調整装置により陽圧に維持する構成は，あくまで第２の実施の形態についてのものであることに加え，甲２の特許請求の範囲（請求項３）には，室内の圧力を調整する室内調整装置について，室内と室外の圧力差を検出する圧力20差検出手段と前記圧力差検出手段により検出された検出値に基づいて制御手段を介して室圧を調整するとの発明特定事項を有するに止まり，被殺菌空間を陽圧で制御するとは特定されていないことからすると，甲２発明の技術的意義は，前記３(1)のとおり，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ所定の値に制御し，かつ，室内温度の上昇により室内の25空気が膨張した場合においても室圧を一定に保つことができ，十分に保証可32能な殺菌効果が得られるという効果を奏すること 度，温度をそれぞれ所定の値に制御し，かつ，室内温度の上昇により室内の25空気が膨張した場合においても室圧を一定に保つことができ，十分に保証可32能な殺菌効果が得られるという効果を奏することにあって，室圧調整装置により室内の圧力を陽圧力（１０～２０Ｐａ）に維持する態様は，あくまで実施形態の１つであるにすぎないというべきである。 そして，甲２における「本発明」の第２の実施の形態の「微差圧検出器５６」，「コントロールユニット５８」及び「排気量調整電磁弁７４及び送風機5８２」は，それぞれ，訂正前発明２における「庫内差圧手段」，「上記庫内差圧検出手段による検出結果による検出結果から得られる庫内差圧情報が･･･帰還され」る「上記排気量制御手段」及び「上記排気量制御手段により制御される排気処理手段」に相当するとの一次判決の説示を踏まえると，甲２には，庫内差圧を検出する庫内差圧検出手段を備えており，庫内差圧検出手段10による検出結果から得られる上記庫内差圧情報が排気量制御手段に帰還され，上記排気量制御手段により被殺菌空間から排気するホルムアルデヒドガスの排気量を制御することにより，被殺菌空間（庫内）の圧力を一定に維持することが開示されているものと認められる。 (3) 相違点１の容易想到性について15前記２(2)のとおり，甲１には，ラジカル化のための触媒反応温度を一定に保ち，安定した濃度のＭＲガスを発生させる滅菌ガス発生装置を提供することを目的とすることについての開示があり，また，前記３(1)のとおり，甲２には，甲２発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置の構成を採用することにより，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ所定20の値に制御し，かつ，室内温度の上昇により室内の空気が膨張したような場 ホルムアルデヒドガス殺菌装置の構成を採用することにより，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ所定20の値に制御し，かつ，室内温度の上昇により室内の空気が膨張したような場合においても室圧を一定に保つことができるので，十分に保証可能な殺菌効果が得られるという効果を奏することの開示がある。そうすると，甲１及び甲２に接した当業者は，甲１発明において安定した濃度の殺菌ガスを発生させるとともに，十分に保証可能な殺菌効果を得るために，甲２記載の被殺菌25空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ所定の値に制御33し，かつ，被殺菌空間の室圧を一定に保つための構成を適用する動機づけがある。 そうすると，本件出願日当時，バイオハザード施設やケミカルハザード施設等，人体に有害な物質が室内に存在する場合には，室内から室外へその物質が漏えいすることがないように，室内を室外に対して陰圧に制御すること5や，人体に有害なオゾンガスを用いて室内の滅菌を行う場合には，オゾンガスが室内から室外へ漏洩することがないように，室内を室外に対して陰圧に制御することは，周知の技術であり（前記４(1)），また，滅菌・殺菌のためにホルムアルデヒドガスを使用するに当たり，処理室内を処理室外の圧力に対して陰圧とした状態で使用する場合もあることは技術常識である（同(2)）10から，甲１発明に甲２に開示された事項を適用するに当たり，被殺菌空間の状況や目的を踏まえ，こうした周知技術ないし技術常識を参酌して，甲２の被殺菌空間内の圧力を陰圧で維持することも当業者であれば容易に想到し得たものということができる。そして，甲１発明と甲２に開示された事項に周知技術ないし技術常識を参酌して適用した結果，被殺菌空間内を「庫内差圧15を陰圧で」維持 ることも当業者であれば容易に想到し得たものということができる。そして，甲１発明と甲２に開示された事項に周知技術ないし技術常識を参酌して適用した結果，被殺菌空間内を「庫内差圧15を陰圧で」維持する構成としたことによって，当業者が予測し得ない顕著な効果を奏すると認めるに足りる証拠はない。 したがって，甲１及び甲２に記載された事項と周知技術ないし技術常識を踏まえれば，相違点１のうち「暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にする」という訂正発明２の構成についても，進歩性を認めることはできない。 20(4) 被告の主張についてア 被告は，前記第３の１(2)アないしウのとおり，訂正発明２においては，バイオガスの暴露部はチャンバーのような狭い空間を想定しており，暴露部の温度，湿度，バイオガス濃度，庫内差圧については細かな制御が必要であるところ，庫内ガス濃度情報及び庫内差圧情報という２つの情報を基25に，生成ガス及び排気量を調整し，庫内ガス濃度と庫内差圧の両者を一定34にするという制御を行い，このフィードバック制御により暴露部の暴露空間内における温度，湿度，濃度，庫内差圧の定量的制御を行うことができ，こうしたフィードバック制御によって暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にしている構成を採用しているから，「暴露部の庫内差圧を陰圧で一定」にすることの技術的意義は，こうしたフィードバック制御を行う構成と一体と5して判断されるべきであり，原告の挙げる文献には，オゾン等の滅菌性ガスにより室内を滅菌する際に対象室内を陰圧にすることや，滅菌・殺菌のためにＭＲガス等を処理室内で使用するに当たり処理室内の圧力を室外の圧力に対して陰圧とした状態にすることが記載されているにすぎず，訂正発明２のようにフィードバック制御を行う旨の記載も示唆もない旨主10 にＭＲガス等を処理室内で使用するに当たり処理室内の圧力を室外の圧力に対して陰圧とした状態にすることが記載されているにすぎず，訂正発明２のようにフィードバック制御を行う旨の記載も示唆もない旨主10張する。 しかし，甲２には，訂正発明２の構成のうち一次審決が認定した相違点２の構成（すなわち，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による滅菌タンク内のＭＲガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出する庫内差圧検出手段を備え，上記庫内差圧検出手段による検出結果15から得られる庫内差圧情報が上記排気制御処理手段に帰還され，上記排気量制御手段により滅菌タンク内から排気するＭＲガスの排気量を制御することにより，滅菌タンク内の庫内差圧を一定にするという構成）が開示されていることは，一次判決が認定するとおりであり，この点の判断に拘束力が生じることは前記(1)のとおりである。そして，甲２には，訂正発明20２の技術的意義として被告が主張するところのフィードバック制御が開示されていることは，被告も認めるところ（前記第３の１(2)ウ(ア)参照），前記(2)のとおり，甲２には被殺菌空間（庫内）の圧力を一定に維持する制御が開示されており，周知技術（前記４(1)）ないし技術常識（同(2)）を参酌してその圧力制御を陰圧で一定に維持する制御として甲１発明に適25用すれば，相違点１の「庫内差圧を陰圧で一定に制御する」構成に想到す35ることは前記(3)のとおりである。 したがって，被告の上記主張は理由がない。 イ 被告は，前記第３の１(2)エのとおり，甲２は，陽圧に制御することを目的とするものであり，その技術的意義は，本件審決で認定されたとおり，滅菌処理中の処理室内への室外空気の侵入を防止して処理室内の清浄度5を維 ３の１(2)エのとおり，甲２は，陽圧に制御することを目的とするものであり，その技術的意義は，本件審決で認定されたとおり，滅菌処理中の処理室内への室外空気の侵入を防止して処理室内の清浄度5を維持することにあり，甲２に記載された陽圧制御を陰圧制御とすると，甲２の被殺菌空間内の清浄度を維持するという技術的意義を損なうから，甲２における庫内差圧を陽圧制御から陰圧制御とすることには阻害要因がある旨主張する。 しかし，甲２には，室圧調整装置により室内の圧力を陽圧力（１０～２10０Ｐａ）に維持する態様についての記載はあるものの，それはあくまで発明の実施形態の１つとして記載されているにすぎず，甲２に係る装置の技術的意義は，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ所定の値に制御し，かつ，室内温度の上昇により室内の空気が膨張した場合においても室圧を一定に保つことができ，十分に保証可能な殺菌15効果が得られるという効果を奏することにあることは前記(2)のとおりであるから，こうした技術的意義からすると，甲２の室圧調整装置において庫内差圧を陰圧に制御することに阻害要因はない。 なお，本件審決は，「甲第２３号証は，その出願日が甲２に係る特許出願の優先日と一致する，同一発明者の別の特許出願に係る公開公報であり，20両者は，ホルマリンガス等を滅菌に利用する装置の処理室内の圧力を陽圧に制御しているため，その基本的な着想が共通していると強く推認できる」と判断するが，人体に有害なオゾンガスを利用して殺菌する場合にはオゾンガスが室内から室外へ漏えいすることがないように，室内を室外に対して陰圧に制御することは周知技術である（前記４(1)イ）ところ，同じく人25体に有害なホルムアルデヒドガス（ホルマリンガス）を用いた殺菌装置に 室外へ漏えいすることがないように，室内を室外に対して陰圧に制御することは周知技術である（前記４(1)イ）ところ，同じく人25体に有害なホルムアルデヒドガス（ホルマリンガス）を用いた殺菌装置に36関して，甲２自体には，室内調整装置を陽圧に制御する技術的意義について記載も示唆もないにもかかわらず，甲２と同一発明者による甲２の優先日と同日の出願であるという理由で，別の特許出願に係る甲２３に記載された陽圧制御の技術的意義をもって甲２の陽圧制御の技術的意義であると認定することはできないから，甲２３の室圧制御装置が陽圧制御装置を5している場合における技術的意義をもって甲２の装置に係る技術的意義であると認定した本件審決の判断は誤りというほかない。 したがって，本件審決が認定した甲２発明の技術的意義を論拠として，甲２発明の陽圧制御を陰圧制御とすることに阻害要因があるとする被告の上記主張は理由がない。 10(5) 小括以上によれば，相違点１に係る訂正発明２の構成は，当業者が容易に想到することができたものと認められる。 したがって，本件審決の判断は誤りであるから，原告主張の取消事由１－１は理由がある。 15６ 取消事由１－２（甲１を主引用例とする訂正発明３及び４の進歩性の判断の誤り）について本件審決は，訂正発明３は訂正発明２を引用する発明であり，また，訂正発明４は訂正発明３を引用する発明であるところ，訂正発明２について当業者が容易に発明をすることができたということはできないので，訂正発明３及び４20についても当業者が容易に発明をすることができたということはできない旨判断した。 しかしながら，前記５のとおり，本件審決のした訂正発明２の容易想到性の判断に誤りがあるところ，訂正発明２につき容易想到性が認 者が容易に発明をすることができたということはできない旨判断した。 しかしながら，前記５のとおり，本件審決のした訂正発明２の容易想到性の判断に誤りがあるところ，訂正発明２につき容易想到性が認められる以上は，同容易想到性が認められないことのみを理由として訂正発明３及び４の容易想25到性を否定した本件審決の上記判断は，誤りである。 37したがって，原告主張の取消事由１－２は理由がある。 ７ 結論以上によれば，原告主張の取消事由１－１及び１－２は理由があるから，その他の点について判断するまでもなく，本件審決は取り消されるべきである。 よって，主文のとおり判決する。 5 知的財産高等裁判所第４部 裁判長裁判官菅 野 雅 之10 裁判官中 村 恭 15 裁判官岡 山 忠 広 38（別紙１）【発明の詳細な説明】【技術分野】【０００１】本発明は，メタノールに由来する活性種を含むバイオガスにより核酸分解処理を5行う核酸分解処理装置に関する。 【背景技術】【０００２】生化学等に係る試験研究等を行うに当り，水に難溶性の高分子である核酸が，用いている容器等の固体の表面に不必要に付着していたり反応液等の液体中に不必要10に混入していたり，また，細胞が，容器等の固体や反応等の液体の表面に不必要に付着していたり，反応液等の液体中に不必要に混入していたりすれば，それが，試験研究等に重大な悪影響を及ぼすおそれがある 0に混入していたり，また，細胞が，容器等の固体や反応等の液体の表面に不必要に付着していたり，反応液等の液体中に不必要に混入していたりすれば，それが，試験研究等に重大な悪影響を及ぼすおそれがある。 【０００３】メタノールから触媒反応により発生するラジカル性（メタノールラジカル：ＭＲ）15ガスを利用した滅菌システムは，これまで医療器具等の滅菌に用いるガスとして多用されていたエチレンオキサイドガス（ＥＯＧ）やオゾン等以上の殺菌力を持ち，残留性，腐食性がないことが確認されており，浸透性や拡散性も優れていることから現在多くの分野において注目されている。 【０００４】20バイオガスとは，メタノールから触媒により生じた強力な殺菌効果をもつラジカル性複合ガスのことであり，浸透性が高く，大気圧のままでも被滅菌物の内部まで殺菌ができる。接触性殺菌のミストでないことから，金属の腐食やプラスチック等の劣化（腐食性）が無く，非滅菌物の素材を選ばず，さらに，被滅菌物に残留しない（残留性）などの優れた特質があり，拡散性も広く隅々まで満遍なく暴露が可能25であり，細かな隙間まで浸透し，精密機器や電子機器等の通電稼動状態においても39暴露が可能であり，高い安全性を有する。 【０００９】また，液相以外の状態（非ウェット状態）で，核酸を有効に分解する方法として，ヒドロキシメチルラジカル，ヒドロペルオキシラジカル，水素ラジカル，ヒドロキシルラジカルを少なくとも含むラジカル種メタノール由来の気相物質（ＭＲガス）5を用いて，核酸が存続可能な温度条件下において，非可逆的に核酸を分解し，不活化する方法が提案されている（例えば，特許文献３参照）。 【発明の概要】【発明が解決しようとする課題】【００１１】10しかしながら，特許 条件下において，非可逆的に核酸を分解し，不活化する方法が提案されている（例えば，特許文献３参照）。 【発明の概要】【発明が解決しようとする課題】【００１１】10しかしながら，特許文献３で提案されている非ウエット型の核酸分解剤を用いて核酸を分解する従来の方法では，５０℃以上の温度領域において，６０分以上の暴露時間を要し，且つ，ホルムアルデヒド成分の濃度が２０００ｐｐｍ以上での効果効能が発揮されるものであった。 【００１２】15しかし，現実的な実用としては，常温～体温領域が求められており，且つ，短時間での効果効能を発揮することが求められていた。 【００１３】そこで，上述の如き従来の実情に鑑み，本発明の目的は，検体の種類によっての短時間で高効能を発揮する条件を定義することが可能な核酸分解処理装置を提供す20ることにある。 【００１４】この核酸分解処理装置は，空間に漂う核酸（ＤＮＡ・ＲＮＡ）もコンタミネーションとして暴露対象とする。 【課題を解決するための手段】25【００１７】40本発明は，核酸分解処理装置であって，メタノールタンクから供給されたメタノールを霧状に噴射するノズルを備え，該ノズルを介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方に位置して，熱反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部とからなり，該上部には空気を供給する空気供給部が連結されており，該メタ5ノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該空気供給部から供給された空気を所定の割合で混合させる筒体部と，上記筒体部の上方に位置し，該筒体部において上記所定の割合で を自然対流により上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該空気供給部から供給された空気を所定の割合で混合させる筒体部と，上記筒体部の上方に位置し，該筒体部において上記所定の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを有し，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反10応触媒より構成され，該ラジカル反応触媒を複数積層してなり，空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して少なくともメタノールに由来する活性種を含み生成される複合ガス（以下「バイオガス」という）を発生するバイオガス発生部と，上記バイオガス発生部における生成ガス量を供給空気量とメタノール量で制御する生成ガス量制御手段と，上記バイオガス発生部により発生したバイオ15ガスが供給される暴露部と，上記暴露部の暴露空間内の温度を制御する温度制御手段と，上記暴露部の暴露空間内の湿度を制御する湿度制御手段と，上記暴露部に供給されたバイオガスを排気する排気処理部と，上記排気処理部により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御するバイオガスの排気量制御手段と，上記暴露部におけるバイオガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定するホルムアルデヒ20ド成分濃度測定手段と，臭いを検出又は測定する手段を備え，上記ホルムアルデヒド成分濃度測定手段による測定結果として得られるガス濃度情報が上記生成ガス量制御手段に帰還され，上記バイオガス発生部において，一定の触媒の自己反応温度と濃度のバイオガスとなるように，上記生成ガス量制御手段により上記バイオガス発生部における生成ガス量が供給空気量とメタノール量で制御されるとともに，上25記排気量制御手段により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御するこ41とによ 手段により上記バイオガス発生部における生成ガス量が供給空気量とメタノール量で制御されるとともに，上25記排気量制御手段により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御するこ41とにより，上記暴露部の庫内ガス濃度を一定にし，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による上記暴露部の暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出する庫内差圧検出手段を備え，上記庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排気量制御手段により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することに5より，上記暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にするものとすることができる。 【００１９】また，本発明に係る核酸分解処理装置において，上記バイオガス発生部は，メタノール，ホルムアルデヒド，一酸化炭素，二酸化炭素，水素，酸素の成分を少なくとも含有した活性酸素とフリーラジカルからなる複合ラジカルガスを発生するもの10とすることができる。 【００２０】さらに，本発明に係る核酸分解処理装置において，上記バイオガス発生部は，例えば，上記自己反応温度が４００℃～５００℃の範囲内に制御されるものとすることができる。 15【発明の効果】【００２１】本発明に係る核酸分解処理装置では，フィードバック制御により暴露部の暴露空間内における温度，湿度，濃度の定量的制御を行うことができ，検体の種類によっての短時間で高効能を発揮する条件を定義することができる。 20【００２２】この核酸分解処理装置は，核酸分解の効果効能を発揮する環境温度を３７℃の体温域とし，１５分以内の短時間で，且つ，ホルムアルデヒド成分濃度１００ｐｐｍ以内において，二重螺旋のＤＮＡ核酸を有効に分解（１０ｂｐ以 分解処理装置は，核酸分解の効果効能を発揮する環境温度を３７℃の体温域とし，１５分以内の短時間で，且つ，ホルムアルデヒド成分濃度１００ｐｐｍ以内において，二重螺旋のＤＮＡ核酸を有効に分解（１０ｂｐ以下のバラバラ状態）する能力を有し，気相の核酸分解法として核酸分解９９．９９％～１００％を達成25することができる。 42【００２３】また，この核酸分解処理装置では，非ウエットで９９．９９％，ウエット（１００μｌ）で９５％の効能を発揮する。 【００２４】この発明を基にした応用技術により高度先端的医療（細胞治療，遺伝子治療，再5生医療）分野や海洋研究分野，航空宇宙分野の他，危機管理分野（防衛，消防，警察等），医療，介護等におけるＤＮＡ・ＲＮＡフリー（バイオ系核酸レベルのコンタミネーションの除去・除染）を必要とする分野や効果効能レベルのコントロールによって滅菌，殺菌，除菌の分野への適用が可能である。 【発明を実施するための形態】10【００２６】以下，本発明の実施の形態について，図面を参照して詳細に説明する。なお，本発明は以下の例に限定されるものではなく，本発明の要旨を逸脱しない範囲で，任意に変更可能であることは言うまでもない。 【００２７】15本発明は，例えば図１に示すような構成の核酸分解処理装置１００に適用される。 【００２８】この核酸分解処理装置１００は，メタノールに由来する活性種を含むバイオガスにより核酸分解処理を行うものであって，バイオガス発生部１１０，暴露部１２０，排気処理部１４０及び，これら各部の動作を制御する制御部１５０を備える。 20【００２９】この核酸分解処理装置１００において，バイオガス発生部１１０は，空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して少なく 各部の動作を制御する制御部１５０を備える。 20【００２９】この核酸分解処理装置１００において，バイオガス発生部１１０は，空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して少なくともメタノールに由来する活性種を含むバイオガスを発生するものである。 【００３０】25このバイオガス発生部１１０は，例えば，図２に示すように，原料となるメタノ43ールを供給する着脱式のメタノール供給タンク１にソレノイドバルブからなる直動式オンオフ弁２を介して接続されたメタノールサブタンク３からメタノールがメタノールポンプ７により吸い上げられてメタノール制御弁１７を介して供給される気化器１０が内筒体１２Ａの下部に設けられ，上部に触媒カートリッジ１８が装着されたメタノールガス発生部１１を外筒体１２Ｂ内に設けてなる。 5【００４２】上記バイオガス発生部１１０におけるバイオガスの生成ガス量は，上記メタノールガス発生部１１に供給する空気量（エアポンプ９）とメタノール量（燃料ポンプ７）で制御することができる。 【００４４】10すなわち，上記バイオガス発生部１１０は，図３に示すように，上記メタノールサブタンク３から供給されたメタノールを霧状に噴射するノズル２３を備え，該ノズル２３を介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部１１の気化器１０と，上記気化器１０の上方に位置して，熱反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部とからなり，該上部には空15気を供給する上記エアポンプ９が連結されており，該メタノールガス発生部１１から発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該エアポンプ９から供給された空気を所定の割合で混合させる上 されており，該メタノールガス発生部１１から発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該エアポンプ９から供給された空気を所定の割合で混合させる上記内筒体１２Ａと，上記内筒体１２Ａの上方に位置し，該内筒体１２Ａにおいて上記所定の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化す20る触媒部を有し，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒より構成され，該ラジカル反応触媒を複数積層した触媒カートリッジ１８からなる。 【００４９】より具体的に説明すると，気化器ヒータ２０への通電が開始され，上記メタノー25ルサブタンク３から図４のメタノール供給用連通管２４を通って供給されたメタノ44ールを導通する熱媒体２１がその気化器ヒータ２０からの熱によって１００～２００℃に加熱され始める。そして，上記メタノールサブタンク３から供給されたメタノールが熱媒体２１を通過すると，メタノールは熱媒体２１に生じている熱によって温められて気化し，メタノールガスが発生する。このようにしてメタノールガスが発生すると，メタノールガスは気化ノズル２２及び図３の気化カバー１４を通っ5て分散し，内筒体１２Ａ中を自然対流を利用して，触媒カートリッジ１８へと移行する。 【００５９】ここで，従来のＭＲガス滅菌処理と比較して，滅菌環境を所定の湿度に保つ必要は無く，従来温度５０℃以上，湿度７５％で６０分暴露を要した核酸分解効能が，10温度３７℃以上，湿度３０％～４５％以上，１５分発生暴露にて核酸の分解効能を得ることができる。したがって，滅菌環境（核酸分解）における湿度制御は厳格でなくても良く，温度制御を中心としたバイオガス発生環境において，湿度制御は結露状態の発生のない 発生暴露にて核酸の分解効能を得ることができる。したがって，滅菌環境（核酸分解）における湿度制御は厳格でなくても良く，温度制御を中心としたバイオガス発生環境において，湿度制御は結露状態の発生のない制御で運用すれば良い。 【００６３】15なお，バイオガス発生部１１における温度を制御し，安定的にバイオガスを生成して供給するために，図２の異常温度センサ１４Ａが上記内筒体１２Ａの下部に設けられているとともに，触媒温度センサ１５が上記内筒体１２Ａの下部に設けられている。上記異常温度センサ１４Ａ及び触媒温度センサ１５により得られる各温度情報を上記制御部１５０に供給することにより，温度を管理・制御することにより，20メタノールの着火等を防止して，安全性を向上させることができる。 【００７７】例えば，暴露部１２０の容積が１立方メートル以内の場合の割合は，メタノール量３ｃｃ／分の場合の空気供給量は４．５Ｌ／分，容積が０．５立方メートル以下の容積の場合は５．０Ｌ／分，或いはメタノールの量を少なくして空気量を下げる25など，濃度測定により目的に応じた最適化が実現できる構造を有している。 45【００８０】このバイオガス発生部１１０では，空気の供給量を変化させることによりラジカル化触媒反応の温度を制御できる。メタノールガスのラジカル化触媒反応に必要な反応温度は約４００～５００℃であり，このバイオガス発生部１１０では，約３． ０ｃｃのメタノール供給量に対して，筒体上部１２ａから供給される空気の供給量5を約３．５～６．０Ｌ／ｍｉｎの範囲で変化させる。これにより，ラジカル化触媒反応の温度を約４００～５００℃の範囲で変化させることが可能となる。したがって，上記エアポンプ９からの空気の供給量を変化させることにより，容易にラジカル化触媒 変化させる。これにより，ラジカル化触媒反応の温度を約４００～５００℃の範囲で変化させることが可能となる。したがって，上記エアポンプ９からの空気の供給量を変化させることにより，容易にラジカル化触媒反応の温度を制御することができる。 【００８１】10このように，このバイオガス発生部１１０によれば，ラジカル化触媒反応温度を維持させるための随時の加熱を必要とせず，安定した自己反応によりラジカル化反応を起こすことができることから，空気の供給量を変化させるだけで，容易にラジカル化反応温度を制御することができる。また，発生するバイオガスの濃度はラジカル化触媒反応温度に依存することから，上述のように空気の供給量を変化させて15反応温度を制御することで，バイオガスの濃度を容易に制御することができる。これにより，暴露対象によって容易にバイオガスの濃度を変化させることができ，種々の暴露対象に対して滅菌処理を施すことが可能となる。 【００９７】また，この核酸分解処理装置１００において，上記暴露部１２０は，例えば，図20８に示すように，庫内ヒータ１３０Ａと庫内冷却器１３０Ｂとにより温度と湿度の制御が可能な恒温恒湿槽からなる。 【０１０１】また，この暴露部１２０には，外気導入バルブ１２５からヘパフィルタ１２４を介して外気（空気）が導入され，また，外部ガス導入バルブ１３１を介して窒素Ｎ25２や炭酸ガスＣＯ２等の外部ガスが導入できる。上記ヘパフィルタ１２４を介して46上記暴露部１２０に導入される外気（空気）は，空気加熱ヒータ２４Ａにより加熱できるようになっている。 【０１０３】また，この暴露部１２０には，ガス濃度センサ１２９，庫内圧力センサ１３２，湿度センサ１３３，温度センサ１３４，暴露センサ（核酸センサ）１３５，臭いセ 加熱できるようになっている。 【０１０３】また，この暴露部１２０には，ガス濃度センサ１２９，庫内圧力センサ１３２，湿度センサ１３３，温度センサ１３４，暴露センサ（核酸センサ）１３５，臭いセ5ンサ１３６Ａ，１３６Ｂ，などの各種センサが設けられている。上記ガス濃度センサ１２９，庫内圧力センサ１３２，湿度センサ１３３，温度センサ１３４，暴露センサ１３５，臭いセンサ１３６Ａ，１３６Ｂにより得られる暴露空間内のガス濃度情報，圧力情報，湿度情報，温度情報，暴露（核酸への効果効能など）情報，臭い情報（内外）が上記制御部１５０に供給されるようになっている。当然に暴露部１10２０の外の温度（室温）情報も制御部１５０に供給する。 【０１０４】さらに，上記暴露部１２０に供給されたバイオガスは，排出側開閉バルブ１２８を開くことにより排気することができるようになっている。 【０１０７】15また，この核酸分解処理装置１００において，上記排気処理部１４０は，上記暴露部１２０に供給されたバイオガスを排気するものであって，例えば，図９に示すように，ガス導入管アタッチメント１４１を介して上記暴露部１２０の排出側開閉バルブ１２８に接続される排気ブロア１４３，上記排気ブロア１４３により上記暴露部１２０から排気ガスがガス整流槽１４４を介して送られてくる排気ガスを分解20する排気分解触媒部１４５を備え，上記排気分解触媒部１４５において排気ガスを触媒反応により無害化して排気管１４９から排気する。 【０１０８】この排気処理部１４０は，上記外気導入バルブ１４２を介して外気（空気）を導入できるようになっている。 25【０１１１】47そして，この核酸分解処理装置１００において，上記制御部１５０は，図１０に示す制御系により，上記バイ ルブ１４２を介して外気（空気）を導入できるようになっている。 25【０１１１】47そして，この核酸分解処理装置１００において，上記制御部１５０は，図１０に示す制御系により，上記バイオガス発生部１１０，暴露部１２０，排気処理部１４０を次のように制御する。 【０１４０】暴露部１２０の庫内の圧力を監視しながら，庫内が陰圧（－０～－０．０１ＭＰ5ａ）になるように排気処理部１４０により排気吸引する。 【０１４１】その後，庫内圧力センサ１３２にて陰圧を確認の後に，上記制御部１５０は，上記バイオガス発生部１１０，暴露部１２０の庫内温度，排気処理部１４０の各温度が規定値に達し起動準備が整った時に，上記バイオガス発生部１１０に対してメタ10ノール供給ポンプ７の起動を指示する。 【０１４２】暴露部１２０の庫内は，ガス導入，撹拌，排気状態を維持する。 【０１４３】そして，暴露部１２０の庫内の濃度が一定になるように，ガス濃度センサ１２９15により得られるガス濃度情報に基づいてバイオガス発生部１１０の制御を以下のように行う。 【０１４４】上記バイオガス発生部１１０におけるバイオガスすなわち核酸分解ガスの発生量は，上記バイオガス発生部１１０のエア量とメタノール量の混合割合で決まる。エ20ア供給量は，暴露部１２０の庫内の容積と発生時間の兼ね合いで定める。また，暴露部１２０の庫内が陰圧になる吸気と排気のバランス範囲で定める。また，メタノール量は，触媒の自己反応温度の適正範囲内で定める。 【０１４５】また，暴露部１２０の陰圧制御において，供給エア量と排気ブロアの吸引量のバ25ランスは－０～－０．０１ＭＰａの範囲とする。試料のパラメータ（濃度，時間，48温度，湿度）により最適な陰圧バランスに調 暴露部１２０の陰圧制御において，供給エア量と排気ブロアの吸引量のバ25ランスは－０～－０．０１ＭＰａの範囲とする。試料のパラメータ（濃度，時間，48温度，湿度）により最適な陰圧バランスに調整する。 【０１４６】暴露部１２０の庫内のガス濃度制御では，暴露対象のパラメータ情報にて濃度が一定になるように陰圧バランスを調整する。 【０１４７】5排気処理部１４０の排気ブロア１４３の吸入量を減らすと濃度は上昇し，吸入量を増やすと濃度は低下する。上記排気ブロア１４３の吸引量は，暴露部の１２０の庫内の陰圧範囲で制限する。陰圧バランス範囲内で調整できない場合は，メタノール供給量を制御する。バイオガス発生部１１０におけるメタノール供給量を増やすと濃度が上昇し，減らすと低下する。この範囲は，触媒の自己反応温度域で制限す10る【０１４８】例えば，上記暴露部１２０の庫内のガス濃度制御では，ガス濃度センサ１２９により得られるガス濃度情報をプロセス値ＰＶとし，庫内濃度の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶを用いて，図１２に示すような制御系により，暴露部１２０の庫内の濃15度を一定にする制御を行う。 【０１５０】そして，上記メタノールポンプ７によるメタノールの供給量ＧＰ１とエアポンプ９による空気の供給量に決まるガス濃度が暴露部１２０における外乱要素とともにガス濃度センサ１２９により検出され，このガス濃度センサ１２９により得られる20ガス濃度情報ＧＦが上記プロセス値ＰＶとして帰還されることにより，暴露部１２０の庫内の濃度を一定にする制御が行われる。 【０１５３】例えば，暴露部１２０の庫内の湿度制御では，湿度センサ１３４により得られる庫内湿度情報をプロセス値ＰＶとし，庫内湿度の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶを25用い 制御が行われる。 【０１５３】例えば，暴露部１２０の庫内の湿度制御では，湿度センサ１３４により得られる庫内湿度情報をプロセス値ＰＶとし，庫内湿度の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶを25用いて，図１３に示すような制御系により，暴露部１２０の庫内湿度を一定にする49制御を行う。 【０１５５】そして，上記冷却ゾーン１２１又は庫内冷却器１３０Ｂによる除湿機能により制御される暴露部１２０の庫内湿度が外乱要素とともに温度センサ１３４により検出され，この温度センサ１３４により得られる庫内湿度情報ＧＦが上記プロセス値Ｐ5Ｖとし帰還されることにより，暴露部１２０の庫内湿度を一定にする制御が行われる。 【０１５７】また，暴露部１２０の庫内温度制御では，温度センサ１３４により得られる庫内温度情報をプロセス値ＰＶとし，庫内温度の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶを用い10て，図１４に示すような制御系により，暴露部１２０の庫内の温度を一定にする制御を行う。 【０１５９】そして，上記庫内ヒータ１３０Ａと庫内冷却器１３０Ｂの制御に応じた庫内温度が暴露部１２０における外乱要素とともに温度センサ１３４により検出され，この15温度センサ３１４により得られる庫内温度ＧＦが上記プロセス値ＰＶとし帰還されることにより，暴露部１２０の庫内温度を一定にする制御が行われる。 【０１６１】また，暴露部１２０の庫内気圧制御では，庫内気圧又は差圧及び排気反応温度の目標値への追従運転を行う。この庫内気圧制御では，比例（Ｐ）制御と積分（Ｉ）20の組み合わせによるＰＩ制御により排気量を制御する。陰圧範囲内を目標値とした庫内気圧制御を行う。目標値は排気反応温度により自動的に定める。 【０１６２】例えば，暴露部１２０の庫内差圧制御では，差圧セン わせによるＰＩ制御により排気量を制御する。陰圧範囲内を目標値とした庫内気圧制御を行う。目標値は排気反応温度により自動的に定める。 【０１６２】例えば，暴露部１２０の庫内差圧制御では，差圧センサ１３４により得られる庫内差圧情報をプロセス値ＰＶとし，庫内差圧の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶを用25いて，図１５に示すような制御系により，暴露部１２０の庫内差圧を一定にする制50御を行う。 【０１６３】すなわち，庫内差圧の閾値ＳＰに応じた第１の制御量Ｃ１１と上記庫内差圧の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶとの差分を第２の制御量Ｃ１２として加算した第３の制御量Ｃ１３で排気処理部１４０の外気導入バルブ１４２の開閉度を制御するとと5もに，上記庫内差圧の閾値ＳＰに応じた第４の制御量Ｃ２１と上記庫内差圧の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶとの差分を第５の制御量Ｃ２２として加算した第６の制御量Ｃ２３で上記排気処理部１４０の排気ブロア１４３の回転数を制御する。 【０１６４】そして，上記排気処理部１４０の外気導入バルブ１４２の開閉度と排気ブロア１10４３の回転数の制御に応じた庫内差圧が暴露部１２０における外乱要素とともに庫内差圧センサ１３２により検出され，この庫内差圧センサ１３２により得られる庫内差圧ＧＦが上記プロセス値ＰＶとし帰還されることにより，暴露部１２０の庫内差圧を一定にする制御が行われる。 【０１８２】15また，上記制御部１５０は，上記バイオガス発生部１１０によるバイオガス発生時に，排気処理部１４０を次のように制御する。 【０１８３】すなわち，上記制御部１５０は，バイオガス発生時には，上記暴露部１２０の庫内圧力センサ１３２により得られる庫内圧力情報により示される庫内圧圧力より陰20圧になるよう排気ブロア１４３ １８３】すなわち，上記制御部１５０は，バイオガス発生時には，上記暴露部１２０の庫内圧力センサ１３２により得られる庫内圧力情報により示される庫内圧圧力より陰20圧になるよう排気ブロア１４３の回転を制御する。また，排気触媒温度センサ１４７により得られる排気触媒温度情報に基づいて，排気触媒ヒータ温度が規定値（３００℃）に達しているように排気触媒ヒータ１４６を制御する。 【０１９６】このような構成の核酸分解処理装置１００では，フィードバック制御により暴露25部１１０の暴露空間内における温度，湿度，濃度の定量的制御を行うことができ，51暴露対象の種類によっての短時間で高効能を発揮する条件を定義することができる。 【０１９８】この核酸分解処理装置１００において，上記バイオガス発生部１１０は，メタノール，ホルムアルデヒド，一酸化炭素，二酸化炭素，水素，酸素の反応成分を少なくとも含有し，ラジカル種としてはフリーラジカル成分（スーパーオキシドアニオ5ンＯ２・－，ヒドロキシルラジカル・ＯＨ，水素ラジカルＨ・，スーパーオキシド（Ｏ２－）を少なくとも含む）複合ラジカルガスを発生する。 【０２０１】この核酸分解処理装置１００の暴露部１１０において暴露される暴露対象は，細長い管を有するもの（内視鏡等）や複雑な形状をした物体或いは精密機器などであ10ってもよい。 【０２１１】また，この核酸分解処理装置１００では，運転途中でガスのサンプリングや検体の途中サンプリング(任意取り出し）が可能である。また，運転環境の確認や状態確認が自動検出のほか手動でも可能であることから，自動運転途中で人が任意に判断15し対処できるシステムである。すなわち，排気処理後のサンプリングにて庫内環境を確認することにより，暴露部１２０庫内へ 認が自動検出のほか手動でも可能であることから，自動運転途中で人が任意に判断15し対処できるシステムである。すなわち，排気処理後のサンプリングにて庫内環境を確認することにより，暴露部１２０庫内への出入り条件を判定することができる。 【実施例】【０２１６】以下，本発明に係る核酸分解処理装置１００を用いた具体的な実施例を示す。な20お，下記の実施例及び実験例によって詳しく説明される内容は単なる実施であって，本発明を限定するものではなく，また本発明の範囲を逸脱しない範囲で変化させてもよい。 【０２１７】＜１．サンプル調整＞25Human HeLa cell (human cervical cancer)から２本鎖ＤＮＡ(double strand DNA:52dsDNA)，ＲＮＡ，および１本鎖ＤＮＡ(single strand DNA: ssDNA)の調整を行った。 【０２２１】＜２．バイオガス暴露試験＞上記１．で調整されたサンプルを用いて，本発明に係る核酸分解処理装置１００5により，図１７に示しように，暴露時間，暴露温度，サンプル容量各々のパラメーターを変えた条件下で暴露を行い，バイオガスの核酸分解能の評価を行った。各サンプルは０．２ml PCR チューブに調整しバイオガス暴露試験を実施した。 【０２２６】＜３．結果＞10＜３－１．dsDNA の結果＞表１～表３に，それぞれサンプル量２μｌ，２０μｌ，１００μｌのBioanalyzerによる結果を示す。なお，各表中の「Ｃ」は核酸が完全に分解した（complete）ことを示し，「＋＋＋」は高度な部分分解が生じたことを示し，「＋＋」は中程度の部分分解が生じたことを示し，「＋」は軽度な部分分解が生じたことを示す。また，図15１ に分解した（complete）ことを示し，「＋＋＋」は高度な部分分解が生じたことを示し，「＋＋」は中程度の部分分解が生じたことを示し，「＋」は軽度な部分分解が生じたことを示す。また，図15１８に，dsDNA のBioanalyzer による核酸分解能評価基準を示し，図１９～図２１に，Bioanalyzer による核酸分解能の試験結果を表すスペクトル図を示す。 【０２３４】以上のことから，核酸分解処理装置１００を用いたバイオガスによる核酸分解処理によって，常温程度の温度条件で，しかも短時間で高度に核酸を分解できること20が分かった。また，このバイオガスによるdsDNA 分解能効果は，温度依存性（高温で効果増強）かつ容量依存性（湿性条件）であることが示唆された。 【０２３８】一方で，核酸分解処理装置１００を用いたバイオガスによる核酸分解処理を行った場合，２μｌのＲＮＡサンプルへのバイオガス暴露により，３７℃,４５℃,５０℃25いずれの温度条件においても１５min 暴露からGAPDH の核酸増幅は見られず，Ｒ53ＮＡの完全分解効果を示し，１２０min でも同様であった。 【０２４１】一方で，核酸分解処理装置１００を用いたバイオガスによる核酸分解処理を行った場合，２μｌのssDNA サンプルへのバイオガス暴露により，３７℃,４５℃,５０℃いずれの温度条件においても６０min 暴露からGAPDH の核酸増幅は見られ5ず，ssDNA の完全分解効果を示し，1２０min でも同様であった。 54【図１】 55【図２】 56【図３】 57【図８】 58【図９】 59【図１０】 60【図１８】 61【 55【図２】 56【図３】 57【図８】 58【図９】 59【図１０】 60【図１８】 61【図１９Ａ】 62【図１９Ｂ】 63【図１９Ｃ】 64（別紙２）【技術分野】【０００１】本発明は，メタノールから触媒反応により発生するラジカル性のメタノールラジカルガス（以下，「ＭＲガス」という。）により対象物を滅菌する滅菌処理装置に適5用される，滅菌ガス発生装置及びその滅菌ガス発生装置に交換可能に設けられる触媒カートリッジ，並びに滅菌処理装置に関する。 【背景技術】【０００２】メタノールから触媒反応により発生するラジカル性（メタノールラジカル：ＭＲ）10ガスを利用した滅菌システムは，これまで医療器具等の滅菌に用いるガスとして多用されていたエチレンオキサイドガス（ＥＯＧ）やオゾン等以上の殺菌力を持ち，残留性，腐食性がないことが確認されており，現在多くの分野において注目されている。 【０００３】15ＭＲガスとは，メタノールから触媒により生じた強力な殺菌効果をもつラジカルガスのことであり，浸透性が高く，大気圧のままでも被滅菌物の内部まで殺菌ができる。金属の腐食やプラスチックの劣化が無く，非滅菌物の素材を選ばず，さらに，被滅菌物に残留しないなどの優れた特質があり，高い安全性を有する。 【発明が解決しようとする課題】20【０００６】しかしながら，従来のＭＲガス発生装置においては，直径方向の大きさとして，例えば１５０～１８０ｍｍ程度もの大きさを有する触媒部を備えていたため，この触媒部においては，メタノールガスのラジカル化反応に必要な温度を一定に維持させることは難 おいては，直径方向の大きさとして，例えば１５０～１８０ｍｍ程度もの大きさを有する触媒部を備えていたため，この触媒部においては，メタノールガスのラジカル化反応に必要な温度を一定に維持させることは難しく，電熱ヒータを触媒内部に備えるようにし，ラジカル化反応に必25要な温度を維持するために随時加熱しながら温度を制御することが必要となってい65た。 【０００７】このような従来のＭＲガス発生装置では，触媒反応時における温度の変動が激しく，その結果，一定の濃度を有するＭＲガスを発生させることができなかった。さらに，１５０～１８０ｍｍ程度もの大きさを有する触媒部を備えるとともに，さら5に上述したように加熱用の電熱ヒータを備える必要があったため，触媒部は必然的に大きくなってしまい，利便性を高めるためのＭＲガス発生装置自体の小型化を困難にしていた。 【０００８】本発明は，このような従来の問題点に鑑みて提案されたものであり，ラジカル化10のための触媒反応温度を一定に保ち，安定した濃度の滅菌ガスを発生させるとともに，小型化が可能な滅菌ガス発生装置，その滅菌ガス発生装置に用いられる触媒カートリッジ，並びに滅菌処理装置を提供することを目的とする。 【課題を解決するための手段】【０００９】15本件発明者らは，上述した課題を解決するために，様々な観点から鋭意研究を重ねてきた結果，ハニカム構造を有する触媒を使用することにより，ラジカル化のための触媒反応温度を一定に維持することが可能になることを見出し，本発明を完成するに至った。 【００１０】20すなわち，本発明に係る滅菌ガス発生装置は，メタノールを気化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方に位置し，該メタノールガス発 【００１０】20すなわち，本発明に係る滅菌ガス発生装置は，メタノールを気化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方に位置し，該メタノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに所定の割合で空気を混合させる筒体部と，上記筒体部の上部の上方に位置し，該筒体部において上記所定の25割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを66備え，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒より構成される。 【発明の効果】【００１３】本発明によれば，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒を使5用しているので，触媒部における表面積が増加して反応効率が向上し，触媒反応温度を一定に維持した自己反応を生じさせることができ，安定した濃度のＭＲガスを発生させることができる。また，触媒部における反応効率の向上により，触媒部を小型化することができるとともに，滅菌処理装置自体を小型化することを可能にし，利便性を高めることができる。 10【発明を実施するための最良の形態】【００１５】図１は，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置を概略的に示した模式図である。 この図１に示すように，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０は，メタノールタンク（図示せず）からメタノールが供給され，そのメタノールを気化することに15よってメタノールガスを発生させるメタノールガス発生装置１１と，そのメタノールガス発生装置１１の上方に位置してメタノールガス発生装置１１から発生したメタノールガスを空気と混合させるとともに，発生したメタノールガスを自然対流を利用して上方に案内する流路を形 と，そのメタノールガス発生装置１１の上方に位置してメタノールガス発生装置１１から発生したメタノールガスを空気と混合させるとともに，発生したメタノールガスを自然対流を利用して上方に案内する流路を形成するために設けられた筒体１２と，メタノールガスの流路上方に取り外し可能な状態で筒体１２に連続して設けられ，メタノール20ガスを触媒反応によりラジカル化してＭＲガスを発生させる触媒カートリッジ１３とから構成されている。以下，各構成について具体的に説明していく。 【００１６】先ず，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０を構成するメタノールガス発生装置１１について説明する。メタノールガス発生装置１１は，メタノールを気化す25ることによって，ラジカル化反応の反応物質であるメタノールガスを発生させ，筒67体１２へと供給する。 【００１７】図２は，メタノールガス発生装置１１を概略的に示す模式図である。この図２に示すように，メタノールガス発生装置１１は，原料となるメタノールを収容するメタノールタンク（図示せず）が連結されており，少なくとも，メタノールを加熱気5化させる電熱ヒータ２０と，メタノールタンクから供給されたメタノールを気化するに際して温度を制御する焼結金属等の温度安定化金属からなる熱媒体２１と，気化したメタノールをＭＲガス発生装置１０の上方部に導通させる気化ノズル２２と，さらにメタノールタンクから供給されるメタノールを霧状に噴射して熱媒体２１の方へ移行させるノズル２３とから構成されている。 10【００１８】このメタノールガス発生装置１１では，メタノールタンクから供給されたメタノールが，熱媒体２１による温度制御の下，電熱ヒータ２０によって加熱されて気化され，気化して生成したメタノールガスが気化ノズル２２から発 ノールガス発生装置１１では，メタノールタンクから供給されたメタノールが，熱媒体２１による温度制御の下，電熱ヒータ２０によって加熱されて気化され，気化して生成したメタノールガスが気化ノズル２２から発生する。発生したメタノールガスは，気化カバー１４を通り，自然対流を利用してＭＲガス発生装置15１０の上方，すなわち触媒カートリッジ１３へ分散して移行する。 【００２３】また，このメタノールガス発生装置１１は，メタノールタンクからメタノール供給用連通管２４を通って供給されるメタノールを，ポンプ等を利用して霧状にして熱媒体２１の方へ噴射させるノズル２３を備えている。メタノールタンクから供給20されたメタノールをノズル２３より霧状にして噴射し，霧状のメタノールを上述した電熱ヒータ２０によって熱媒体２１を介して加熱させることで，温度を一定に保ち，安定した状態でメタノールを気化させることができる。 【００２４】このように，温度一定の安定した状態でメタノールガスを発生させることにより，25メタノールガス発生装置１１における温度のふらつきを抑制して，上述したように，68以下で詳述する触媒カートリッジ１３における触媒反応の温度変動をより効果的に抑制し，安定したＭＲガスの発生を可能にしている。 【００２６】ここで，滅菌処理においては，滅菌環境を所定の湿度に保った状態とすることが必要なことが知られており，例えばウイルス等のＤＮＡを破壊してＤＮＡフリーの5環境とする場合には，約７５％程度の湿度を維持した滅菌環境で滅菌処理を行わなければならない。しかしながら，ＭＲガス滅菌処理を行うにあたって，そのようにＭＲガスの暴露環境を所定の湿度条件（例えば約７５％程度）に整えようとすると，ある程度の環境調整時間が必要となるとともに，所定の湿 ならない。しかしながら，ＭＲガス滅菌処理を行うにあたって，そのようにＭＲガスの暴露環境を所定の湿度条件（例えば約７５％程度）に整えようとすると，ある程度の環境調整時間が必要となるとともに，所定の湿度環境を一定に管理することも必要となり，また一定の湿度環境を維持することは極めて難しい。 10【００２７】そこで，上述したように，メタノールガスを発生させる段階において，メタノールタンクから供給されたメタノールに所定の水を混合させて，所定の割合で水を含有したメタノールを生成し，このメタノールからメタノールガスを発生させてＭＲガスを生成させる。これにより，滅菌環境の湿度を事前に調整しなくとも，効果的15な滅菌処理を行うことが可能となる。このとき，上述した他の実施形態におけるメタノールガス発生装置１１によれば，メタノールと水とを混合し，所定の割合で水を含有させたメタノールを霧状にして供給することができる混合ノズル２３’を備えているので，所定の湿度を保持した最適なメタノールガスを効率的に生成させて触媒カートリッジ１３に供給することができる。そして，このメタノールガスから20触媒反応によって発生したＭＲガスを使用することで，効果的な滅菌処理を行うことができ，所定の湿度環境を一定に管理維持させる必要もなくなる。 【００２８】このように，メタノールガス発生装置１１は，ノズル２３を備えているので，メタノールを霧状に噴射して，温度のふらつきのない一定範囲の温度条件でメタノー25ルを気化することができるとともに，触媒カートリッジ１３において安定したラジ69カル化触媒反応を生じさせることができる。また，このノズル２３は，例えばメタノールと水とを混合させて，所定の割合で水を含有させたメタノールを霧状に供給することができる混合ノズル２ 定したラジ69カル化触媒反応を生じさせることができる。また，このノズル２３は，例えばメタノールと水とを混合させて，所定の割合で水を含有させたメタノールを霧状に供給することができる混合ノズル２３’として構成することもできるので，所定の湿度を保ったメタノールガスを効率的に生成させるとともに，効果的な滅菌処理が可能なＭＲガスを発生させることができる。 5【００３１】次に，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０を構成する筒体１２について説明する。筒体１２は，メタノールガス発生装置１１から供給されたメタノールガスのラジカル化触媒反応の場となる触媒カートリッジ１３に案内する流路になるとともに，メタノールガスに所定の割合の空気を混合させる。 10【００３７】ここで，この筒体上部１２ａにおける空気の供給について詳細に説明する。本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０では，筒体上部１２ａにおける空気の供給量を変化させることにより，後述する触媒カートリッジ１３での自己反応によるラジカル化触媒反応の温度を制御することができる。 15【００３８】このＭＲガス発生装置１０における触媒カートリッジ１３は，詳細は後述するが，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒３０から構成され，メタノールガスとの接触表面積を増やして反応効率を向上させるようにしている。これにより，触媒カートリッジ１３では，作動開始直後十数分間の２３０～２５０℃程20度の加熱のみで，その後は安定した自己反応（メタノールガスの触媒燃焼反応）によってラジカル化反応に必要な４５０～５００℃まで温度を高め，その反応温度を維持させることができ，従来の装置とは異なり随時反応温度を維持させるために加熱し続けることを要しない。このように，このＭＲガス発生装置１０に 反応に必要な４５０～５００℃まで温度を高め，その反応温度を維持させることができ，従来の装置とは異なり随時反応温度を維持させるために加熱し続けることを要しない。このように，このＭＲガス発生装置１０によれば，反応温度維持のための継続的な加熱を必要とせず，安定した自己反応により必要な温25度に高めるとともに一定に維持できることから，そのラジカル化反応に必要な温度70を，筒体上部１２ａにおける空気の供給量を変化させることによって容易に制御することができる。 【００３９】また，金属パイプと珪藻土等を無秩序に混合させて形成した触媒を備えた従来のＭＲガス発生装置とは異なり，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０では，金5属薄板をハニカム構造体に成形した触媒カートリッジ１３にメタノールガスを通過させてラジカル化触媒反応を起こすようにしているので，メタノールガスの触媒反応にばらつきを生じさせず，供給する空気量を変化させることで，容易に触媒反応温度を制御することができる。 【００４０】10具体的には，ラジカル化触媒反応に必要な４５０℃程度の温度を自己反応により発生させる場合には，上述したように，メタノールの供給量に対して略正比例するように空気を供給する。具体的には，メタノール供給量を３ｃｃとした場合には，空気の供給量を約３．５Ｌ／ｍｉｎとする割合で供給する。 【００４１】15一方，ラジカル化触媒反応に必要な４５０℃より高めの，約５００℃近い温度を自己反応により発生させる場合には，空気の供給量をメタノールの供給量に対して正比例する量よりも多く供給する。これにより，自己反応による燃焼温度が高まり，ラジカル化反応において５００℃近い温度とすることができる。具体的には，上述の４５０℃程度の温度を発生させる場合の空気の供給量 例する量よりも多く供給する。これにより，自己反応による燃焼温度が高まり，ラジカル化反応において５００℃近い温度とすることができる。具体的には，上述の４５０℃程度の温度を発生させる場合の空気の供給量の割合（メタノール供給量20を３ｃｃとしたときに，空気の供給量を約３．５Ｌ／ｍｉｎとする割合）よりも多い量の空気を供給する。 【００４２】図５は，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０において，空気の供給量を変化させることによりラジカル化触媒反応の温度を制御できることを説明するための25グラフである。メタノールガスのラジカル化触媒反応に必要な反応温度は約４５０71～５００℃であり，この図５のグラフに示すように，このＭＲガス発生装置１０では，約３．０ｃｃのメタノール供給量に対して，筒体上部１２ａから供給される空気の供給量を約３．５～６．０Ｌ／ｍｉｎの範囲で変化させる。これにより，ラジカル化触媒反応の温度を約４５０～５００℃の範囲で変化させることが可能となる。 したがって，空気供給部からの空気の供給量を変化させることにより，容易にラジ5カル化触媒反応の温度を制御することができる。 【００４３】このように，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０によれば，ラジカル化触媒反応温度を維持させるための随時の加熱を必要とせず，安定した自己反応によりラジカル化反応を起こすことができることから，空気の供給量を変化させるだけで，10容易にラジカル化反応温度を制御することができる。また，発生するＭＲガスの濃度はラジカル化触媒反応温度に依存することから，上述のように空気の供給量を変化させて反応温度を制御することで，ＭＲガスの濃度を容易に制御することができる。これにより，滅菌対象によって容易にＭＲガスの濃度を変化させることができ，種々の対 とから，上述のように空気の供給量を変化させて反応温度を制御することで，ＭＲガスの濃度を容易に制御することができる。これにより，滅菌対象によって容易にＭＲガスの濃度を変化させることができ，種々の対象に対して滅菌処理を施すことが可能となる。 15【００５６】そこで，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０においては，上述したように，触媒カートリッジ１３を，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒３０によって構成し，メタノールガスとラジカル反応触媒３０との接触表面積を増加させるとともに，メタノールガスが一定の通路を通過するようにしている。 20【００５７】このようにしてラジカル反応触媒３０をハニカム構造に成形してメタノールガスとの接触表面積を増加させることによって，触媒反応の反応効率を高め，ラジカル化反応に必要な触媒カートリッジ１３の大きさを最小限に抑えることを可能にしている。具体的に，触媒カートリッジ１３におけるラジカル反応触媒３０の直径方向25の大きさを，５０～７０ｍｍ程度の大きさにすることができ，この大きさで反応効72率の高いラジカル化反応を起こすことができる。そして，触媒カートリッジ１３の大きさを最小限に抑えることで，容易に交換が可能な形態とすることが可能となっている。また，一定の通路をメタノールガスが通過するようにすることで，ラジカル化反応のばらつきを抑えて一定にし，反応温度の変動を抑制させることを可能にしている。 5【００７７】そしてまた，上述のように，この触媒カートリッジ１３では，安定した自己反応によるラジカル化触媒反応を可能していることから，筒体１２に接続された空気供給部からの空気の供給量を任意に制御することにより，自己反応によるラジカル化触媒反応温度を容易に変動制御すること た自己反応によるラジカル化触媒反応を可能していることから，筒体１２に接続された空気供給部からの空気の供給量を任意に制御することにより，自己反応によるラジカル化触媒反応温度を容易に変動制御することができ，発生させるＭＲガスの濃度を容易10に変化させることが可能となる。これにより，メタノールガスに混合させる空気に供給量を変化させるだけで，滅菌対象によって適した濃度のＭＲガスを簡単に発生させることができ，種々の対象に対して効率的な滅菌処理を行うことができる。また，このように，適した濃度のＭＲガスを任意に発生させることができることから，メタノールの供給量を必要最小限に抑えることが可能となり，より安全に装置を使15用することができるだけでなく，環境にも適した滅菌処理を実現することができる。 【００７９】図１３は，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０を適用した滅菌処理装置４０の一例を概略的に示した模式図である。この図１３に示すように，滅菌処理装置４０は，メタノールタンク４１と，ＭＲガス発生装置１０’と，滅菌対象物を保持し20てＭＲガス発生装置１０’から発生したＭＲガスによって滅菌処理を施す場となる滅菌タンク４２とから構成されている。 【００８５】また，上述した本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０を適用することにより，上述した図１３に例示する滅菌処理装置４０に示されるような滅菌対象物４３を滅25菌処理装置４０内に静置させて処理する形態としない滅菌処理装置とすることもで73きる。すなわち，小型化が可能となった本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０を適用した滅菌処理装置を，閉じられた空間に静置し，ラジカル化触媒反応によって発生したＭＲガスをその閉じられた空間に充満させて，その空間を滅菌させることもできる。このように 係るＭＲガス発生装置１０を適用した滅菌処理装置を，閉じられた空間に静置し，ラジカル化触媒反応によって発生したＭＲガスをその閉じられた空間に充満させて，その空間を滅菌させることもできる。このようにすることで，病室等の室内や車内等，従来のＭＲガス発生装置を用いた滅菌処理装置では実現することができなかった空間に対して滅菌処理5を施すことが可能となる。 【００８８】例えば，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置を適用することによって，感染病を患った患者を搬送した救急車を滅菌対象として処理することができる。従来のＭＲガスを用いた滅菌処理装置では，その装置自体が大型であったため，持ち運びも10困難で，処理に時間がかかり，数の限られた救急車等を手早く滅菌処理することができなかった。しかしながら，本実施の形態に係る，反応効率を向上させて反応触媒の小型化を実現したＭＲガス発生装置を適用した滅菌処理装置によれば，容易に持ち運ぶことが可能となり，容易に滅菌処理を施すことが可能となる。 【００８９】15また，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０によれば，筒体上部１２ａにおける空気の供給量を変化させることにより，触媒の自己反応によるラジカル化反応温度を容易に制御することができるので，発生するＭＲガスの濃度を容易に変化させることができる。これにより，例えばウイルス等のＤＮＡを破壊することを目的としてＭＲガスを暴露させる場合には，空気の供給量を増やしてラジカル化反応温20度を高め，濃度の高いＭＲガスを発生させるといったように，滅菌対象によって空気の供給量を変化させて，発生させるＭＲガスの濃度を変化させることができる。 【００９０】なお，本発明は，上述の実施形態に限られるものではなく，この発明の要旨を逸脱しない範囲での設計変更等があ 気の供給量を変化させて，発生させるＭＲガスの濃度を変化させることができる。 【００９０】なお，本発明は，上述の実施形態に限られるものではなく，この発明の要旨を逸脱しない範囲での設計変更等があっても本発明に含まれる。 2574【図１】 【図２】 575【図１３】 76（別紙３）１ 【特許請求の範囲】【請求項３】密閉された室内にホルムアルデヒドガスを供給すると共に排出するホルムアルデヒドガス供給排出装置と，前記室内の圧力を調整する室圧調整装置とを備え，5前記ホルムアルデヒドガス供給排出装置は，前記ホルムアルデヒドガスを発生するホルムアルデヒドガス発生器と，前記ホルムアルデヒドガスの湿度を調節する湿度調節器と，前記ホルムアルデヒドガスの温度を調節する温度調節器と，前記ホルムアルデヒドガスを室内へ搬送して導入するガス搬送器と，前記室内からの排ガスを処理する排ガス処理器と，前記排ガスを排出するガス排出器と，前10記室内のホルムアルデヒドガスの濃度，湿度及び温度を所定の濃度，湿度及び温度に制御する制御部とを有し，前記室圧調整装置は，前記室内に室外の空気を給気する給気ユニットと，前記室内の空気を前記室外に排気する排気ユニッ卜と，前記室内と前記室外との圧力差を検出する圧力差検出手段と，前記圧力差検出手段により検出された検出値15に基づいて前記給気ユニット及び前記排気ユニットを制御する制御手段と，前記圧力差検出手段による前記検出値に基づいて前記室圧の制御状況を出力する制御状況出力手段とを有することを特徴とするホルムアルデヒドガス殺菌装置。 ２ 【発明の詳細な説明】(1) 「技術分野20本発明は，ホルムアルデヒドガスにより被殺菌空間の殺菌を行うホルムアル 出力手段とを有することを特徴とするホルムアルデヒドガス殺菌装置。 ２ 【発明の詳細な説明】(1) 「技術分野20本発明は，ホルムアルデヒドガスにより被殺菌空間の殺菌を行うホルムアルデヒドガス殺菌装置に関するものである。」（４頁２行～４行）(2) 「技術背景従来，バイオクリーンルームや手術室等の空間内を殺菌処理する目的でホルムアルデヒドガスを用いる方法は，この被殺菌空間を閉空間とし，その中にホ25ルムアルデヒドガス発生器を設置してホルムアルデヒドガスを発生させるもの77が知られている。 しかし，ホルムアルデヒドガスによる殺菌（以下，本明細書では「滅菌」をも意味する）効果は，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度により大きく依存することから，十分保証可能な殺菌効果を得るためには，単にホルムアルデヒドガスを特定の時間被殺菌空間に充満させるということでは5十分ではない。 ･･･また，被殺菌空間内は，密閉された空間（室）となることから室内圧力を制御する必要も生じる。」（４頁５行～２１行）(3) 「発明の開示･･･また，この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置は，ホルムアルデヒドガ10スを発生させるホルムアルデヒドガス発生器と，前記ホルムアルデヒドガスの湿度を調節する湿度調節器と，前記ホルムアルデヒドガスの温度を調節する温度調節器と，前記ホルムアルデヒドガスを被殺菌空間内へ搬送して導入するガス搬送器と，前記被殺菌空間内からの排ガスを処理する排ガス処理器と，前記排ガスを排出するガス排出器と，前記ホルムアルデヒドガス発生器において前15記ホルムアルデヒドガスを所定の範囲の濃度で発生させ，前記湿度調節器により前記ホルムアルデヒドガスの湿度を所定の範囲に制御し，前記温度調節器に 出器と，前記ホルムアルデヒドガス発生器において前15記ホルムアルデヒドガスを所定の範囲の濃度で発生させ，前記湿度調節器により前記ホルムアルデヒドガスの湿度を所定の範囲に制御し，前記温度調節器により前記ホルムアルデヒドガスの温度を所定の範囲に制御し，前記ガス搬送器によるガス搬送量を所定の範囲に制御し，前記排ガス処理器による排ガス中のホルムアルデヒドの量を所定の範囲に制御し，前記ガス排出器による排ガス排20出量を制御する制御器を有する。 この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置によれば，制御器により被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ，所定の濃度，所定の湿度，所定の温度に制御するため，十分に保証可能な殺菌効果を得ることができる。」（４頁２２行，５頁１７行～６頁３行）25(4) 「また，この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置は，密閉された室内にホ78ルムアルデヒドガスを供給すると共に排出するホルムアルデヒドガス供給排出装置と，前記室内の圧力を調整する室圧調整装置とを備え，前記ホルムアルデヒドガス供給排出装置は，前記ホルムアルデヒドガスを発生するホルムアルデヒドガス発生器と，前記ホルムアルデヒドガスの湿度を調節する湿度調節器と，前記ホルムアルデヒドガスの温度を調節する温度調節器と，前記ホルムア5ルデヒドガスを室内へ搬送して導入するガス搬送器と，前記室内からの排ガスを処理する排ガス処理器と，前記排ガスを排出するガス排出器と，前記室内のホルムアルデヒドガスの濃度，湿度及び温度を所定の濃度，湿度及び温度に制御する制御部とを有し，前記室圧調整装置は，前記室内に室外の空気を給気する給気ユニットと，前記室内の空気を前記室外に排気する排気ユニットと，前10記室内と前記室外との圧力差を検出する圧力差検出手 御する制御部とを有し，前記室圧調整装置は，前記室内に室外の空気を給気する給気ユニットと，前記室内の空気を前記室外に排気する排気ユニットと，前10記室内と前記室外との圧力差を検出する圧力差検出手段と，前記圧力差検出手段により検出された検出値に基づいて前記給気ユニット及び前記排気ユニットを制御する制御手段と，前記圧力差検出手段による前記検出値に基づいて前記室圧の制御状況を出力する制御状況出力手段とを有することを特徴とする。 ･･･この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置によれば，室圧調整装置を備15えるため，室内温度の上昇により室内の空気が膨張したような場合においても室圧を一定に保つことができる。 また，この発明ホルムアルデヒドガス殺菌装置は，前記排気ユニットが前記室内から排気される空気を処理する処理装置を備える。 この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置によれば，室圧を調整するために20室内の空気の排気を行った場合においても，処理装置により室内の空気に含まれるホルムアルデヒドガス等を処理するため，ホルムアルデヒドガスを処理した後に室外に排出することができる。」（６頁４行～７頁６行）(5) 「発明を実施するための最良の形態以下，図１を参照して，本発明の第１の実施の形態の説明を行う。図１は，25第１の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガス殺菌装置２の構成図である。 79このホルムアルデヒドガス殺菌装置２は，ハウジング１０を有しバイオハザード安全キャビネットの外側に取り付けて容易にキャビネット内の空間（以下被殺菌空間１００とする）を殺菌することができるものである。この際，キャビネット内はダンパ等を閉じて閉空間とする。キャビネットには，ホルムアルデヒドガス殺菌装置２からホルムアルデヒドガスを供給するためのホルムアルデ とする）を殺菌することができるものである。この際，キャビネット内はダンパ等を閉じて閉空間とする。キャビネットには，ホルムアルデヒドガス殺菌装置２からホルムアルデヒドガスを供給するためのホルムアルデ5ヒドガス入口１０２と，ホルムアルデヒドガスを排出するための排気ガス出口１０４が設けられている。 被殺菌空間１００には，ホルムアルデヒドガス濃度センサ１２，湿度センサ１４，温度センサ１６が設けられ，それぞれモニタされた値は制御ライン１８，２０，２２を介して制御器２４へ伝達される。 10ポンプ２６により外気をホルムアルデヒドガス入口１０２より被殺菌空間１００内に導入し，さらに排ガス出口１０４よりポンプ２８を通じて外気へ排気する。または，ポンプ２８から出た排気ガスを環流通路３０を介して再びポンプ２６に導入することで，被殺菌空間１００内の空気を循環させる。」（７頁７行～２３行）15「…このため濃度センサ１２，湿度センサ１４，温度センサ１６により被殺菌空間１００内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度のそれぞれをモニタし，得られた値に基づいて制御器２４で必要な計算を行い，制御ライン３８，４０，４２，４４を通じてホルムアルデヒドガス発生器３６，温度調節器３４，湿度調節器３２，ポンプ２６を制御する。･･･20所定の時間経過後，ホルムアルデヒドガス発生器３６を停止し，排ガス処理器４６による処理を被殺菌空間１００内のホルムアルデヒド濃度が所定の値より低くなるまで実施する。即ち，ポンプ２８から出たガスを還流通路３０を介して再びポンプ２６に導入し，被殺菌空間１００内の空気を循環させることにより，ホルムアルデヒド濃度を徐々に低下させ所定の濃度よりも低くする。」25（８頁１行～１２行）80(6) 「本発明において使用可能 ６に導入し，被殺菌空間１００内の空気を循環させることにより，ホルムアルデヒド濃度を徐々に低下させ所定の濃度よりも低くする。」25（８頁１行～１２行）80(6) 「本発明において使用可能なホルムアルデヒドガス発生器には特に限定はないが，湿度，温度の制御の下で高い濃度のホルムアルデヒドガスを発生可能であればよい。」（８頁１９行～２１行）「ホルムアルデヒドの発生量の制御については，触媒の温度の制御，及び供給するメタノールの量，又は気化量に依存する。反応条件の最適化は，実際に5ホルムアルデヒドを発生させ，かつ適当なホルムアルデヒド濃度測定を行うことにより可能である。」（９頁４行～７行）「本発明において，適当な濃度のホルムアルデヒドガス濃度を，適当な温度の範囲内で長時間維持するために，被殺菌空間内の温度を調節することが好ましい。この目的で設けられる温度調節手段は特には，制限はなく，通常公知の10加熱，または冷却装置が使用可能である。」（９頁２７行～１０頁１行）「本発明において，適当な濃度のホルムアルデヒドガス濃度を，適当な湿度の範囲内で長時間維持するために，この閉空間内の湿度を調節することが好ましい。この目的で設けられる湿度調節手段は特に制限はなく，通常公知の加湿，または除湿装置が使用可能である。」（１０頁６行～９行）15「本発明においては，被殺菌空間内の温度，湿度及びホルムアルデヒド濃度を所定の範囲で，所定の時間維持する必要がある。被殺菌空間内ホルムアルデヒドガスの濃度は，被殺菌空間内で殺菌反応などの種々の反応により減少する。 従って，ホルムアルデヒドガスの濃度を一定に維持するためには，設定時間内において，温度，湿度，ホルムアルデヒド濃度データを取込み，かつ特定範囲20になるように，ホルムアルデヒ 応により減少する。 従って，ホルムアルデヒドガスの濃度を一定に維持するためには，設定時間内において，温度，湿度，ホルムアルデヒド濃度データを取込み，かつ特定範囲20になるように，ホルムアルデヒド発生手段を制御する必要がある。この目的のための制御方法，制御器については特に制限はないが，手動による方法，又はコンピュータプログラムを用いた制御器が挙げられる。本発明においては，高いホルムアルデヒド濃度を長時間維持する必要があることから，オンタイムに最適化しつつホルムアルデヒド発生装置，ポンプ，温度調節器，湿度調節器に25信号を送り，制御する機能を有するものが好ましい。」（１１頁１９行～末行）81(7) 「次に，図２，図３を参照して，本発明の第２の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガス殺菌装置ついて説明する。この第２の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガス殺菌装置は，第１の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガス殺菌装置２と同一の構成であるホルムアルデヒドガス供給排出装置４に，更に密閉された室として形成された被殺菌空間内の圧力を調整する室圧調整装5置６を備えるものである。 図２は，第２の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガス供給排出装置４及び室圧調整装置６を備えて構成されるホルムアルデヒドガス殺菌装置の構成図である。ここで室圧調整装置６は，室壁５０に接した状態で設けられ，室壁５０により密閉された室内の圧力を調整するものである。室圧調整装置６は，室10内に室外の空気を給気する給気ユニット５２，室内の空気を室外に排気する排気ユニット５４，室内と室外との圧力差を検出する微差圧検出器５６，微差圧検出器５６により検出された検出値に基づいて給気ユニット５２及び排気ユニット５４を制御するコントロールユニット５８を備えて構成されている。 ５４，室内と室外との圧力差を検出する微差圧検出器５６，微差圧検出器５６により検出された検出値に基づいて給気ユニット５２及び排気ユニット５４を制御するコントロールユニット５８を備えて構成されている。 給気ユニット５２は，室外の空気を取り込むための給気グリル６０を有し，15この給気グリル６０の下流側に，室外から室内に供給される空気量を調整するための給気量調整電磁弁６２が３つ設けられている。また，給気量調整電磁弁６２の下流側の空気通路６４内には，送風機６６，ＨＥＰＡ（ｈｉｇｈ ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ ａｉｒ）フィルタ６８が順次設けられている。 20排気ユニット５４は，給気通路７０内にＨＥＰＡフィルタ７２を有し，ＨＥＰＡフィルタ７２の下流側に室内から室外に排気される空気量を調整するための排気量調整電磁弁７４が３つ設けられている。また，排気量調整電磁弁７４の下流側には，白金触媒およびヒータを備えて構成されるエアー処理装置７６が設けられている。ここで，このエアー処理装置７６には，電磁弁７８を介し25て室外の空気が供給される。この室外の空気の供給により触媒の温度を一定に82保つことができる。 更に，排気量調整電磁弁７４の下流側には，エアー処理装置７６を通過した空気および給気グリル８０から取込んだ空気を室圧調整装置６外に排気するための送風機８２が設けられている。」（１３頁末行～１４頁末行）(8) 「微差圧検出器５６は，室壁５０に設けられ，信号線を介してコントロール5ユニット５８に接続されており，この微差圧検出器５６により検出された室内と室外との圧力差がコントロールユニット５８に入力される。 コントロールユニット５８は，信号線を介して給気ユニット５２の給気量調整電磁弁６２及び送風機６６に接 微差圧検出器５６により検出された室内と室外との圧力差がコントロールユニット５８に入力される。 コントロールユニット５８は，信号線を介して給気ユニット５２の給気量調整電磁弁６２及び送風機６６に接続されていると共に，排気ユニット５４の排気量調整電磁弁７４，電磁弁７８及び送風機８２に接続されている。コントロ10ールユニット５８は，微差圧検出器５６の検出値に基づいて，給気量調整電磁弁６２，送風機６６，排気量調整電磁弁７４及び送風機８２等の制御を行う。 なお，コントロールユニット５８には，微差圧検出器５６による検出値を常時記憶する記憶装置８４及び記憶装置８４に記憶されている検出値を出力するプリンタ等の出力装置８６が接続されている。」（１５頁１行～１１行）15「このホルムアルデヒドガス殺菌装置においては，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４のポンプ２６により外気をホルムアルデヒドガス入口１０２より室内に導入し，さらに排ガス出口１０４よりポンプ２８を通じて外気へ排気する。湿度センサ１４，温度センサ１６により得られた室内の温度及び湿度がそれぞれ所定の温度２０～４０℃，および湿度の範囲５０～９０％（相対湿度）20の範囲になるように制御器２４にて湿度調節器３２及び温度調節器３４で調節する。さらに，ホルムアルデヒドガス発生器３６およびポンプ２６にて所定のホルムアルデヒドガス濃度１６０ｐｐｍ以上を維持するように調節し所定の時間維持する。このため濃度センサ１２，湿度センサ１４，温度センサ１６によりホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度のそれぞれをモニタし，得られた値25に基づいて制御器２４で必要な計算を行い，制御ライン３８，４０，４２，４83４を通じてホルムアルデヒドガス発生器３６，温度調節器３４，湿度調節器３２，ポンプ２６を制御する。 ，得られた値25に基づいて制御器２４で必要な計算を行い，制御ライン３８，４０，４２，４83４を通じてホルムアルデヒドガス発生器３６，温度調節器３４，湿度調節器３２，ポンプ２６を制御する。」（１５頁１２行～２３行）(9) 「ここで所定時間，室内の温度，湿度，ホルムアルデヒドガスの濃度がそれぞれ温度２０～４０℃の範囲，湿度５０～９０％（相対湿度）の範囲，ホルムアルデヒドガス濃度１６０ｐｐｍ以上を維持している間，室圧調整装置により5室内の圧力を陽圧力に維持する。即ち，図３に示すフローチャートに示す処理により，室内を陽圧力（１０～２０Ｐａ）に維持する。なお，このフローチャートに基づく制御は，コントロールユニット５８により微小時間間隔ごとに繰り返して行われる。」（１５頁２６行～１６頁３行）「まず，コントロールユニット５８は，微差圧検出器５６により検出された10室内と室外との圧力差を取得し（ステップＳ１０），記憶装置８４に記憶する（ステップＳ１１）。次に，圧力差が１０～２０Ｐａの場合には（ステップＳ１２）正常な圧力であることから，ステップＳ１０の処理に戻って，圧力差検出（ステップＳ１０），検出値記憶（ステップＳ１１）等の処理を続行する。 一方，微差圧検出器５６により検出された室内と室外との圧力差が１０Ｐａ15以下の場合には（ステップＳ１２）室圧が低すぎることから室内への給気を行う（ステップＳ１４）。即ち，給気量調整電磁弁６２及び送風機６６に制御信号を送り給気量調整電磁弁６２を所定時間開くと共に送風機６６の運転を行う。 これにより室外の空気が･･･室内に供給され，室内の圧力が給気量調整電磁弁６２の開時間に対応する値だけ上昇する。･･･20また，微差圧検出器５６により検出された室内と室外との圧力差が２０Ｐａ以上 より室外の空気が･･･室内に供給され，室内の圧力が給気量調整電磁弁６２の開時間に対応する値だけ上昇する。･･･20また，微差圧検出器５６により検出された室内と室外との圧力差が２０Ｐａ以上の場合には（ステップＳ１２）室圧が高すぎることから室外への排気を行う（ステップＳ１３）。即ち，排気量調整電磁弁７４及び送風機８２に制御信号を送り排気量調整電磁弁７４を所定時間開くと共に送風機８２の運転を行う。 これにより室内の空気がＨＥＰＡフィルタ７２，排気量調整電磁弁７４，エア25ー処理装置７６を介して室外に排気され，室内の圧力が排気量調整電磁弁７４84の開時間に対応する値だけ降下する。」（１６頁４行～２４行）「この室圧制御装置６によれば，室内と室外との圧力差を常時１０～２０Ｐａに維持することができるため，ホルムアルデヒドガスを用いて室内の殺菌を行う場合に，室内温度の上昇により室内空気の体積が増加した場合においても，ホルムアルデヒドガスがエアー処理装置７６で処理された後に排出されるため，5ホルムアルデヒドガスが未処理のまま室外に漏れ出すのを防止することができる。また検出された室内と室外の圧力差は時系列的に記憶装置８４に記憶されていることから，記憶装置８４に記憶されている検出値を出力装置８６により出力することにより，この出力結果に基づいて室内の圧力が常に所定の陽圧に維持できていたことを保証することができる。従って，ホルムアルデヒドガス10が未処理のまま室外の漏れ出していないことの保証を行うことが可能になる。」（１６頁２７行～１７頁７行）(10) 「なお，上述の第２の実施の形態においては，室圧調整装置６にエアー処理装置７６が設けられているが，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４の排ガス処理器４６を用いてホルムアルデヒドガスの 行）(10) 「なお，上述の第２の実施の形態においては，室圧調整装置６にエアー処理装置７６が設けられているが，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４の排ガス処理器４６を用いてホルムアルデヒドガスの処理を行うことも可能である。」15（１７頁１３行～１５行）「本発明の装置は，一体型のハウジング構造を有するものであり，被殺菌空間の外に設けて，ホルムアルデヒドガスを被殺菌空間内に導入し，かつ被殺菌空間内からの排ガスを処理してクリーン排気が可能となる。また，取り外すことも容易である。さらに，本発明にかかる装置は，容易に被殺菌空間のある場所20へ移動することが可能であり，救急車の室内，移動型（テントを含む）手術室やバイオクリーンルーム内を容易に保証可能とするに十分な殺菌を行うことができる。」（１７頁１６～２１行）(11) 「また，本発明にかかる装置によれば，室内温度の上昇により室内の空気の体積が増加したような場合においてもホルムアルデヒドガスが未処理のまま25室外に漏れるのを防止することができ，また十分に保証可能な殺菌効果を得る85ことができる。」（１７頁２８行～１８頁２行）(12) 「産業上の利用可能性以上のように，この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置は被殺菌空間を十分に保証可能な程度に殺菌することに適している。」（１８頁３行～５行） 586【図１】 87 88（別紙４）１ 甲２３（特開２００１－３４９５８６号公報。公開日平成１３年１２月２１日）【請求項１】 密閉された室内の圧力を調整する室圧調整装置であって，前記室内に室外の空気を給気する給気ユニットと，前記室内の空気を前記室外に排気する排気ユニットと，5前記室内と前記室外との圧力差を検出する された室内の圧力を調整する室圧調整装置であって，前記室内に室外の空気を給気する給気ユニットと，前記室内の空気を前記室外に排気する排気ユニットと，5前記室内と前記室外との圧力差を検出する圧力差検出手段と，前記圧力差検出手段により検出された検出値に基づいて前記給気ユニット及び前記排気ユニットを制御する制御手段と，前記圧力差検出手段による前記検出値に基づいて前記室圧の制御状況を出力する制御状況出力手段とを備えることを特徴とする室圧調整装置。 10【請求項２】 前記制御装置は，前記室内の圧力を前記室外の圧力に対して陽圧に制御することを特徴とする請求項１記載の室圧調整装置。 【請求項３】 前記制御装置は，前記室内の圧力を前記室外の圧力に対して陰圧に制御することを特徴とする請求項１記載の室圧調整装置。 【０００２】15【従来の技術】…また，バイオハザードルーム等においては，汚染されている恐れのある空気が室外に漏れることのないように室内の圧力を室外の圧力よりも低く維持することが望まれる。 【０００７】また，請求項３記載の室圧調整装置は，前記制御装置が前記室内の圧力を前記室外の圧力に対して陰圧に制御することを特徴とする。この請求項３20記載の室圧調整装置によれば，室内が汚染されている恐れがある場合において，常時室内を陰圧に維持することにより室内の汚染された恐れのある空気が室外に排出されるのを防止することができる。 【００１９】また，給気ユニット１２の空気通路２４内にＨＥＰＡフィルタ２８が設けられているため，室内を滅菌する場合等において，室圧が低くなりすぎた25場合等室内に給気を行う必要が生じた場合においても室内に室外の空気に存在89する微細粒子が侵入するのを防止することができる。なお，上述の実施の形態にお 合等において，室圧が低くなりすぎた25場合等室内に給気を行う必要が生じた場合においても室内に室外の空気に存在89する微細粒子が侵入するのを防止することができる。なお，上述の実施の形態においては，室内の圧力を陽圧力に維持する制御を行っているが，室内の圧力を陰圧力に維持する制御を行うようにすることも可能である。なお，陰圧力とは，(室内圧力)－(室外圧力)が負の値を示す場合をいう。 【００２０】バイオハザードルーム，ケミカルハザードルーム等においては，室5内の空気が汚染されている可能性があることから室内の空気が室外に漏れるのを防止する必要がある。この室圧制御装置２によれば，室内と室外との圧力差を常時１０～２０Ｐa（室内の圧力を室外の圧力に対して－１０～－２０Ｐa）に維持することができ，また検出された圧力差は時系列的に記憶装置４４に記憶されていることから，記憶装置４４に記憶されている検出値を出力装置４６により出10力することにより，この出力結果に基づいて室内の圧力が常に陰圧に維持できていたことを保証することができる。従って，バイオハザードルーム等の空気が室外に漏れていないことを保証することにより室外の汚染がないことを保証することができる。 ２ 甲８２（特開平１０－１３２３４６号公報。公開日平成１０年５月２２日）15【０００４】…バイオハザード対策施設は，人体にとって無害とは断言できない微生物，例えば一般病原体，腫瘍ビールス，組換えＤＮＡ操作による組換え体等を取り扱っている。そこで，バイオハザード対策施設では，バイオハザード，即ち人間が微生物感染により直接または間接に受ける災害を防止する対策が講じられていて，バイオハザードが対象となる実験室等の室内を陰圧にして，空気の20流れを隙間からの漏洩も含めて室外から室内への ち人間が微生物感染により直接または間接に受ける災害を防止する対策が講じられていて，バイオハザードが対象となる実験室等の室内を陰圧にして，空気の20流れを隙間からの漏洩も含めて室外から室内への一方向の流れに維持し，室内のバイオハザード源の外部漏洩を防止している。また，ケミカルハザード対策施設は，環境を汚染し，人体にとって有害な化学物質を取り扱っているので，バイオハザード対策施設と同じく，実験室等の室内を陰圧にして，空気の流れを隙間からの漏洩も含めて室外から室内への一方向の流れに維持し，室内のケミカルハザ25ード源の外部漏洩を防止している。 90３ 甲８３（特開平１１－３４７１０６号公報。公開日平成１１年１２月２１日）【０００８】【課題を解決するための手段】本方法発明は，滅菌処理を行う滅菌対象物を収納した滅菌処理庫に対し，減圧及びオゾンガスの導入を交互に行い，前記滅菌対象物を滅菌するものである。 5【００６４】すなわち，滅菌処理庫５内をオゾンガス４供給時にも大気圧により低い圧力に保つことにより，滅菌処理庫５から外部へのオゾンガス４のリークを防止することができる。 ４ 甲８４（特開平４－６４８４６号公報。公開日平成４年１２月１７日）【請求項１】 大略的に直方体であって，ベッドを収納するベッド収納空間を有10し，少なくとも２つの側壁にベッド収納空間と連通する開口端を有するベッドルームユニットと，ベッドルームユニットの少なくとも１つの開口端に着脱可能であり，その開口端に清浄空気を供給する清浄空気供給源と，ベッドルームユニットのもう１つの開口端に着脱可能であり，開閉扉を有し，またはベッド収納空間に連通する空間を形成する補助ユニットとを含み，ベッドルームユニットに滅菌15性ガス供給接続口と，内圧調整用排気接続 ニットのもう１つの開口端に着脱可能であり，開閉扉を有し，またはベッド収納空間に連通する空間を形成する補助ユニットとを含み，ベッドルームユニットに滅菌15性ガス供給接続口と，内圧調整用排気接続口を設け，前者より滅菌性ガスを供給しベッドルーム内部を消毒する一方，後者を通じてベッドルーム内部が常に負圧になるように排気量を調節し，さらに排気ラインに滅菌性ガスを無害化する手段を介して排出することにより，無菌ベッド装置外部への滅菌性ガスの漏洩をなくすことを特徴とする無菌ベッド装置。 20【００１３】ベッドルームユニットおよび補助ユニットには，オゾン等の滅菌性ガスを供給する接続口と，内圧調整用排気接続口とを設ける。供給接続口からオゾンなどの滅菌性ガスを供給してベッドルームユニット内部と補助ユニット内部となどを消毒することができる。また内圧調整用排気接続口を通じてベッドルームユニット内部および補助ユニット内部などを常に負圧になるように排気量25を調節し，これによってオゾンが外部に漏洩することが防がれる。内圧調整用排91気接続口から排出されるガスの排気ラインに，無害化手段であるデオゾナイザを設けて，滅菌性ガスであるたとえばオゾンの一部を酸素にして無害化し，こうして無害化したガスを大気に放散して排出する。･･･【００３０】図１０は，本発明の一実施例の全体の系統図である。ベッドルームユニット２またはこの図１０の実施例では，扉ユニット４に，滅菌性ガスである5オゾンを供給する供給接続口７１を設け，ベッドルームユニット２には内圧調整用排気接続口７２を設ける。供給接続口７１には，オゾナイザ７３からの外部からの空気もしくは酸素または管路７９からの循環ガスから得られるオゾンを管路７４を介して，流量制御弁である可変オリフィス７５を介して供給する ７２を設ける。供給接続口７１には，オゾナイザ７３からの外部からの空気もしくは酸素または管路７９からの循環ガスから得られるオゾンを管路７４を介して，流量制御弁である可変オリフィス７５を介して供給する。これによって，ベッドルームユニット２および扉ユニット４内の内部を消毒すること10ができる。排気接続口７２からのガスの一部は，誘引ファン７６を介してデオゾナイザ７７に導いて，オゾンを酸素として無害化し，大気放散する。誘引ファン７６を用いることによって，ベッドルームユニット２および扉ユニット４内を常に負圧とし，これによってオゾンが外部に漏洩することを防ぐ。ベッドルームユニット２内の圧力は，圧力検出器７８によって検出し，調節計７９によって可変15オリフィス７５の開度を変化させ，このベッドルームユニット２内の圧力を負圧の予め定める一定値に保つことができる。･･･こうして，ベッドルームユニット２および扉ユニット４内を，患者がいない状態で消毒を行い，その消毒中におけるオゾンの外部への漏洩を防ぐことができ，しかもこのような消毒作業は簡便に行うことができる。･･･ 2092（別紙５）１ 甲８１（「化学大辞典」（第１版）（大木道則ほか編集／株式会社東京化学同人。 １９８９年１０月２０日発行）「ホルムアルデヒド[formaldehyde]…鋭い刺激臭を有する無色の可燃性気体。石炭や木を燃やした煙の中に存在し，粘膜に対し非常に刺激的で発がん性がある。」5（２２６１頁右欄２３行～２８行）２ 甲８５（JIS T 7328: 2005 ホルムアルデヒドガス消毒器）（日本規格協会／日本医療機器工業会。２００５年）「ホルムアルデヒドガス消毒器…１．適用範囲 この規格は，医療機器(被消毒物)の消毒に用いるホルムアルデ10ヒドガス アルデヒドガス消毒器）（日本規格協会／日本医療機器工業会。２００５年）「ホルムアルデヒドガス消毒器…１．適用範囲 この規格は，医療機器(被消毒物)の消毒に用いるホルムアルデ10ヒドガス消毒器(以下，消毒器という。)のうち使用圧力が常圧及び大気圧以下の消毒器の，安全性，性能，試験及び表示に関する要求事項について規定する。」（３頁３行～７行）「４．２消毒器の安全性４．２．１ 扉又はふたのインターロック 消毒器は必ず，通常の動作条件に15おいてチャンバの扉又はふたがロックされていないときにガスがチャンバ内に供給されないよう設計された自動インターロック機構を備えなければならない。 ４．２．２ 作業者へのホルムアルデヒド暴露防止 消毒器は作業者の暴露防止のためにIEC61010-2-042:1997 の13.1.101 に適合しなければならない。 ガス漏れが発生したとき，別に設けたガス漏れ警報器などと連動してガスの20供給停止，チャンバ内の減圧，警報表示などを，自動的に行う構造とする。ただし，ガス供給が大気圧より陰圧で実施される消毒器は除く。」（５頁２０行～３１行）３ 甲８８（特許第２６９０５１８号公報。公開日平成９年８月２９日）「第１～２図は，本発明を説明する為の図で，･･･，第２図は滅菌作業の進行に伴25なう滅菌容器内の圧力の変化と構成要素の状態との関係を時間の経過と共に示93す線図である。」（２頁左欄３６行～３９行）「滅菌作業を行なう場合，先ず滅菌容器１内に被滅菌物を収納した後滅菌容器１の蓋２を閉じ，真空ポンプ３を運転して，滅菌容器１内を負圧にし，被滅菌物内の空気を排出する真空行程を行なって，この被滅菌物の内部に迄滅菌ガスが進入し易い状態とする。この真空行程の後，加湿弁４を適当な時間だ5け 空ポンプ３を運転して，滅菌容器１内を負圧にし，被滅菌物内の空気を排出する真空行程を行なって，この被滅菌物の内部に迄滅菌ガスが進入し易い状態とする。この真空行程の後，加湿弁４を適当な時間だ5け開き，上記被滅菌物を加湿する加湿行程を行なって，後から滅菌容器１内に送り込まれる滅菌ガスと被滅菌物との馴染み性を良くする。 この加湿行程の後，加湿真空行程を経てから，ホルマリン移送用の定量ポンプ５の運転と，電磁弁６の開放と，ホルマリンを加熱し気化させる為の気化タイマのON と，気化により生じたホルムアルデヒドを滅菌容器１に送り込む為10の電磁弁７の開放とを適宜繰り返し，滅菌用のホルムアルデヒドを発生すると共に，比較的少量のホルムアルデヒドを滅菌容器１内に送り込む作業を繰り返し行なうホルマリンパルス行程を行なって，後から多量に送り込まれるホルムアルデヒドと被滅菌物との馴染性を一層良くする。 これら，真空，加湿，加湿真空，ホルマリンパルスの各行程を終了した後，15滅菌容器１内に比較的多量のホルムアルデヒドを送り込み，この滅菌容器１内に収納された被滅菌物の滅菌処理（消毒）を行なう。」（２頁左欄第４２行～同頁右欄第１３行）「第２図は滅菌作業の進行に伴なう滅菌容器内の圧力の変化と構成要素の状態との関係を時間の経過と共に示す線図である。」（３頁左欄第４行～同頁右欄第20１行） 94【第２図】 ４ 甲９４（「ヘルスケア製品の滅菌及び滅菌保証」（２０１１年４月２５日発行)財団法人日本規格協会） 5「7.6.1.2 プロセスの特性低温蒸気ホルムアルデヒド滅菌（Low Temperature Steam and Formaldehyde95sterilizer,以下，LTSF と 5「7.6.1.2 プロセスの特性低温蒸気ホルムアルデヒド滅菌（Low Temperature Steam and Formaldehyde95sterilizer,以下，LTSF と呼ぶ）のプロセスには以下を含まなければならない。 これらを，滅菌器内での圧力変化の様子と一緒に表すと，図７．３のようになる。 ① 空気除去② コンディショニング5③ 滅菌剤注入④ 平衡時間と保持時間⑤ 脱離⑥ 空気の注入により大気圧への復圧LTSF の滅菌プロセスを達成するためには，まず使用するホルムアルデヒド10濃度を２～３８％の間で選択し，その濃度に合わせた滅菌プロセスを定義する必要がある。使用するホルムアルデヒド濃度によって滅菌プロセスを形成する各パラメータの設定が異なり，滅菌性能や乾燥性能に違いが発生する。」（３０８頁右欄）「(2) 滅菌動作15－１０kPa において１２％ホルムアルデヒド水溶液を入れてから－８０kPaまで減圧し，加熱して気化させる。１０分間その状態を保持後，フィルターを通した空気をチャンバに入れ，圧力を－１０kPa まで復圧させる。 そのときの圧力の上昇により被滅菌物の滅菌が困難な内腔まで滅菌剤を曝露させる。その圧力を５分間保持してから再び１２％ホルムアルデヒド水溶液を20入れる動作とその後の一連の減圧・加熱気化・空気導入による復圧を１２回繰り返す。 作用時間：１８０分１２％ホルムアルデヒド水溶液の使用量：９０mL」（３１７頁左欄）５ 甲９５「ホルムアルデヒドガス滅菌の特性と実機材の概要」（感染制御第７巻第25２号。平成２３年４月２５日発行）96「ホルムアルデヒドは，･･･蒸気は，一定濃度を超えると粘膜，気道に対し刺激性があり，いわゆるシックハウス症 性と実機材の概要」（感染制御第７巻第25２号。平成２３年４月２５日発行）96「ホルムアルデヒドは，･･･蒸気は，一定濃度を超えると粘膜，気道に対し刺激性があり，いわゆるシックハウス症候群の原因物質のひとつとされている。本邦では労働安全衛生法施行令及び特定化学物質障害予防規則等が一部施行され，ホルムアルデヒドが特定化学物質の第３類物質から第２類物質に位置づけれている･･･。また，ＷＨＯの国際がん研究機関（IARC；International Agency for5Research on Cancer）では，ホルムアルデヒドを「ヒトに発がん性がある」グループ１に分類している。」（１１９頁左欄下から５行から右欄下から７行）「HS6610 TURBO LTSF の処理方法は低温蒸気ホルムアルデヒド滅菌である。すなわち，搭載された気化器を通して蒸気とホルマリンを陰圧にしたチャンバ内にある被滅菌物に均一にいきわたるよう数回に分けて注入する。これに対し，PS-10140R はプレバキューム方式をとっている。ポンプでチャンバ内を陰圧にし，ホルマリン液を気化させて被滅菌物に作用させる。」（１２０頁右欄下から１３行から６行）
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