平成３１年２月２８日判決言渡平成３０年（行ケ）第１００６４号審決取消請求事件口頭弁論終結日平成３１年１月１７日判決 原告株式会社ウイングターフ 訴訟代理人弁理士実広信哉同塩尻一尋同浜井英礼 被告株式会社シーライブ 訴訟代理人弁理士小池晃同河野貴明同村上浩之同北原明彦 主文 １ 特許庁が無効２０１７－８００００４号事件について平成３０年３月２７日にした審決を取り消す。 ２ 訴訟費用は被告の負担とする。 事実及び理由 第１ 請求主文第１項と同旨第２ 事案の概要 １ 特許庁における手続の経緯等 ⑴ 被告及び株式会社ノベルト（以下「ノベルト」という。）は，平成２４年３月１９日，発明の名称を「核酸分解処理装置」とする発明について特許出願（特願２０１２－６２８８０号。以下「本件出願」という。）をし，平成２６年１月２４日，特許権の設定登録（特許番号第５４６３３７８号。請求項の数４。以下，この特許を「本件特許」という。甲２１）を受けた。 ⑵ 原告は，平成２９年１月１７日，本件特許について特許無効審判を請求（無効２０１７－８００００４号事件）した（甲２２，４４）。 被告及びノベルトは，同年１１月３０日付けの審決の予告（甲３５）を受けたため，同年１２月２７日付けで，請求項１ないし４からなる一群の請求 効２０１７－８００００４号事件）した（甲２２，４４）。 被告及びノベルトは，同年１１月３０日付けの審決の予告（甲３５）を受けたため，同年１２月２７日付けで，請求項１ないし４からなる一群の請求項について，請求項２ないし４を訂正し，請求項１を削除する，本件出願の願書に添付した明細書（以下，図面を含めて「本件明細書」という。）について訂正する旨の訂正請求（以下「本件訂正」という。甲３７）をした。 その後，特許庁は，平成３０年３月２７日，本件訂正を認めた上で，「本件審判の請求は，成り立たない。」との審決（以下「本件審決」という。）をし，その謄本は，同年４月５日，原告に送達された。 この間に被告は，ノベルトから本件特許に係る特許権の持分の譲渡を受け，その旨の移転登録（受付日平成３０年１月５日）を受けた（甲４４）。 ⑶ 原告は，平成３０年５月２日，本件審決の取消しを求める本件訴訟を提起した。 ２ 特許請求の範囲の記載本件訂正後の特許請求の範囲の請求項２ないし４の記載は，以下のとおりである（以下，請求項２に係る発明を「訂正発明２」，請求項３に係る発明を「訂正発明３」及び請求項４に係る発明を「訂正発明４」という。甲３７）。 【請求項２】メタノールタンクから供給されたメタノールを霧状に噴射するノズルを備え，該ノズルを介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガスを発生 させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方に位置して，熱反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部とからなり，該上部には空気を供給する空気供給部が連結されており，該メタノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該空気供給部から供給された空気を所定の割合で混 空気供給部が連結されており，該メタノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該空気供給部から供給された空気を所定の割合で混合させる筒体部と，上記筒体部の上方に位置し，該筒体部において上記所定の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを有し，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒より構成され，該ラジカル反応触媒を複数積層してなり，空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して少なくともメタノールに由来する活性種を含み生成される複合ガス（以下「バイオガス」という）を発生するバイオガス発生部と，上記バイオガス発生部における生成ガス量を供給空気量とメタノール量で制御する生成ガス量制御手段と，上記バイオガス発生部により発生したバイオガスが供給される暴露部と，上記暴露部の暴露空間内の温度を制御する温度制御手段と，上記暴露部の暴露空間内の湿度を制御する湿度制御手段と，上記暴露部に供給されたバイオガスを排気する排気処理部と，上記排気処理部により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御するバイオガスの排気量制御手段と，上記暴露部におけるバイオガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定するホルムアルデヒド成分濃度測定手段と，臭いを検出又は測定する手段を備え，上記ホルムアルデヒド成分濃度測定手段による測定結果として得られるガス濃度情報が上記生成ガス量制御手段に帰還され，上記バイオガス発生部において，一定の触媒の自己反応温度と濃度のバイオガスとなるように，上記生成 ガス量制御手段により上記バイオガス発生部における生成ガス量が供給空気量とメタノール量で制御されるととも オガス発生部において，一定の触媒の自己反応温度と濃度のバイオガスとなるように，上記生成 ガス量制御手段により上記バイオガス発生部における生成ガス量が供給空気量とメタノール量で制御されるとともに，上記排気量制御手段により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内ガス濃度を一定にし，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による上記暴露部の暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出する庫内差圧検出手段を備え，上記庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排気量制御手段により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内差圧を一定にすることを特徴とする核酸分解処理装置。 【請求項３】上記バイオガス発生部は，メタノール，ホルムアルデヒド，一酸化炭素，二酸化炭素，水素，酸素の成分を少なくとも含有した活性酸素とフリーラジカルからなる複合ラジカルガスを発生することを特徴とする請求項２に記載の核酸分解処理装置。 【請求項４】上記バイオガス発生部は，上記自己反応温度が４００℃～５００℃の範囲内に制御されることを特徴とする請求項３記載の核酸分解処理装置。 ３ 本件審決の理由の要旨(1) 本件審決の理由は，別紙審決書（写し）のとおりである。 その要旨は，請求人（原告）の主張する訂正発明２ないし４に係る無効理由１（本件出願前に頒布された刊行物である甲１（特開２０１０－５１６９２号公報）を主引用例とする進歩性の欠如），無効理由２（サポート要件違反），無効理由３（実施可能要件違反）及び無効理由４（明確性要件違反）は，いずれも理由がないというものである。 (2) 本件審決が認定し 引用例とする進歩性の欠如），無効理由２（サポート要件違反），無効理由３（実施可能要件違反）及び無効理由４（明確性要件違反）は，いずれも理由がないというものである。 (2) 本件審決が認定した甲１に記載された発明（以下「甲１発明」という。），訂正発明２と甲１発明の一致点及び相違点，無効理由１についての判断の要旨は，以下のとおりである。 ア甲１発明メタノールタンクから供給されたメタノールを霧状に噴射するノズルを備え，該ノズルを介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方に位置して，熱反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部とからなり，該上部には空気を供給する空気供給部が連結されており，上記メタノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該空気供給部から供給された空気を所定の割合で混合させる筒体部と，上記筒体部の上方に位置し，該筒体部において上記所定の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを有し，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒より構成され，該ラジカル反応触媒を複数積層してなり，空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して，ＭＲガスを発生するＭＲガス発生装置と，上記ＭＲガス発生装置における生成ＭＲガス量を供給空気量とメタノール量で制御する生成ＭＲガス量制御手段と，上記ＭＲガス発生装置から発生したＭＲガスによって滅菌処理を施す滅菌タンクを備えた滅菌処理装置であって，ＤＮＡを破壊することが可能な滅菌処理装置。 イ訂正発明２と甲１発明の一致点及び相違点（一致点）「メタノールタンクから Ｒガスによって滅菌処理を施す滅菌タンクを備えた滅菌処理装置であって，ＤＮＡを破壊することが可能な滅菌処理装置。 イ訂正発明２と甲１発明の一致点及び相違点（一致点）「メタノールタンクから供給されたメタノールを霧状に噴射するノズルを備え，該ノズルを介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上 方に位置して，熱反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部とからなり，該上部には空気を供給する空気供給部が連結されており，上記メタノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該空気供給部から供給された空気を所定の割合で混合させる筒体部と，上記筒体部の上方に位置し，該筒体部において上記所定の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを有し，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒より構成され，該ラジカル反応触媒を複数積層してなり，空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して，ＭＲガスを発生するＭＲガス発生装置と，上記ＭＲガス発生装置における生成ＭＲガス量を供給空気量とメタノール量で制御する生成ＭＲガス量制御手段と，上記ＭＲガス発生装置から発生したＭＲガスが供給される滅菌タンクを備えたＤＮＡ破壊処理装置。」である点。 （相違点１）訂正発明２は，滅菌タンク内の温度を制御する温度制御手段と，滅菌タンク内の湿度を制御する湿度制御手段と，滅菌タンクに供給されたＭＲガスを排気する排気処理部と，上記排気処理部により滅菌タンクから排気するＭＲガスの排気量を制御するＭＲガスの排気量制御手段と，滅菌タンクにおけるＭＲガスのホル 制御手段と，滅菌タンクに供給されたＭＲガスを排気する排気処理部と，上記排気処理部により滅菌タンクから排気するＭＲガスの排気量を制御するＭＲガスの排気量制御手段と，滅菌タンクにおけるＭＲガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定するホルムアルデヒド成分濃度測定手段と，臭いを検出又は測定する手段を備え，上記ホルムアルデヒド成分濃度測定手段による測定結果として得られるガス濃度情報が生成ＭＲガス量制御手段に帰還され，ＭＲガス発生装置において，一定の触媒の自己反応温度と濃度のＭＲガスとなるように，生成ＭＲガス量制御手段によりＭＲガス発生装置における生成ＭＲガス量が供給空気量とメタノール量で制御されるとともに，上記排気量制御手段により 滅菌タンクから排気するＭＲガスの排気量を制御することにより，滅菌タンクの庫内ガス濃度を一定にするという構成を備えるのに対し，甲１発明は，かかる構成について記載されていない点。 （相違点２）訂正発明２は，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による滅菌タンク内のＭＲガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出する庫内差圧検出手段を備え，上記庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排気量制御手段により滅菌タンクから排気するＭＲガスの排気量を制御することにより，滅菌タンクの庫内差圧を一定にするという構成を備えるのに対し，甲１発明は，かかる構成について記載されていない点。 ウ無効理由１についての判断の要旨本件審決は，無効理由１について，①相違点１の容易想到性は認められるが，相違点２の容易想到性は認められないから，甲１発明に甲２（国際公開第０１／０２６６９７号の再公表公報）に記載された発明及び周知技術を組み合わせることにより，当業者が訂正発明２を容 性は認められるが，相違点２の容易想到性は認められないから，甲１発明に甲２（国際公開第０１／０２６６９７号の再公表公報）に記載された発明及び周知技術を組み合わせることにより，当業者が訂正発明２を容易に発明をすることができたということはできない，②訂正発明２を引用する訂正発明３，訂正発明３を引用する訂正発明４についても，同様に当業者が容易に発明をすることができたということはできない旨判断した。 第３ 当事者の主張 １ 取消事由１－１（甲１を主引用例とする訂正発明２の進歩性の判断の誤り）について⑴ 原告の主張ア相違点２の容易想到性の判断の誤り(ア) 訂正発明２の「庫内差圧検出手段」の意義等本件審決は，①本件明細書の【０１４３】ないし【０１４７】の記載 事項によれば，訂正発明２の「庫内差圧検出手段」は，「滅菌タンク内がタンク外よりも陰圧であることを検出する庫内差圧検出手段であって，滅菌タンク内のＭＲガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出するものである」と認められる，②滅菌タンク内の圧力は，訂正発明２では，陰圧を維持するように制御するのに対して，甲２には，陽圧を維持するように制御することが記載されており，滅菌タンク内の圧力を陰圧に維持するように滅菌タンクからのＭＲガスの排気量を制御して，滅菌タンクの庫内差圧を一定にしようとすることは，甲２の記載から導き出せる事項ではないから，甲１発明に甲２に記載された発明を適用しても，相違点２に係る訂正発明２の「庫内差圧検出手段」の構成を当業者が容易に想到することができたということはできない旨判断した。 しかしながら，訂正発明２の特許請求の範囲（請求項２）には，「上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による上記暴露部の暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因して生じる きない旨判断した。 しかしながら，訂正発明２の特許請求の範囲（請求項２）には，「上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による上記暴露部の暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出する庫内差圧検出手段」との記載があるが，「庫内差圧検出手段」とは暴露空間内が「陰圧」であることを検出するものであるとの限定は存在せず，暴露空間内を陰圧に維持するように制御するとの限定も存在しない。 また，「庫内差圧」は，暴露空間内の温度の上昇による空気の体積膨脹や暴露空間へのバイオガス（ＭＲガス）の供給量と暴露空間からのバイオガスの排気量との相対的バランスなどの様々な要因によって生じることは，当業者にとって自明である。例えば，バイオガスの供給量がバイオガスの排気量を上回れば庫内差圧は「陽圧」となる傾向があるのに対し，バイオガスの供給量がバイオガスの排気量を下回れば庫内差圧は「陰圧」となる傾向があり，バイオガス（ＭＲガス）の排気処理は，必ず暴露空間内を「陰圧」とするわけではない。 したがって，請求項２の「庫内差圧」が「上記排気量制御手段によ り制御される排気処理手段による上記暴露部の暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因して生じる」との文言は，「庫内差圧」がバイオガスの排気状況に依存して生じることを意味するに過ぎず，「庫内差圧」が「陰圧」と同義であることを意味するものとはいえないから，本件審決における訂正発明２の「庫内差圧検出手段」の解釈には誤りがある。 以上によれば，本件審決の上記判断は，その前提において，誤りがある。 (イ) 甲２の開示事項甲２の記載事項（１４頁１１行，１５頁２６行～１６頁９行，１６頁１８行～２６行，１７頁１３行～１５行，図１及び２）によれば，甲２記載の「第２の実施の形態」（図２）は， (イ) 甲２の開示事項甲２の記載事項（１４頁１１行，１５頁２６行～１６頁９行，１６頁１８行～２６行，１７頁１３行～１５行，図１及び２）によれば，甲２記載の「第２の実施の形態」（図２）は，ＭＲガスの濃度を制御する「第１の実施の形態」に，微差圧検出器５６を備えた室圧調整装置６を付加したものであり，微差圧検出器５６によって検出されたＭＲガスによる処理が行われる室内と室外との気圧差の情報に基づいて，この気圧差が一定となるように，室圧調整装置６のコントロールユニット５８，排気量調整電磁弁７４及び送風機８２によってＭＲガスの排気を制御するものであり，また，ＭＲガスの濃度と上記室内外の気圧差とを同時に一定の値に制御している。 もっとも，甲２記載の「第２の実施の形態」では，ＭＲガスの濃度の制御はホルムアルデヒドガス供給排出装置４の制御器２４によって行われ，庫内差圧の制御は室圧調整装置６のコントロールユニット５８によって行われ，両制御は別々の装置によって行われているところ，訂正発明２の特許請求の範囲（請求項２）には，庫内ガス濃度の制御と庫内差圧の制御とを同一の装置で行うのか，別の装置で行うのかについて何ら規定されておらず，ましてや両制御を同一の装置で行うとの限定は存在 しないこと，本件明細書記載の訂正発明２の実施態様（図１）においても，庫内ガス濃度の制御はバイオガス発生部１１０で行われる一方で，庫内差圧の制御は排気処理部１４０で行われており，各制御は別々の装置で実施されていることからすると，「第２の実施の形態」におけるＭＲガスの濃度と上記室内外の気圧差の制御は，訂正発明２の庫内ガス濃度の制御及び庫内差圧の制御に含まれるというべきである。 そうすると，甲２記載の「微差圧検出器５６」，「コントロールユニット５８」及び「排気量調整 記室内外の気圧差の制御は，訂正発明２の庫内ガス濃度の制御及び庫内差圧の制御に含まれるというべきである。 そうすると，甲２記載の「微差圧検出器５６」，「コントロールユニット５８」及び「排気量調整電磁弁７４及び送風機８２」は，それぞれ，訂正発明２の「庫内差圧検出手段」，「上記庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が…帰還され」る「上記排気量制御手段」及び「上記排気量制御手段により制御される排気処理手段」に相当するものといえるから，甲２には，相違点２に係る訂正発明２の構成が開示されている。 これに反する本件審決の認定は誤りである。 (ウ) 相違点２の容易想到性本件審決が認定するように，当業者は，甲１発明の滅菌処理装置と甲２記載の殺菌装置は，いずれも同様のガスにより殺菌ないし滅菌を行う装置であると理解し，甲１発明に甲２に記載された技術的事項の適用を試みることに何らの困難性は認められないから，甲１及び甲２に接した当業者は，甲１発明に甲２記載の「第２の実施の形態」に係る技術的事項を組み合わせることにより，相違点２に係る訂正発明２の構成を容易に想到することができたものである。 イ小括以上のとおり，本件審決における相違点２の容易想到性の判断には誤りがある。また，相違点１が容易想到であることは本件審決の判断のとおりである。 そうすると，訂正発明２は，甲１発明及び甲２に記載された発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，これと異なる本件審決の判断は誤りである。 (2) 被告の主張ア相違点２の容易想到性の判断の誤りの主張に対し(ア) 訂正発明２の「庫内差圧検出手段」の意義等について訂正発明２は，「核酸分解処理装置」という機械（装置）の分野に属する発明で 告の主張ア相違点２の容易想到性の判断の誤りの主張に対し(ア) 訂正発明２の「庫内差圧検出手段」の意義等について訂正発明２は，「核酸分解処理装置」という機械（装置）の分野に属する発明であり，かつ，訂正発明２の「庫内差圧検出手段」という語は，一般通念としてはもとより，技術概念として定着しているものではない。 したがって，本件審決が，本件明細書の発明の詳細な説明を参酌して，訂正発明２の「庫内差圧検出手段」は，「滅菌タンク内がタンク外よりも陰圧であることを検出する庫内差圧検出手段であって，滅菌タンク内のＭＲガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出するものである」と解釈したことに誤りはない。 このように訂正発明２の「庫内差圧検出手段」は，滅菌タンク内がタンク外よりも陰圧であることを検出するものであるのに対して，甲２記載の微差圧検出器は，滅菌タンク内がタンク外よりも陽圧に維持されていることを検出するものであり，訂正発明２の庫内差圧検出手段と甲２記載の微差圧検出器とは，圧力差の制御手法が正反対のものであるから，甲２記載の微差圧検出器は，訂正発明２の「庫内差圧検出手段」に相当するものとはいえないとした本件審決の認定判断に誤りはない。 また，甲２に，「排気量制御手段により制御される排気処理手段による滅菌タンク内のＭＲガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出する庫内差圧検出手段」についての示唆はないとした本件審決の判断にも誤りはない。 (イ) 甲２の開示事項について 本件審決が認定するように，訂正発明２の特許請求の範囲（請求項２）の記載によれば，訂正発明２は，庫内ガス濃度情報を生成ＭＲガス量制御手段に帰還し，当該生成ＭＲガス量制御手段により生成ＭＲガス量を制御し，かつ，排気量制御手段により排気量を制御すること （請求項２）の記載によれば，訂正発明２は，庫内ガス濃度情報を生成ＭＲガス量制御手段に帰還し，当該生成ＭＲガス量制御手段により生成ＭＲガス量を制御し，かつ，排気量制御手段により排気量を制御することにより，滅菌タンクの庫内ガス濃度を一定にし，かつ，庫内差圧情報を排気量制御手段に帰還し，当該排気量制御手段により排気量を制御することにより滅菌タンクの庫内差圧を一定にするという２つの組み合わせた制御，すなわち，庫内ガス濃度情報及び庫内差圧情報という２つの情報を基に，生成ガス量及び排気量を調整し，庫内ガス濃度と庫内差圧の両者を一定にするという制御を行うものである。 これに対し甲２に記載された発明では，ＭＲガスの濃度の制御はホルムアルデヒドガス供給排出装置４側の制御器２４で，処理室内外の気圧差の制御は室圧調整装置６側のコントロールユニット５８で，別の装置で，別々に制御が行われているから（７頁１７行～８頁５行，１５頁１行～８行，図２），庫内ガス濃度と庫内差圧の両者を同時に一定の値にするという制御を行う訂正発明２と構成が異なるものである。 また，甲２には，庫内ガス濃度と庫内差圧の両者を同時に一定の値にするという制御を行うことについて記載も示唆もなく，その技術思想の開示はない。もっとも，甲２には，「なお，上述の第２の実施の形態においては，室圧調整装置６にエアー処理装置７６が設けられているが，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４の排ガス処理器４６を用いてホルムアルデヒドガスの処理を行うことも可能である。」との記載があるが，上記記載は，単に，第２の実施の形態において，ホルムアルデヒドガスの処理をホルムアルデヒドガス供給排出装置４の排ガス処理器４６でも行うことができることを記載しているに過ぎず，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４側の制御器２４により 態において，ホルムアルデヒドガスの処理をホルムアルデヒドガス供給排出装置４の排ガス処理器４６でも行うことができることを記載しているに過ぎず，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４側の制御器２４により庫内差圧の制御を行うことができ ることまで示唆するものではない。 したがって，甲２には，相違点２に係る訂正発明２の構成の開示はない。 (ウ) 相違点２の容易想到性について前記(ア)及び(イ)のとおり，甲２には，相違点２に係る訂正発明２の構成の開示はない。 そうすると，当業者は，甲１発明に甲２に記載された発明を適用しても，相違点２に係る訂正発明２の構成を容易に想到することができたものではない。 これと同旨の本件審決の判断に誤りはない。 イ小括以上のとおり，本件審決における相違点２の容易想到性の判断に誤りはないから，訂正発明２は，甲１発明に甲２に記載された発明及び周知技術を組み合わせることにより，当業者が容易に発明をすることができたということはできないとした本件審決の判断に誤りはない。 したがって，原告主張の取消事由１－１は理由がない。 ２ 取消事由１－２（甲１を主引用例とする訂正発明３及び４の進歩性の判断の誤り）について⑴ 原告の主張ア訂正発明３について訂正発明２は，甲１発明及び甲２に記載された発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであることは，前記１(1)イのとおりである。 訂正発明３は，訂正発明２のバイオガス発生部から発生するガスを，メタノール，ホルムアルデヒド，一酸化炭素，二酸化炭素，水素，酸素の成分を少なくとも含有した活性酸素とフリーラジカルからなる複合ラジカ ルガスと特定したものである。 しかるところ，甲１２の記載事項（【０００６】～【０００ 酸化炭素，二酸化炭素，水素，酸素の成分を少なくとも含有した活性酸素とフリーラジカルからなる複合ラジカ ルガスと特定したものである。 しかるところ，甲１２の記載事項（【０００６】～【０００９】)に照らすと，訂正発明２において，空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して生成するガスを，訂正発明３のように特定することは，当業者にとって格別の創意を要する事項とは認められない。 したがって，訂正発明３は，甲１発明に甲２及び甲１２に記載された発明を組み合わせることにより，当業者が容易に発明をすることができたものである。 イ訂正発明４について訂正発明４は，訂正発明３の触媒の自己反応温度が４００℃～５００℃の範囲内に制御されることを特定したものである。 しかるところ，甲１には「ラジカル化触媒反応の温度を約４５０～５００℃の範囲で変化させることが可能となる。」(【００４２】)との記載があるから，上記特定事項は，訂正発明４と甲１発明との相違点ではない。 したがって，訂正発明４は，甲１発明，甲２に記載された発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものである。 ウ小括以上によれば，訂正発明３及び４は当業者が容易に発明をすることができたということはできないとした本件審決の判断は誤りではある。 ⑵ 被告の主張前記１(2)イのとおり，訂正発明２は，甲１発明に甲２に記載された発明及び周知技術を組み合わせることにより，当業者が容易に発明をすることができたということはできないから，訂正発明２の発明特定事項を直接又は間接に引用する訂正発明３及び４も，当業者が容易に発明をすることができたということはできない。 したがって，これと同旨の本件審決の判断に誤りはないから，原告主張の取消事 定事項を直接又は間接に引用する訂正発明３及び４も，当業者が容易に発明をすることができたということはできない。 したがって，これと同旨の本件審決の判断に誤りはないから，原告主張の取消事由１－２は理由がない。 ３ 取消事由２（サポート要件の判断の誤り）について⑴ 原告の主張訂正発明２ないし４は，暴露部の空間内における温度，湿度及びバイオガス濃度の３つの要素をフィードバック制御することにより，短時間で効率的な核酸分解処理を行うという課題の解決を意図するものであるから，訂正発明２ないし４がサポート要件（特許法３６条６項１号に規定する要件）に適合するというためには，本件明細書の記載に基づいて上記課題を解決できると認識できることが必要となる。 しかし，訂正発明２ないし４の核酸分解処理装置の試験結果を示す本件明細書の図１９Ｂ及び図１９Ｃには，「９０ｍｉｎ」の時点で，核酸の分解が目的とするレベルまで行われていない状態が示されており，「短時間で効率的な核酸分解」を実現できない場合がある以上，本件明細書の記載に基づいて，訂正発明２ないし４がその課題を解決できるとは直ちに認識することはできない。 したがって，訂正発明２ないし４は，本件明細書の発明の詳細な説明に記載したものであるとはいえないから，訂正発明２ないし４がサポート要件に違反するものではないとした本件審決の判断は，誤りである。 ⑵ 被告の主張本件明細書の図１９Ｂ及び図１９Ｃの「９０ｍｉｎ」の時点でのスペクトル図は，核酸の分解が目的とするレベルまで行われていない状態や外部空間に漂う核酸が暴露空間内に混入している状態に相当するのではなく，何らかの理由により測定がうまくいっていないか，あるいはノイズが生じているものといえる。 図１９Ｂ及び図１９Ｃの他の時間のスペク 間に漂う核酸が暴露空間内に混入している状態に相当するのではなく，何らかの理由により測定がうまくいっていないか，あるいはノイズが生じているものといえる。 図１９Ｂ及び図１９Ｃの他の時間のスペクトル図を見れば明らかなよう に，図１９Ｂの４５℃，２μｌの場合には，「１ｍｉｎ」のスペクトル図から核酸が完全分解されており，図１９Ｃの３７℃，２μｌの場合でも，「５ｍｉｎ」のスペクトル図から核酸が完全分解されていることを見て取ることができる。 このように，「１ｍｉｎ」ないし「５ｍｉｎ」のスペクトル図において，核酸が完全分解されているスペクトル図が観測されている以上，その後，２μｌという少ないサンプル量で「９０ｍｉｎ」という長時間後のスペクトル図の１条件において正確に測定できていなかったとしても，それは測定条件の問題であり，訂正発明２ないし４が「短時間で効率的な核酸分解」を実現できないということにはならない。 以上によれば，訂正発明２ないし４は，本件明細書の発明の詳細な説明に記載したものであるといえるから，訂正発明２ないし４がサポート要件に違反するものではないとした本件審決の判断に誤りはない。 したがって，原告主張の取消事由２は理由がない。 ４ 取消事由３（実施可能要件の判断の誤り）について⑴ 原告の主張前記３⑴のとおり，訂正発明２ないし４には，「短時間で効率的な核酸分解」を実現できない場合があるため，訂正発明２ないし４を用いて核酸分解処理を行うには，所定の処理条件を満たすことが必要であるが，本件明細書には，そのような条件の記載がないから，当業者は過度の試行錯誤を強いられる。 そうすると，本件明細書の発明の詳細な説明の記載は，当業者が訂正発明２ないし４を実施可能な程度に明確かつ十分に記載したものといえないから，実 載がないから，当業者は過度の試行錯誤を強いられる。 そうすると，本件明細書の発明の詳細な説明の記載は，当業者が訂正発明２ないし４を実施可能な程度に明確かつ十分に記載したものといえないから，実施可能要件（特許法３６条４項１号に規定する要件）に適合しない。 したがって，本件明細書の発明の詳細な説明の記載が実施可能要件に違反するものではないとした本件審決の判断は，誤りである。 ⑵ 被告の主張前記３⑵のとおり，本件明細書の図１９Ｂ及び図１９Ｃの「１ｍｉｎ」ないし「５ｍｉｎ」のスペクトル図において，核酸が完全分解されているスペクトル図が観測されている以上，その後に，２μｌという少ないサンプル量で，「９０ｍｉｎ」という長時間後のスペクトル図の１条件において，正確に測定できていなかったとしても，それは，測定条件の問題であり，訂正発明２ないし４が「短時間で効率的な核酸分解」を実現できないことを示すものではない。 したがって，本件審決における実施可能要件の判断に誤りはないから，原告主張の取消事由３は理由がない。 ５ 取消事由４（明確性要件の判断の誤り）について⑴ 原告の主張訂正発明２の「臭いを検出又は測定する手段」が，訂正発明２の目的との関連で，どのような役割を果たすのかが不明であり，その結果として，訂正発明２の全体が不明確である。 また，訂正発明３の「酸素の成分を少なくとも含有した活性酸素」との記載は，一般に，「活性酸素」にはスーパーオキシドアニオンラジカル等のフリーラジカルも含まれるものと理解されているので，「フリーラジカル」とは別の「活性酸素」とは何かが不明瞭である。また，訂正発明３では「…からなる複合ラジカルガス」と記載されているが，かかる表現は，「複合ガスが…のみからなる」という意味なのか，「複合ガ ーラジカル」とは別の「活性酸素」とは何かが不明瞭である。また，訂正発明３では「…からなる複合ラジカルガス」と記載されているが，かかる表現は，「複合ガスが…のみからなる」という意味なのか，「複合ガスが…を含む」という意味なのかが不明瞭である。 したがって，訂正発明２及び３の特許請求の範囲の記載は明確性要件（特許法３６条６項２号に規定する要件）に適合しないから，これと異なる本件審決の判断は，誤りである。 ⑵ 被告の主張 本件明細書の【０１９２】ないし【０１９５】の記載に照らすと，訂正発明２の「臭いを検出又は測定する手段」とは，庫内エアレーションの終了判断やガス漏れ検出用の安全装置として用いられるものであり，その役割は明確である。 また，活性酸素は，大気中に含まれる酸素分子が，より反応性の高い化合物に変化したものの総称であり，活性酸素とフリーラジカルとは一方が他方を完全に包含するような概念ではないことは，技術常識であるから（乙１），訂正発明３の記載内容は明確である。 したがって，本件審決における明確性要件の判断に誤りはないから，原告主張の取消事由４は理由がない。 第４ 当裁判所の判断 １ 取消事由１－１（甲１を主引用例とする訂正発明２の進歩性の判断の誤り）について⑴ 本件明細書の記載事項等についてア訂正発明２の特許請求の範囲（請求項２）の記載は，前記第２の２のとおりである。 本件明細書（甲２１，３７）の発明の詳細な説明には，次のような記載がある（下記記載中に引用する「図１ないし３，８ないし１０」については別紙１を参照）。 (ア) 【技術分野】【０００１】本発明は，メタノールに由来する活性種を含むバイオガスにより核酸分解処理を行う核酸分解処理装置に関する。 【背景技術】【０００３】 紙１を参照）。 (ア) 【技術分野】【０００１】本発明は，メタノールに由来する活性種を含むバイオガスにより核酸分解処理を行う核酸分解処理装置に関する。 【背景技術】【０００３】メタノールから触媒反応により発生するラジカル性（メタノールラジ カル：ＭＲ）ガスを利用した滅菌システムは，これまで医療器具等の滅菌に用いるガスとして多用されていたエチレンオキサイドガス（ＥＯＧ）やオゾン等以上の殺菌力を持ち，残留性，腐食性がないことが確認されており，浸透性や拡散性も優れていることから現在多くの分野において注目されている。 【０００４】バイオガスとは，メタノールから触媒により生じた強力な殺菌効果をもつラジカル性複合ガスのことであり，浸透性が高く，大気圧のままでも被滅菌物の内部まで殺菌ができる。接触性殺菌のミストでないことから，金属の腐食やプラスチック等の劣化（腐食性）が無く，非滅菌物の素材を選ばず，さらに，被滅菌物に残留しない（残留性）などの優れた特質があり，拡散性も広く隅々まで満遍なく暴露が可能であり，細かな隙間まで浸透し，精密機器や電子機器等の通電稼動状態においても暴露が可能であり，高い安全性を有する。 【０００９】また，液相以外の状態（非ウェット状態）で，核酸を有効に分解する方法として，ヒドロキシメチルラジカル，ヒドロペルオキシラジカル，水素ラジカル，ヒドロキシルラジカルを少なくとも含むラジカル種メタノール由来の気相物質（ＭＲガス）を用いて，核酸が存続可能な温度条件下において，非可逆的に核酸を分解し，不活化する方法が提案されている（例えば，特許文献３参照）。 (イ) 【発明が解決しようとする課題】【００１１】しかしながら，特許文献３で提案されている非ウエット型の核酸分解剤を用いて する方法が提案されている（例えば，特許文献３参照）。 (イ) 【発明が解決しようとする課題】【００１１】しかしながら，特許文献３で提案されている非ウエット型の核酸分解剤を用いて核酸を分解する従来の方法では，５０℃以上の温度領域において，６０分以上の暴露時間を要し，且つ，ホルムアルデヒド成分の濃 度が２０００ｐｐｍ以上での効果効能が発揮されるものであった。 【００１２】しかし，現実的な実用としては，常温～体温領域が求められており，且つ，短時間での効果効能を発揮することが求められていた。 【００１３】そこで，上述の如き従来の実情に鑑み，本発明の目的は，検体の種類によっての短時間で高効能を発揮する条件を定義することが可能な核酸分解処理装置を提供することにある。 【００１４】この核酸分解処理装置は，空間に漂う核酸（ＤＮＡ・ＲＮＡ）もコンタミネーションとして暴露対象とする。 (ウ) 【課題を解決するための手段】【００１７】本発明は，核酸分解処理装置であって，メタノールタンクから供給されたメタノールを霧状に噴射するノズルを備え，該ノズルを介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方に位置して，熱反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部とからなり，該上部には空気を供給する空気供給部が連結されており，該メタノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該空気供給部から供給された空気を所定の割合で混合させる筒体部と，上記筒体部の上方に位置し，該筒体部において上記所定の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部と ガスに該空気供給部から供給された空気を所定の割合で混合させる筒体部と，上記筒体部の上方に位置し，該筒体部において上記所定の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを有し，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒より構成され，該ラジカル反応触媒を複数積層してなり，空気が混合したメタノールガスを 触媒反応によりラジカル化して少なくともメタノールに由来する活性種を含み生成される複合ガス（以下「バイオガス」という）を発生するバイオガス発生部と，上記バイオガス発生部における生成ガス量を供給空気量とメタノール量で制御する生成ガス量制御手段と，上記バイオガス発生部により発生したバイオガスが供給される暴露部と，上記暴露部の暴露空間内の温度を制御する温度制御手段と，上記暴露部の暴露空間内の湿度を制御する湿度制御手段と，上記暴露部に供給されたバイオガスを排気する排気処理部と，上記排気処理部により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御するバイオガスの排気量制御手段と，上記暴露部におけるバイオガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定するホルムアルデヒド成分濃度測定手段と，臭いを検出又は測定する手段を備え，上記ホルムアルデヒド成分濃度測定手段による測定結果として得られるガス濃度情報が上記生成ガス量制御手段に帰還され，上記バイオガス発生部において，一定の触媒の自己反応温度と濃度のバイオガスとなるように，上記生成ガス量制御手段により上記バイオガス発生部における生成ガス量が供給空気量とメタノール量で制御されるとともに，上記排気量制御手段により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内ガス濃度を一定にし，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による 制御されるとともに，上記排気量制御手段により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内ガス濃度を一定にし，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による上記暴露部の暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出する庫内差圧検出手段を備え，上記庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排気量制御手段により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内差圧を一定にするものとすることができる。 【００１９】 また，本発明に係る核酸分解処理装置において，上記バイオガス発生部は，メタノール，ホルムアルデヒド，一酸化炭素，二酸化炭素，水素，酸素の成分を少なくとも含有した活性酸素とフリーラジカルからなる複合ラジカルガスを発生するものとすることができる。 【００２０】さらに，本発明に係る核酸分解処理装置において，上記バイオガス発生部は，例えば，上記自己反応温度が４００℃～５００℃の範囲内に制御されるものとすることができる。 (エ) 【発明の効果】【００２１】本発明に係る核酸分解処理装置では，フィードバック制御により暴露部の暴露空間内における温度，湿度，濃度の定量的制御を行うことができ，検体の種類によっての短時間で高効能を発揮する条件を定義することができる。 【００２２】この核酸分解処理装置は，核酸分解の効果効能を発揮する環境温度を３７℃の体温域とし，１５分以内の短時間で，且つ，ホルムアルデヒド成分濃度１００ｐｐｍ以内において，二重螺旋のＤＮＡ核酸を有効に分解（１０ｂｐ以下のバラバラ状態）する能力を有し，気相の核酸分解法として核酸分解９９．９９％～１００％を達成する つ，ホルムアルデヒド成分濃度１００ｐｐｍ以内において，二重螺旋のＤＮＡ核酸を有効に分解（１０ｂｐ以下のバラバラ状態）する能力を有し，気相の核酸分解法として核酸分解９９．９９％～１００％を達成することができる。 【００２３】また，この核酸分解処理装置では，非ウエットで９９．９９％，ウエット（１００μｌ）で９５％の効能を発揮する。 (オ) 【発明を実施するための形態】【００２６】以下，本発明の実施の形態について，図面を参照して詳細に説明する。 なお，本発明は以下の例に限定されるものではなく，本発明の要旨を逸脱しない範囲で，任意に変更可能であることは言うまでもない。 【００２７】本発明は，例えば図１に示すような構成の核酸分解処理装置１００に適用される。 【００２８】この核酸分解処理装置１００は，メタノールに由来する活性種を含むバイオガスにより核酸分解処理を行うものであって，バイオガス発生部１１０，暴露部１２０，排気処理部１４０及び，これら各部の動作を制御する制御部１５０を備える。 【００２９】この核酸分解処理装置１００において，バイオガス発生部１１０は，空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して少なくともメタノールに由来する活性種を含むバイオガスを発生するものである。 【００３０】このバイオガス発生部１１０は，例えば，図２に示すように，原料となるメタノールを供給する着脱式のメタノール供給タンク１にソレノイドバルブからなる直動式オンオフ弁２を介して接続されたメタノールサブタンク３からメタノールがメタノールポンプ７により吸い上げられてメタノール制御弁１７を介して供給される気化器１０が内筒体１２Ａの下部に設けられ，上部に触媒カートリッジ１８が装着されたメタノールガス発 ンク３からメタノールがメタノールポンプ７により吸い上げられてメタノール制御弁１７を介して供給される気化器１０が内筒体１２Ａの下部に設けられ，上部に触媒カートリッジ１８が装着されたメタノールガス発生部１１を外筒体１２Ｂ内に設けてなる。 【００４２】上記バイオガス発生部１１０におけるバイオガスの生成ガス量は，上記メタノールガス発生部１１に供給する空気量（エアポンプ９）とメタ ノール量（燃料ポンプ７）で制御することができる。 【００４４】すなわち，上記バイオガス発生部１１０は，図３に示すように，上記メタノールサブタンク３から供給されたメタノールを霧状に噴射するノズル２３を備え，該ノズル２３を介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部１１の気化器１０と，上記気化器１０の上方に位置して，熱反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部とからなり，該上部には空気を供給する上記エアポンプ９が連結されており，該メタノールガス発生部１１から発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該エアポンプ９から供給された空気を所定の割合で混合させる上記内筒体１２Ａと，上記内筒体１２Ａの上方に位置し，該内筒体１２Ａにおいて上記所定の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部を有し，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒より構成され，該ラジカル反応触媒を複数積層した触媒カートリッジ１８からなる。 【００４９】より具体的に説明すると，気化器ヒータ２０への通電が開始され，上記メタノールサブタンク３から図４のメタノール供給用連通管２４を通って供給されたメタノールを導通する熱媒体２１がその気化 ００４９】より具体的に説明すると，気化器ヒータ２０への通電が開始され，上記メタノールサブタンク３から図４のメタノール供給用連通管２４を通って供給されたメタノールを導通する熱媒体２１がその気化器ヒータ２０からの熱によって１００～２００℃に加熱され始める。そして，上記メタノールサブタンク３から供給されたメタノールが熱媒体２１を通過すると，メタノールは熱媒体２１に生じている熱によって温められて気化し，メタノールガスが発生する。このようにしてメタノールガスが発生すると，メタノールガスは気化ノズル２２及び図３の気化カバ ー１４を通って分散し，内筒体１２Ａ中を自然対流を利用して，触媒カートリッジ１８へと移行する。 【００６３】なお，バイオガス発生部１１における温度を制御し，安定的にバイオガスを生成して供給するために，図２の異常温度センサ１４Ａが上記内筒体１２Ａの下部に設けられているとともに，触媒温度センサ１５が上記内筒体１２Ａの下部に設けられている。上記異常温度センサ１４Ａ及び触媒温度センサ１５により得られる各温度情報を上記制御部１５０に供給することにより，温度を管理・制御することにより，メタノールの着火等を防止して，安全性を向上させることができる。 (カ) 【００８０】このバイオガス発生部１１０では，空気の供給量を変化させることによりラジカル化触媒反応の温度を制御できる。メタノールガスのラジカル化触媒反応に必要な反応温度は約４００～５００℃であり，このバイオガス発生部１１０では，約３．０ｃｃのメタノール供給量に対して，筒体上部１２ａから供給される空気の供給量を約３．５～６．０Ｌ／ｍｉｎの範囲で変化させる。これにより，ラジカル化触媒反応の温度を約４００～５００℃の範囲で変化させることが可能となる。したがって，上記エ 上部１２ａから供給される空気の供給量を約３．５～６．０Ｌ／ｍｉｎの範囲で変化させる。これにより，ラジカル化触媒反応の温度を約４００～５００℃の範囲で変化させることが可能となる。したがって，上記エアポンプ９からの空気の供給量を変化させることにより，容易にラジカル化触媒反応の温度を制御することができる。 【００８１】このように，このバイオガス発生部１１０によれば，ラジカル化触媒反応温度を維持させるための随時の加熱を必要とせず，安定した自己反応によりラジカル化反応を起こすことができることから，空気の供給量を変化させるだけで，容易にラジカル化反応温度を制御することができる。また，発生するバイオガスの濃度はラジカル化触媒反応温度に依存 することから，上述のように空気の供給量を変化させて反応温度を制御することで，バイオガスの濃度を容易に制御することができる。これにより，暴露対象によって容易にバイオガスの濃度を変化させることができ，種々の暴露対象に対して滅菌処理を施すことが可能となる。 【００９７】また，この核酸分解処理装置１００において，上記暴露部１２０は，例えば，図８に示すように，庫内ヒータ１３０Ａと庫内冷却器１３０Ｂとにより温度と湿度の制御が可能な恒温恒湿槽からなる。 【０１０１】また，この暴露部１２０には，外気導入バルブ１２５からヘパフィルタ１２４を介して外気（空気）が導入され，また，外部ガス導入バルブ１３１を介して窒素Ｎ２や炭酸ガスＣＯ２等の外部ガスが導入できる。 上記ヘパフィルタ１２４を介して上記暴露部１２０に導入される外気（空気）は，空気加熱ヒータ２４Ａにより加熱できるようになっている。 【０１０３】また，この暴露部１２０には，ガス濃度センサ１２９，庫内圧力センサ１３２，湿度センサ１３３，温度センサ れる外気（空気）は，空気加熱ヒータ２４Ａにより加熱できるようになっている。 【０１０３】また，この暴露部１２０には，ガス濃度センサ１２９，庫内圧力センサ１３２，湿度センサ１３３，温度センサ１３４，暴露センサ（核酸センサ）１３５，臭いセンサ１３６Ａ，１３６Ｂ，などの各種センサが設けられている。上記ガス濃度センサ１２９，庫内圧力センサ１３２，湿度センサ１３３，温度センサ１３４，暴露センサ１３５，臭いセンサ１３６Ａ，１３６Ｂにより得られる暴露空間内のガス濃度情報，圧力情報，湿度情報，温度情報，暴露（核酸への効果効能など）情報，臭い情報（内外）が上記制御部１５０に供給されるようになっている。当然に暴露部１２０の外の温度（室温）情報も制御部１５０に供給する。 【０１０４】さらに，上記暴露部１２０に供給されたバイオガスは，排出側開閉バ ルブ１２８を開くことにより排気することができるようになっている。 【０１０７】また，この核酸分解処理装置１００において，上記排気処理部１４０は，上記暴露部１２０に供給されたバイオガスを排気するものであって，例えば，図９に示すように，ガス導入管アタッチメント１４１を介して上記暴露部１２０の排出側開閉バルブ１２８に接続される排気ブロア１４３，上記排気ブロア１４３により上記暴露部１２０から排気ガスがガス整流槽１４４を介して送られてくる排気ガスを分解する排気分解触媒部１４５を備え，上記排気分解触媒部１４５において排気ガスを触媒反応により無害化して排気管１４９から排気する。 【０１０８】この排気処理部１４０は，上記外気導入バルブ１４２を介して外気（空気）を導入できるようになっている。 (キ) 【０１１１】そして，この核酸分解処理装置１００において，上記制御部１５０は，図１０に示す制 理部１４０は，上記外気導入バルブ１４２を介して外気（空気）を導入できるようになっている。 (キ) 【０１１１】そして，この核酸分解処理装置１００において，上記制御部１５０は，図１０に示す制御系により，上記バイオガス発生部１１０，暴露部１２０，排気処理部１４０を次のように制御する。 【０１４０】暴露部１２０の庫内の圧力を監視しながら，庫内が陰圧（－０～－０． ０１ＭＰａ）になるように排気処理部１４０により排気吸引する。 【０１４１】その後，庫内圧力センサ１３２にて陰圧を確認の後に，上記制御部１５０は，上記バイオガス発生部１１０，暴露部１２０の庫内温度，排気処理部１４０の各温度が規定値に達し起動準備が整った時に，上記バイオガス発生部１１０に対してメタノール供給ポンプ７の起動を指示する。 【０１４２】暴露部１２０の庫内は，ガス導入，撹拌，排気状態を維持する。 【０１４３】そして，暴露部１２０の庫内の濃度が一定になるように，ガス濃度センサ１２９により得られるガス濃度情報に基づいてバイオガス発生部１１０の制御を以下のように行う。 【０１４４】上記バイオガス発生部１１０におけるバイオガスすなわち核酸分解ガスの発生量は，上記バイオガス発生部１１０のエア量とメタノール量の混合割合で決まる。エア供給量は，暴露部１２０の庫内の容積と発生時間の兼ね合いで定める。また，暴露部１２０の庫内が陰圧になる吸気と排気のバランス範囲で定める。また，メタノール量は，触媒の自己反応温度の適正範囲内で定める。 【０１４５】また，暴露部１２０の陰圧制御において，供給エア量と排気ブロアの吸引量のバランスは－０～－０．０１ＭＰａの範囲とする。試料のパラメータ（濃度，時間，温度，湿度）により最適な陰圧バランスに調整する。 【 暴露部１２０の陰圧制御において，供給エア量と排気ブロアの吸引量のバランスは－０～－０．０１ＭＰａの範囲とする。試料のパラメータ（濃度，時間，温度，湿度）により最適な陰圧バランスに調整する。 【０１４６】暴露部１２０の庫内のガス濃度制御では，暴露対象のパラメータ情報にて濃度が一定になるように陰圧バランスを調整する。 【０１４７】排気処理部１４０の排気ブロア１４３の吸入量を減らすと濃度は上昇し，吸入量を増やすと濃度は低下する。上記排気ブロア１４３の吸引量は，暴露部の１２０の庫内の陰圧範囲で制限する。陰圧バランス範囲内で調整できない場合は，メタノール供給量を制御する。バイオガス発 生部１１０におけるメタノール供給量を増やすと濃度が上昇し，減らすと低下する。この範囲は，触媒の自己反応温度域で制限する。 【０１４８】例えば，上記暴露部１２０の庫内のガス濃度制御では，ガス濃度センサ１２９により得られるガス濃度情報をプロセス値ＰＶとし，庫内濃度の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶを用いて，図１２に示すような制御系により，暴露部１２０の庫内の濃度を一定にする制御を行う。 【０１５０】そして，上記メタノールポンプ７によるメタノールの供給量ＧＰ１とエアポンプ９による空気の供給量に決まるガス濃度が暴露部１２０における外乱要素とともにガス濃度センサ１２９により検出され，このガス濃度センサ１２９により得られるガス濃度情報ＧＦが上記プロセス値ＰＶとして帰還されることにより，暴露部１２０の庫内の濃度を一定にする制御が行われる。 【０１５３】例えば，暴露部１２０の庫内の湿度制御では，湿度センサ１３４により得られる庫内湿度情報をプロセス値ＰＶとし，庫内湿度の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶを用いて，図１３に示すような制御系により ５３】例えば，暴露部１２０の庫内の湿度制御では，湿度センサ１３４により得られる庫内湿度情報をプロセス値ＰＶとし，庫内湿度の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶを用いて，図１３に示すような制御系により，暴露部１２０の庫内湿度を一定にする制御を行う。 【０１５５】そして，上記冷却ゾーン１２１又は庫内冷却器１３０Ｂによる除湿機能により制御される暴露部１２０の庫内湿度が外乱要素とともに温度センサ１３４により検出され，この温度センサ１３４により得られる庫内湿度情報ＧＦが上記プロセス値ＰＶとし帰還されることにより，暴露部１２０の庫内湿度を一定にする制御が行われる。 【０１５７】 また，暴露部１２０の庫内温度制御では，温度センサ１３４により得られる庫内温度情報をプロセス値ＰＶとし，庫内温度の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶを用いて，図１４に示すような制御系により，暴露部１２０の庫内の温度を一定にする制御を行う。 【０１５９】そして，上記庫内ヒータ１３０Ａと庫内冷却器１３０Ｂの制御に応じた庫内温度が暴露部１２０における外乱要素とともに温度センサ１３４により検出され，この温度センサ３１４により得られる庫内温度ＧＦが上記プロセス値ＰＶとし帰還されることにより，暴露部１２０の庫内温度を一定にする制御が行われる。 (ク) 【０１６１】また，暴露部１２０の庫内気圧制御では，庫内気圧又は差圧及び排気反応温度の目標値への追従運転を行う。この庫内気圧制御では，比例（Ｐ）制御と積分（Ｉ）の組み合わせによるＰＩ制御により排気量を制御する。陰圧範囲内を目標値とした庫内気圧制御を行う。目標値は排気反応温度により自動的に定める。 【０１６２】例えば，暴露部１２０の庫内差圧制御では，差圧センサ１３４により得られる庫内差圧情報をプロセス値ＰＶ を目標値とした庫内気圧制御を行う。目標値は排気反応温度により自動的に定める。 【０１６２】例えば，暴露部１２０の庫内差圧制御では，差圧センサ１３４により得られる庫内差圧情報をプロセス値ＰＶとし，庫内差圧の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶを用いて，図１５に示すような制御系により，暴露部１２０の庫内差圧を一定にする制御を行う。 【０１６３】すなわち，庫内差圧の閾値ＳＰに応じた第１の制御量Ｃ１１と上記庫内差圧の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶとの差分を第２の制御量Ｃ１２として加算した第３の制御量Ｃ１３で排気処理部１４０の外気導入バルブ１４２の開閉度を制御するとともに，上記庫内差圧の閾値ＳＰに 応じた第４の制御量Ｃ２１と上記庫内差圧の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶとの差分を第５の制御量Ｃ２２として加算した第６の制御量Ｃ２３で上記排気処理部１４０の排気ブロア１４３の回転数を制御する。 【０１６４】そして，上記排気処理部１４０の外気導入バルブ１４２の開閉度と排気ブロア１４３の回転数の制御に応じた庫内差圧が暴露部１２０における外乱要素とともに庫内差圧センサ１３２により検出され，この庫内差圧センサ１３２により得られる庫内差圧ＧＦが上記プロセス値ＰＶとし帰還されることにより，暴露部１２０の庫内差圧を一定にする制御が行われる。 【０１８２】また，上記制御部１５０は，上記バイオガス発生部１１０によるバイオガス発生時に，排気処理部１４０を次のように制御する。 【０１８３】すなわち，上記制御部１５０は，バイオガス発生時には，上記暴露部１２０の庫内圧力センサ１３２により得られる庫内圧力情報により示される庫内圧圧力より陰圧になるよう排気ブロア１４３の回転を制御する。また，排気触媒温度センサ１４７により得られる排気触媒温度情報 部１２０の庫内圧力センサ１３２により得られる庫内圧力情報により示される庫内圧圧力より陰圧になるよう排気ブロア１４３の回転を制御する。また，排気触媒温度センサ１４７により得られる排気触媒温度情報に基づいて，排気触媒ヒータ温度が規定値（３００℃）に達しているように排気触媒ヒータ１４６を制御する。 (ケ) 【０１９６】このような構成の核酸分解処理装置１００では，フィードバック制御により暴露部１１０の暴露空間内における温度，湿度，濃度の定量的制御を行うことができ，暴露対象の種類によっての短時間で高効能を発揮する条件を定義することができる。 イ前記アの記載事項によれば，本件明細書の発明の詳細な説明には，訂正 発明２に関し，次のような開示があることが認められる。 (ア) ラジカル種メタノール由来の気相物質（ＭＲガス）を用いて核酸分解処理を行う従来の方法には，５０℃以上の温度領域において，６０分以上の暴露時間を要し，かつ，ホルムアルデヒド成分の濃度が２０００ｐｐｍ以上での効果効能が発揮されるものがあったが，現実的な実用としては，常温～体温領域が求められており，かつ，検体の種類に対応した短時間での効果効能を発揮することが求められていたという課題があった（【０００９】，【００１１】，【００１２】）。 (イ) 「本発明」は，検体の種類に対応した短時間で高効能を発揮する条件を定義することが可能な核酸分解処理装置を提供することを目的とするものであり（【００１３】），前記課題を解決するための手段として，メタノールガス発生部と，空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して少なくともメタノールに由来する活性種を含み生成される複合ガスを発生するバイオガス発生部と，バイオガス発生部における生成ガス量を供給空気量とメタノール量で制御 ールガスを触媒反応によりラジカル化して少なくともメタノールに由来する活性種を含み生成される複合ガスを発生するバイオガス発生部と，バイオガス発生部における生成ガス量を供給空気量とメタノール量で制御する生成ガス量制御手段と，バイオガス発生部により発生したバイオガスが供給される暴露部と，暴露空間内の温度を制御する手段と，暴露空間内の湿度を制御する手段と，暴露部に供給されたバイオガスを排気する排気処理部と，暴露部からのバイオガスの排気量を制御する手段と，暴露部におけるバイオガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定する手段と，臭いを検出又は測定する手段を備え，ホルムアルデヒド成分濃度測定手段による測定結果として得られるガス濃度情報が生成ガス量制御手段に帰還され，バイオガス発生部において，生成ガス量制御手段により生成ガス量が供給空気量とメタノール量で制御されるとともに，排気量制御手段により暴露部からのバイオガスの排気量を制御することにより，暴露部の庫内ガス濃度を一定にし，上記排気量制御手段により制御される排 気処理手段による暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出する手段を備え，庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排気量制御手段により暴露部からのバイオガスの排気量を制御することにより，暴露部の庫内差圧を一定にする構成（訂正発明２の構成）を採用した（【００１７】）。 この構成により，「本発明」は，フィードバック制御により暴露部の暴露空間内における温度，湿度，濃度の定量的制御を行うことができ，検体の種類に対応した短時間で高効能を発揮する条件を定義することができるという効果を奏する（【００２１】，【０１９６】）。 ⑵ 甲１の記載事項についてア甲１（特開２０ 的制御を行うことができ，検体の種類に対応した短時間で高効能を発揮する条件を定義することができるという効果を奏する（【００２１】，【０１９６】）。 ⑵ 甲１の記載事項についてア甲１（特開２０１０－５１６９２号公報）には，次のような記載がある（下記記載中に引用する「図１，２及び１３」については別紙２を参照）。 (ア) 【技術分野】【０００１】本発明は，メタノールから触媒反応により発生するラジカル性のメタノールラジカルガス（以下，「ＭＲガス」という。）により対象物を滅菌する滅菌処理装置に適用される，滅菌ガス発生装置及びその滅菌ガス発生装置に交換可能に設けられる触媒カートリッジ，並びに滅菌処理装置に関する。 【背景技術】【０００２】メタノールから触媒反応により発生するラジカル性（メタノールラジカル：ＭＲ）ガスを利用した滅菌システムは，これまで医療器具等の滅菌に用いるガスとして多用されていたエチレンオキサイドガス（ＥＯＧ）やオゾン等以上の殺菌力を持ち，残留性，腐食性がないことが確認され ており，現在多くの分野において注目されている。 【０００３】ＭＲガスとは，メタノールから触媒により生じた強力な殺菌効果をもつラジカルガスのことであり，浸透性が高く，大気圧のままでも被滅菌物の内部まで殺菌ができる。金属の腐食やプラスチックの劣化が無く，非滅菌物の素材を選ばず，さらに，被滅菌物に残留しないなどの優れた特質があり，高い安全性を有する。 (イ) 【発明が解決しようとする課題】【０００６】しかしながら，従来のＭＲガス発生装置においては，直径方向の大きさとして，例えば１５０～１８０ｍｍ程度もの大きさを有する触媒部を備えていたため，この触媒部においては，メタノールガスのラジカル化反応に必要な温度を一定に維持 ガス発生装置においては，直径方向の大きさとして，例えば１５０～１８０ｍｍ程度もの大きさを有する触媒部を備えていたため，この触媒部においては，メタノールガスのラジカル化反応に必要な温度を一定に維持させることは難しく，電熱ヒータを触媒内部に備えるようにし，ラジカル化反応に必要な温度を維持するために随時加熱しながら温度を制御することが必要となっていた。 【０００７】このような従来のＭＲガス発生装置では，触媒反応時における温度の変動が激しく，その結果，一定の濃度を有するＭＲガスを発生させることができなかった。さらに，１５０～１８０ｍｍ程度もの大きさを有する触媒部を備えるとともに，さらに上述したように加熱用の電熱ヒータを備える必要があったため，触媒部は必然的に大きくなってしまい，利便性を高めるためのＭＲガス発生装置自体の小型化を困難にしていた。 【０００８】本発明は，このような従来の問題点に鑑みて提案されたものであり，ラジカル化のための触媒反応温度を一定に保ち，安定した濃度の滅菌ガスを発生させるとともに，小型化が可能な滅菌ガス発生装置，その滅菌 ガス発生装置に用いられる触媒カートリッジ，並びに滅菌処理装置を提供することを目的とする。 (ウ) 【課題を解決するための手段】【０００９】本件発明者らは，上述した課題を解決するために，様々な観点から鋭意研究を重ねてきた結果，ハニカム構造を有する触媒を使用することにより，ラジカル化のための触媒反応温度を一定に維持することが可能になることを見出し，本発明を完成するに至った。 【００１０】すなわち，本発明に係る滅菌ガス発生装置は，メタノールを気化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方に位置し，該メタノールガス発生部から発生し １０】すなわち，本発明に係る滅菌ガス発生装置は，メタノールを気化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方に位置し，該メタノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに所定の割合で空気を混合させる筒体部と，上記筒体部の上方に位置し，該筒体部において上記所定の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを備え，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒より構成される。 (エ) 【発明の効果】【００１３】本発明によれば，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒を使用しているので，触媒部における表面積が増加して反応効率が向上し，触媒反応温度を一定に維持した自己反応を生じさせることができ，安定した濃度のＭＲガスを発生させることができる。また，触媒部における反応効率の向上により，触媒部を小型化することができるとともに，滅菌処理装置自体を小型化することを可能にし，利便性を高め ることができる。 (オ) 【発明を実施するための最良の形態】【００１５】図１は，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置を概略的に示した模式図である。この図１に示すように，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０は，メタノールタンク（図示せず）からメタノールが供給され，そのメタノールを気化することによってメタノールガスを発生させるメタノールガス発生装置１１と，そのメタノールガス発生装置１１の上方に位置してメタノールガス発生装置１１から発生したメタノールガスを空気と混合させるとともに，発生したメタノールガスを自然対流を利用して上方に案内する流路を形成するために設けら ガス発生装置１１の上方に位置してメタノールガス発生装置１１から発生したメタノールガスを空気と混合させるとともに，発生したメタノールガスを自然対流を利用して上方に案内する流路を形成するために設けられた筒体１２と，メタノールガスの流路上方に取り外し可能な状態で筒体１２に連続して設けられ，メタノールガスを触媒反応によりラジカル化してＭＲガスを発生させる触媒カートリッジ１３とから構成されている。以下，各構成について具体的に説明していく。 【００１６】先ず，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０を構成するメタノールガス発生装置１１について説明する。メタノールガス発生装置１１は，メタノールを気化することによって，ラジカル化反応の反応物質であるメタノールガスを発生させ，筒体１２へと供給する。 【００１７】図２は，メタノールガス発生装置１１を概略的に示す模式図である。 この図２に示すように，メタノールガス発生装置１１は，原料となるメタノールを収容するメタノールタンク（図示せず）が連結されており，少なくとも，メタノールを加熱気化させる電熱ヒータ２０と，メタノールタンクから供給されたメタノールを気化するに際して温度を制御する 焼結金属等の温度安定化金属からなる熱媒体２１と，気化したメタノールをＭＲガス発生装置１０の上方部に導通させる気化ノズル２２と，さらにメタノールタンクから供給されるメタノールを霧状に噴射して熱媒体２１の方へ移行させるノズル２３とから構成されている。 【００１８】このメタノールガス発生装置１１では，メタノールタンクから供給されたメタノールが，熱媒体２１による温度制御の下，電熱ヒータ２０によって加熱されて気化され，気化して生成したメタノールガスが気化ノズル２２から発生する。発生したメタノールガスは，気化カバ から供給されたメタノールが，熱媒体２１による温度制御の下，電熱ヒータ２０によって加熱されて気化され，気化して生成したメタノールガスが気化ノズル２２から発生する。発生したメタノールガスは，気化カバー１４を通り，自然対流を利用してＭＲガス発生装置１０の上方，すなわち触媒カートリッジ１３へ分散して移行する。 (カ) 【００２３】また，このメタノールガス発生装置１１は，メタノールタンクからメタノール供給用連通管２４を通って供給されるメタノールを，ポンプ等を利用して霧状にして熱媒体２１の方へ噴射させるノズル２３を備えている。メタノールタンクから供給されたメタノールをノズル２３より霧状にして噴射し，霧状のメタノールを上述した電熱ヒータ２０によって熱媒体２１を介して加熱させることで，温度を一定に保ち，安定した状態でメタノールを気化させることができる。 【００２４】このように，温度一定の安定した状態でメタノールガスを発生させることにより，メタノールガス発生装置１１における温度のふらつきを抑制して，上述したように，以下で詳述する触媒カートリッジ１３における触媒反応の温度変動をより効果的に抑制し，安定したＭＲガスの発生を可能にしている。 【００２６】 ここで，滅菌処理においては，滅菌環境を所定の湿度に保った状態とすることが必要なことが知られており，例えばウイルス等のＤＮＡを破壊してＤＮＡフリーの環境とする場合には，約７５％程度の湿度を維持した滅菌環境で滅菌処理を行わなければならない。しかしながら，ＭＲガス滅菌処理を行うにあたって，そのようにＭＲガスの暴露環境を所定の湿度条件（例えば約７５％程度）に整えようとすると，ある程度の環境調整時間が必要となるとともに，所定の湿度環境を一定に管理することも必要となり，また一定の湿度環 そのようにＭＲガスの暴露環境を所定の湿度条件（例えば約７５％程度）に整えようとすると，ある程度の環境調整時間が必要となるとともに，所定の湿度環境を一定に管理することも必要となり，また一定の湿度環境を維持することは極めて難しい。 【００２７】そこで，上述したように，メタノールガスを発生させる段階において，メタノールタンクから供給されたメタノールに所定の水を混合させて，所定の割合で水を含有したメタノールを生成し，このメタノールからメタノールガスを発生させてＭＲガスを生成させる。これにより，滅菌環境の湿度を事前に調整しなくとも，効果的な滅菌処理を行うことが可能となる。このとき，上述した他の実施形態におけるメタノールガス発生装置１１によれば，メタノールと水とを混合し，所定の割合で水を含有させたメタノールを霧状にして供給することができる混合ノズル２３’を備えているので，所定の湿度を保持した最適なメタノールガスを効率的に生成させて触媒カートリッジ１３に供給することができる。そして，このメタノールガスから触媒反応によって発生したＭＲガスを使用することで，効果的な滅菌処理を行うことができ，所定の湿度環境を一定に管理維持させる必要もなくなる。 【００２８】このように，メタノールガス発生装置１１は，ノズル２３を備えているので，メタノールを霧状に噴射して，温度のふらつきのない一定範囲の温度条件でメタノールを気化することができるとともに，触媒カート リッジ１３において安定したラジカル化触媒反応を生じさせることができる。また，このノズル２３は，例えばメタノールと水とを混合させて，所定の割合で水を含有させたメタノールを霧状に供給することができる混合ノズル２３’として構成することもできるので，所定の湿度を保ったメタノールガスを効率的に生成 例えばメタノールと水とを混合させて，所定の割合で水を含有させたメタノールを霧状に供給することができる混合ノズル２３’として構成することもできるので，所定の湿度を保ったメタノールガスを効率的に生成させるとともに，効果的な滅菌処理が可能なＭＲガスを発生させることができる。 (キ) 【００３１】次に，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０を構成する筒体１２について説明する。筒体１２は，メタノールガス発生装置１１から供給されたメタノールガスのラジカル化触媒反応の場となる触媒カートリッジ１３に案内する流路になるとともに，メタノールガスに所定の割合の空気を混合させる。 【００３７】ここで，この筒体上部１２ａにおける空気の供給について詳細に説明する。本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０では，筒体上部１２ａにおける空気の供給量を変化させることにより，後述する触媒カートリッジ１３での自己反応によるラジカル化触媒反応の温度を制御することができる。 【００３８】このＭＲガス発生装置１０における触媒カートリッジ１３は，詳細は後述するが，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒３０から構成され，メタノールガスとの接触表面積を増やして反応効率を向上させるようにしている。これにより，触媒カートリッジ１３では，作動開始直後十数分間の２３０～２５０℃程度の加熱のみで，その後は安定した自己反応（メタノールガスの触媒燃焼反応）によってラジカル化反応に必要な４５０～５００℃まで温度を高め，その反応温度を維持 させることができ，従来の装置とは異なり随時反応温度を維持させるために加熱し続けることを要しない。このように，このＭＲガス発生装置１０によれば，反応温度維持のための継続的な加熱を必要とせず，安定した自己反応により必要な温度に とは異なり随時反応温度を維持させるために加熱し続けることを要しない。このように，このＭＲガス発生装置１０によれば，反応温度維持のための継続的な加熱を必要とせず，安定した自己反応により必要な温度に高めるとともに一定に維持できることから，そのラジカル化反応に必要な温度を，筒体上部１２ａにおける空気の供給量を変化させることによって容易に制御することができる。 【００３９】また，金属パイプと珪藻土等を無秩序に混合させて形成した触媒を備えた従来のＭＲガス発生装置とは異なり，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０では，金属薄板をハニカム構造体に成形した触媒カートリッジ１３にメタノールガスを通過させてラジカル化触媒反応を起こすようにしているので，メタノールガスの触媒反応にばらつきを生じさせず，供給する空気量を変化させることで，容易に触媒反応温度を制御することができる。 【００４０】具体的には，ラジカル化触媒反応に必要な４５０℃程度の温度を自己反応により発生させる場合には，上述したように，メタノールの供給量に対して略正比例するように空気を供給する。具体的には，メタノール供給量を３ｃｃとした場合には，空気の供給量を約３．５Ｌ／ｍｉｎとする割合で供給する。 【００４１】一方，ラジカル化触媒反応に必要な４５０℃より高めの，約５００℃近い温度を自己反応により発生させる場合には，空気の供給量をメタノールの供給量に対して正比例する量よりも多く供給する。これにより，自己反応による燃焼温度が高まり，ラジカル化反応において５００℃近い温度とすることができる。具体的には，上述の４５０℃程度の温度を 発生させる場合の空気の供給量の割合（メタノール供給量を３ｃｃとしたときに，空気の供給量を約３．５Ｌ／ｍｉｎとする割合）よりも多い量の空気を供給 きる。具体的には，上述の４５０℃程度の温度を 発生させる場合の空気の供給量の割合（メタノール供給量を３ｃｃとしたときに，空気の供給量を約３．５Ｌ／ｍｉｎとする割合）よりも多い量の空気を供給する。 【００４３】このように，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０によれば，ラジカル化触媒反応温度を維持させるための随時の加熱を必要とせず，安定した自己反応によりラジカル化反応を起こすことができることから，空気の供給量を変化させるだけで，容易にラジカル化反応温度を制御することができる。また，発生するＭＲガスの濃度はラジカル化触媒反応温度に依存することから，上述のように空気の供給量を変化させて反応温度を制御することで，ＭＲガスの濃度を容易に制御することができる。 これにより，滅菌対象によって容易にＭＲガスの濃度を変化させることができ，種々の対象に対して滅菌処理を施すことが可能となる。 (ク) 【００５６】そこで，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０においては，上述したように，触媒カートリッジ１３を，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒３０によって構成し，メタノールガスとラジカル反応触媒３０との接触表面積を増加させるとともに，メタノールガスが一定の通路を通過するようにしている。 【００５７】このようにしてラジカル反応触媒３０をハニカム構造に成形してメタノールガスとの接触表面積を増加させることによって，触媒反応の反応効率を高め，ラジカル化反応に必要な触媒カートリッジ１３の大きさを最小限に抑えることを可能にしている。具体的に，触媒カートリッジ１３におけるラジカル反応触媒３０の直径方向の大きさを，５０～７０ｍｍ程度の大きさにすることができ，この大きさで反応効率の高いラジ カル化反応を起こすことができる。 具体的に，触媒カートリッジ１３におけるラジカル反応触媒３０の直径方向の大きさを，５０～７０ｍｍ程度の大きさにすることができ，この大きさで反応効率の高いラジ カル化反応を起こすことができる。そして，触媒カートリッジ１３の大きさを最小限に抑えることで，容易に交換が可能な形態とすることが可能となっている。また，一定の通路をメタノールガスが通過するようにすることで，ラジカル化反応のばらつきを抑えて一定にし，反応温度の変動を抑制させることを可能にしている。 【００７７】そしてまた，上述のように，この触媒カートリッジ１３では，安定した自己反応によるラジカル化触媒反応を可能していることから，筒体１２に接続された空気供給部からの空気の供給量を任意に制御することにより，自己反応によるラジカル化触媒反応温度を容易に変動制御することができ，発生させるＭＲガスの濃度を容易に変化させることが可能となる。これにより，メタノールガスに混合させる空気に供給量を変化させるだけで，滅菌対象によって適した濃度のＭＲガスを簡単に発生させることができ，種々の対象に対して効率的な滅菌処理を行うことができる。また，このように，適した濃度のＭＲガスを任意に発生させることができることから，メタノールの供給量を必要最小限に抑えることが可能となり，より安全に装置を使用することができるだけでなく，環境にも適した滅菌処理を実現することができる。 (ケ) 【００７９】図１３は，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０を適用した滅菌処理装置４０の一例を概略的に示した模式図である。この図１３に示すように，滅菌処理装置４０は，メタノールタンク４１と，ＭＲガス発生装置１０’と，滅菌対象物を保持してＭＲガス発生装置１０’から発生したＭＲガスによって滅菌処理を施す場となる滅菌タンク の図１３に示すように，滅菌処理装置４０は，メタノールタンク４１と，ＭＲガス発生装置１０’と，滅菌対象物を保持してＭＲガス発生装置１０’から発生したＭＲガスによって滅菌処理を施す場となる滅菌タンク４２とから構成されている。 【００８９】 また，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０によれば，筒体上部１２ａにおける空気の供給量を変化させることにより，触媒の自己反応によるラジカル化反応温度を容易に制御することができるので，発生するＭＲガスの濃度を容易に変化させることができる。 これにより，例えばウイルス等のＤＮＡを破壊することを目的としてＭＲガスを暴露させる場合には，空気の供給量を増やしてラジカル化反応温度を高め，濃度の高いＭＲガスを発生させるといったように，滅菌対象によって空気の供給量を変化させて，発生させるＭＲガスの濃度を変化させることができる。 イ前記アの記載事項によれば，甲１には，次のような開示があることが認められる。 (ア) １５０～１８０ｍｍ程度の大きさを有する触媒部を備えた，従来のＭＲガス発生装置では，メタノールガスのラジカル化反応に必要な温度を一定に維持させることが難しく，一定の濃度を有するＭＲガスを発生させることができなかったため，加熱用の電熱ヒータを備える必要があったが，触媒部は必然的に大きくなってしまい，利便性を高めるためのＭＲガス発生装置自体の小型化を困難にしていたという問題点があった（【０００６】，【０００７】）。 (イ) 「本発明」は，このような従来の問題点に鑑みて提案されたものであり，ラジカル化のための触媒反応温度を一定に保ち，安定した濃度の滅菌ガスを発生させるとともに，小型化が可能な滅菌ガス発生装置を提供することを目的とする（【０００８】）。 本件発明者らは，ハニカム構造を有す ル化のための触媒反応温度を一定に保ち，安定した濃度の滅菌ガスを発生させるとともに，小型化が可能な滅菌ガス発生装置を提供することを目的とする（【０００８】）。 本件発明者らは，ハニカム構造を有する触媒を使用することにより，ラジカル化のための触媒反応温度を一定に維持することが可能になることを見出し，「本発明」を完成するに至った（【０００９】）。 「本発明」は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応 触媒を使用する構成を採用したことにより，触媒部における表面積が増加して反応効率が向上し，触媒反応温度を一定に維持した自己反応を生じさせることができ，安定した濃度のＭＲガスを発生させることができ，さらには，触媒部における反応効率の向上により，触媒部を小型化することができるとともに，滅菌処理装置自体を小型化することを可能にし，利便性を高めるという効果を奏する（【００１３】）。 ⑶ 甲２の記載事項についてア甲２（国際公開第０１／０２６６９７号の再公表公報）には，次のような記載がある（下記記載中に引用する「図１及び２」については別紙３を参照）。 (ア) 「技術分野本発明は，ホルムアルデヒドガスにより被殺菌空間の殺菌を行うホルムアルデヒドガス殺菌装置に関するものである。」（４頁２行～４行）(イ) 「技術背景従来，バイオクリーンルームや手術室等の空間内を殺菌処理する目的でホルムアルデヒドガスを用いる方法は，この被殺菌空間を閉空間とし，その中にホルムアルデヒドガス発生器を設置してホルムアルデヒドガスを発生させるものが知られている。 しかし，ホルムアルデヒドガスによる殺菌（以下，本明細書では「滅菌」をも意味する）効果は，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度により大きく依存することから，十分保証可能 れている。 しかし，ホルムアルデヒドガスによる殺菌（以下，本明細書では「滅菌」をも意味する）効果は，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度により大きく依存することから，十分保証可能な殺菌効果を得るためには，単にホルムアルデヒドガスを特定の時間被殺菌空間に充満させるということでは十分ではない。 …また，被殺菌空間内は，密閉された空間（室）となることから室内圧力を制御する必要も生じる。」（４頁５行～２１行）(ウ) 「発明の開示 …また，この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置は，ホルムアルデヒドガスを発生させるホルムアルデヒドガス発生器と，前記ホルムアルデヒドガスの湿度を調節する湿度調節器と，前記ホルムアルデヒドガスの温度を調節する温度調節器と，前記ホルムアルデヒドガスを被殺菌空間内へ搬送して導入するガス搬送器と，前記被殺菌空間内からの排ガスを処理する排ガス処理器と，前記排ガスを排出するガス排出器と，前記ホルムアルデヒドガス発生器において前記ホルムアルデヒドガスを所定の範囲の濃度で発生させ，前記湿度調節器により前記ホルムアルデヒドガスの湿度を所定の範囲に制御し，前記温度調節器により前記ホルムアルデヒドガスの温度を所定の範囲に制御し，前記ガス搬送器によるガス搬送量を所定の範囲に制御し，前記排ガス処理器による排ガス中のホルムアルデヒドの量を所定の範囲に制御し，前記ガス排出器による排ガス排出量を制御する制御器を有する。 この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置によれば，制御器により被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ，所定の濃度，所定の湿度，所定の温度に制御するため，十分に保証可能な殺菌効果を得ることができる。」（４頁２２行，５頁１７行～６頁３行）(エ) 「また，この発明のホルムア 度，湿度，温度をそれぞれ，所定の濃度，所定の湿度，所定の温度に制御するため，十分に保証可能な殺菌効果を得ることができる。」（４頁２２行，５頁１７行～６頁３行）(エ) 「また，この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置は，密閉された室内にホルムアルデヒドガスを供給すると共に排出するホルムアルデヒドガス供給排出装置と，前記室内の圧力を調整する室圧調整装置とを備え，前記ホルムアルデヒドガス供給排出装置は，前記ホルムアルデヒドガスを発生するホルムアルデヒドガス発生器と，前記ホルムアルデヒドガスの湿度を調節する湿度調節器と，前記ホルムアルデヒドガスの温度を調節する温度調節器と，前記ホルムアルデヒドガスを室内へ搬送して導入するガス搬送器と，前記室内からの排ガスを処理する排ガス処理器と，前記排ガスを排出するガス排出器と，前記室内のホルムアルデヒド ガスの濃度，湿度及び温度を所定の濃度，湿度及び温度に制御する制御部とを有し，前記室圧調整装置は，前記室内に室外の空気を給気する給気ユニットと，前記室内の空気を前記室外に排気する排気ユニットと，前記室内と前記室外との圧力差を検出する圧力差検出手段と，前記圧力差検出手段により検出された検出値に基づいて前記給気ユニット及び前記排気ユニットを制御する制御手段と，前記圧力差検出手段による前記検出値に基づいて前記室圧の制御状況を出力する制御状況出力手段とを有することを特徴とする。 …この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置によれば，室圧調整装置を備えるため，室内温度の上昇により室内の空気が膨張したような場合においても室圧を一定に保つことができる。 また，この発明ホルムアルデヒドガス殺菌装置は，前記排気ユニットが前記室内から排気される空気を処理する処理装置を備える。 この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装 も室圧を一定に保つことができる。 また，この発明ホルムアルデヒドガス殺菌装置は，前記排気ユニットが前記室内から排気される空気を処理する処理装置を備える。 この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置によれば，室圧を調整するために室内の空気の排気を行った場合においても，処理装置により室内の空気に含まれるホルムアルデヒドガス等を処理するため，ホルムアルデヒドガスを処理した後に室外に排出することができる。」（６頁４行～７頁６行）(オ) 「発明を実施するための最良の形態以下，図１を参照して，本発明の第１の実施の形態の説明を行う。図１は，第１の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガス殺菌装置２の構成図である。このホルムアルデヒドガス殺菌装置２は，ハウジング１０を有しバイオハザード安全キャビネットの外側に取り付けて容易にキャビネット内の空間（以下被殺菌空間１００とする）を殺菌することができるものである。この際，キャビネット内はダンパ等を閉じて閉空間とする。キャビネットには，ホルムアルデヒドガス殺菌装置２からホル ムアルデヒドガスを供給するためのホルムアルデヒドガス入口１０２と，ホルムアルデヒドガスを排出するための排気ガス出口１０４が設けられている。 被殺菌空間１００には，ホルムアルデヒドガス濃度センサ１２，湿度センサ１４，温度センサ１６が設けられ，それぞれモニタされた値は制御ライン１８，２０，２２を介して制御器２４へ伝達される。 ポンプ２６により外気をホルムアルデヒドガス入口１０２より被殺菌空間１００内に導入し，さらに排ガス出口１０４よりポンプ２８を通じて外気へ排気する。または，ポンプ２８から出た排気ガスを環流通路３０を介して再びポンプ２６に導入することで，被殺菌空間１００内の空気を循環させる。」（７頁７行～２３ ス出口１０４よりポンプ２８を通じて外気へ排気する。または，ポンプ２８から出た排気ガスを環流通路３０を介して再びポンプ２６に導入することで，被殺菌空間１００内の空気を循環させる。」（７頁７行～２３行）「…このため濃度センサ１２，湿度センサ１４，温度センサ１６により被殺菌空間１００内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度のそれぞれをモニタし，得られた値に基づいて制御器２４で必要な計算を行い，制御ライン３８，４０，４２，４４を通じてホルムアルデヒドガス発生器３６，温度調節器３４，湿度調節器３２，ポンプ２６を制御する。…所定の時間経過後，ホルムアルデヒドガス発生器３６を停止し，排ガス処理器４６による処理を被殺菌空間１００内のホルムアルデヒド濃度が所定の値より低くなるまで実施する。即ち，ポンプ２８から出たガスを還流通路３０を介して再びポンプ２６に導入し，被殺菌空間１００内の空気を循環させることにより，ホルムアルデヒド濃度を徐々に低下させ所定の濃度よりも低くする。」（８頁１行～１２行）(カ) 「本発明において使用可能なホルムアルデヒドガス発生器には特に限定はないが，湿度，温度の制御の下で高い濃度のホルムアルデヒドガスを発生可能であればよい。」（８頁１９行～２１行）「ホルムアルデヒドの発生量の制御については，触媒の温度の制御， 及び供給するメタノールの量，又は気化量に依存する。反応条件の最適化は，実際にホルムアルデヒドを発生させ，かつ適当なホルムアルデヒド濃度測定を行うことにより可能である。」（９頁４行～７行）「本発明において，適当な濃度のホルムアルデヒドガス濃度を，適当な温度の範囲内で長時間維持するために，被殺菌空間内の温度を調節することが好ましい。この目的で設けられる温度調節手段は特には，制限はなく，通常公知の て，適当な濃度のホルムアルデヒドガス濃度を，適当な温度の範囲内で長時間維持するために，被殺菌空間内の温度を調節することが好ましい。この目的で設けられる温度調節手段は特には，制限はなく，通常公知の加熱，または冷却装置が使用可能である。」（９頁２７行～１０頁１行）「本発明において，適当な濃度のホルムアルデヒドガス濃度を，適当な湿度の範囲内で長時間維持するために，この閉空間内の湿度を調節することが好ましい。この目的で設けられる湿度調節手段は特に制限はなく，通常公知の加湿，または除湿装置が使用可能である。」（１０頁６行～９行）「本発明においては，被殺菌空間内の温度，湿度及びホルムアルデヒド濃度を所定の範囲で，所定の時間維持する必要がある。被殺菌空間内ホルムアルデヒドガスの濃度は，被殺菌空間内で殺菌反応などの種々の反応により減少する。従って，ホルムアルデヒドガスの濃度を一定に維持するためには，設定時間内において，温度，湿度，ホルムアルデヒド濃度データを取込み，かつ特定範囲になるように，ホルムアルデヒド発生手段を制御する必要がある。この目的のための制御方法，制御器については特に制限はないが，手動による方法，又はコンピュータプログラムを用いた制御器が挙げられる。本発明においては，高いホルムアルデヒド濃度を長時間維持する必要があることから，オンタイムに最適化しつつホルムアルデヒド発生装置，ポンプ，温度調節器，湿度調節器に信号を送り，制御する機能を有するものが好ましい。」（１１頁１９行～末行） (キ) 「次に，図２，図３を参照して，本発明の第２の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガス殺菌装置ついて説明する。この第２の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガス殺菌装置は，第１の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガス殺菌装置２と同一 発明の第２の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガス殺菌装置ついて説明する。この第２の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガス殺菌装置は，第１の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガス殺菌装置２と同一の構成であるホルムアルデヒドガス供給排出装置４に，更に密閉された室として形成された被殺菌空間内の圧力を調整する室圧調整装置６を備えるものである。 図２は，第２の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガス供給排出装置４及び室圧調整装置６を備えて構成されるホルムアルデヒドガス殺菌装置の構成図である。ここで室圧調整装置６は，室壁５０に接した状態で設けられ，室壁５０により密閉された室内の圧力を調整するものである。室圧調整装置６は，室内に室外の空気を給気する給気ユニット５２，室内の空気を室外に排気する排気ユニット５４，室内と室外との圧力差を検出する微差圧検出器５６，微差圧検出器５６により検出された検出値に基づいて給気ユニット５２及び排気ユニット５４を制御するコントロールユニット５８を備えて構成されている。 給気ユニット５２は，室外の空気を取り込むための給気グリル６０を有し，この給気グリル６０の下流側に，室外から室内に供給される空気量を調整するための給気量調整電磁弁６２が３つ設けられている。また，給気量調整電磁弁６２の下流側の空気通路６４内には，送風機６６，ＨＥＰＡ（ｈｉｇｈ ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅａｉｒ）フィルタ６８が順次設けられている。 排気ユニット５４は，給気通路７０内にＨＥＰＡフィルタ７２を有し，ＨＥＰＡフィルタ７２の下流側に室内から室外に排気される空気量を調整するための排気量調整電磁弁７４が３つ設けられている。また，排気量調整電磁弁７４の下流側には，白金触媒およびヒータを備えて構成されるエアー処理装置７６ の下流側に室内から室外に排気される空気量を調整するための排気量調整電磁弁７４が３つ設けられている。また，排気量調整電磁弁７４の下流側には，白金触媒およびヒータを備えて構成されるエアー処理装置７６が設けられている。ここで，このエアー処理 装置７６には，電磁弁７８を介して室外の空気が供給される。この室外の空気の供給により触媒の温度を一定に保つことができる。 更に，排気量調整電磁弁７４の下流側には，エアー処理装置７６を通過した空気および給気グリル８０から取込んだ空気を室圧調整装置６外に排気するための送風機８２が設けられている。」（１３頁末行～１４頁末行）(ク) 「微差圧検出器５６は，室壁５０に設けられ，信号線を介してコントロールユニット５８に接続されており，この微差圧検出器５６により検出された室内と室外との圧力差がコントロールユニット５８に入力される。 コントロールユニット５８は，信号線を介して給気ユニット５２の給気量調整電磁弁６２及び送風機６６に接続されていると共に，排気ユニット５４の排気量調整電磁弁７４，電磁弁７８及び送風機８２に接続されている。コントロールユニット５８は，微差圧検出器５６の検出値に基づいて，給気量調整電磁弁６２，送風機６６，排気量調整電磁弁７４及び送風機８２等の制御を行う。なお，コントロールユニット５８には，微差圧検出器５６による検出値を常時記憶する記憶装置８４及び記憶装置８４に記憶されている検出値を出力するプリンタ等の出力装置８６が接続されている。」（１５頁１行～１１行）「このホルムアルデヒドガス殺菌装置においては，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４のポンプ２６により外気をホルムアルデヒドガス入口１０２より室内に導入し，さらに排ガス出口１０４よりポンプ２８を通じて外気へ排気する。湿度センサ 菌装置においては，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４のポンプ２６により外気をホルムアルデヒドガス入口１０２より室内に導入し，さらに排ガス出口１０４よりポンプ２８を通じて外気へ排気する。湿度センサ１４，温度センサ１６により得られた室内の温度及び湿度がそれぞれ所定の温度２０～４０℃，および湿度の範囲５０～９０％（相対湿度）の範囲になるように制御器２４にて湿度調節器３２及び温度調節器３４で調節する。さらに，ホルムアルデ ヒドガス発生器３６およびポンプ２６にて所定のホルムアルデヒドガス濃度１６０ｐｐｍ以上を維持するように調節し所定の時間維持する。 このため濃度センサ１２，湿度センサ１４，温度センサ１６によりホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度のそれぞれをモニタし，得られた値に基づいて制御器２４で必要な計算を行い，制御ライン３８，４０，４２，４４を通じてホルムアルデヒドガス発生器３６，温度調節器３４，湿度調節器３２，ポンプ２６を制御する。」（１５頁１２行～２３行）(ケ) 「ここで所定時間，室内の温度，湿度，ホルムアルデヒドガスの濃度がそれぞれ温度２０～４０℃の範囲，湿度５０～９０％（相対湿度）の範囲，ホルムアルデヒドガス濃度１６０ｐｐｍ以上を維持している間，室圧調整装置により室内の圧力を陽圧力に維持する。即ち，図３に示すフローチャートに示す処理により，室内を陽圧力（１０～２０Ｐａ）に維持する。なお，このフローチャートに基づく制御は，コントロールユニット５８により微小時間間隔ごとに繰り返して行われる。」（１５頁２６行～１６頁３行）「まず，コントロールユニット５８は，微差圧検出器５６により検出された室内と室外との圧力差を取得し（ステップＳ１０），記憶装置８４に記憶する（ステップＳ１１）。次に，圧力差が１０～２０Ｐａの場合には（ス ，コントロールユニット５８は，微差圧検出器５６により検出された室内と室外との圧力差を取得し（ステップＳ１０），記憶装置８４に記憶する（ステップＳ１１）。次に，圧力差が１０～２０Ｐａの場合には（ステップＳ１２）正常な圧力であることから，ステップＳ１０の処理に戻って，圧力差検出（ステップＳ１０），検出値記憶（ステップＳ１１）等の処理を続行する。 一方，微差圧検出器５６により検出された室内と室外との圧力差が１０Ｐａ以下の場合には（ステップＳ１２）室圧が低すぎることから室内への給気を行う（ステップＳ１４）。即ち，給気量調整電磁弁６２及び送風機６６に制御信号を送り給気量調整電磁弁６２を所定時間開くと共に送風機６６の運転を行う。これにより室外の空気が…室内に供給さ れ，室内の圧力が給気量調整電磁弁６２の開時間に対応する値だけ上昇する。…また，微差圧検出器５６により検出された室内と室外との圧力差が２０Ｐａ以上の場合には（ステップＳ１２）室圧が高すぎることから室外への排気を行う（ステップＳ１３）。即ち，排気量調整電磁弁７４及び送風機８２に制御信号を送り排気量調整電磁弁７４を所定時間開くと共に送風機８２の運転を行う。これにより室内の空気がＨＥＰＡフィルタ７２，排気量調整電磁弁７４，エアー処理装置７６を介して室外に排気され，室内の圧力が排気量調整電磁弁７４の開時間に対応する値だけ降下する。」（１６頁４行～２４行）「この室圧制御装置６によれば，室内と室外との圧力差を常時１０～２０Ｐａに維持することができるため，ホルムアルデヒドガスを用いて室内の殺菌を行う場合に，室内温度の上昇により室内空気の体積が増加した場合においても，ホルムアルデヒドガスがエアー処理装置７６で処理された後に排出されるため，ホルムアルデヒドガスが未処理のまま室外 室内の殺菌を行う場合に，室内温度の上昇により室内空気の体積が増加した場合においても，ホルムアルデヒドガスがエアー処理装置７６で処理された後に排出されるため，ホルムアルデヒドガスが未処理のまま室外に漏れ出すのを防止することができる。また検出された室内と室外の圧力差は時系列的に記憶装置８４に記憶されていることから，記憶装置８４に記憶されている検出値を出力装置８６により出力することにより，この出力結果に基づいて室内の圧力が常に所定の陽圧に維持できていたことを保証することができる。従って，ホルムアルデヒドガスが未処理のまま室外の漏れ出していないことの保証を行うことが可能になる。」（１６頁２７行～１７頁７行）(コ) 「なお，上述の第２の実施の形態においては，室圧調整装置６にエアー処理装置７６が設けられているが，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４の排ガス処理器４６を用いてホルムアルデヒドガスの処理を行うことも可能である。」（１７頁１３行～１５行） (サ) 「また，本発明にかかる装置によれば，室内温度の上昇により室内の空気の体積が増加したような場合においてもホルムアルデヒドガスが未処理のまま室外に漏れるのを防止することができ，また十分に保証可能な殺菌効果を得ることができる。」（１７頁２８行～１８頁２行）(シ) 「産業上の利用可能性以上のように，この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置は被殺菌空間を十分に保証可能な程度に殺菌することに適している。」（１８頁３行～５行）イ前記アの記載事項によれば，甲２には，次のような開示があることが認められる。 (ア) ホルムアルデヒドガス殺菌装置において，十分に保証可能な殺菌効果を得るためには，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度を制御し，また，被殺菌空間は密閉された空間 認められる。 (ア) ホルムアルデヒドガス殺菌装置において，十分に保証可能な殺菌効果を得るためには，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度を制御し，また，被殺菌空間は密閉された空間（室）となるため，室内圧力を制御する必要も生じる（前記ア(イ)，(ウ)）。 「本発明」は，上記課題を解決するための手段として，密閉された室内にホルムアルデヒドガスを供給すると共に排出するホルムアルデヒドガス供給排出装置と，室内の圧力を調整する室圧調整装置とを備え，ホルムアルデヒドガス供給排出装置は，ホルムアルデヒドガスの発生器と，ホルムアルデヒドガスの湿度調節器と，ホルムアルデヒドガスの温度調節器と，ホルムアルデヒドガスを室内へ搬送して導入するガス搬送器と，室内からの排ガスの処理器と，排ガスの排出器と，室内のホルムアルデヒドガスの濃度，湿度及び温度を所定の濃度，湿度及び温度に制御する制御部とを有し，室圧調整装置は，室内に室外の空気を給気するユニットと，室内の空気を室外に排気するユニットと，室内と室外との圧力差を検出する手段と，これによる検出値に基づいて給気ユニット及び排気ユニットを制御する手段と，前記検出値に基づいて前記室圧の制御状況 を出力する手段とを有する構成を採用した（前記ア(エ)）。 この構成により，「本発明」は，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ所定の値に制御し，かつ，室内温度の上昇により室内の空気が膨張したような場合においても室圧を一定に保つことができるので，十分に保証可能な殺菌効果を得られるという効果を奏する（前記ア(ウ)，(エ)，(サ)）。 (イ) 「本発明」の第２の実施の形態（図２）は，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４及び室圧調整装置６を備えて構成されるホルムアルデヒドガス殺菌装 効果を奏する（前記ア(ウ)，(エ)，(サ)）。 (イ) 「本発明」の第２の実施の形態（図２）は，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４及び室圧調整装置６を備えて構成されるホルムアルデヒドガス殺菌装置であり，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４は，濃度センサ１２，湿度センサ１４，温度センサ１６により得られた被殺菌空間１００内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度の値に基づいて，ホルムアルデヒドガス発生器３６，温度調節器３４，湿度調節器３２，ポンプ２６及び２８を制御する制御器２４を備え，また，室圧調整装置６は，室内と室外との圧力差を検出する微差圧検出器５６により検出された検出値に基づいて給気ユニット５２及び排気ユニット５４を制御するコントロールユニット５８を備えている（前記ア(オ)ないし(キ)）。 第２の実施の形態に係るホルムアルデヒドガス殺菌装置は，「所定時間，室内の温度，湿度，ホルムアルデヒドガスの濃度がそれぞれ温度２０～４０℃の範囲，湿度５０～９０％（相対湿度）の範囲，ホルムアルデヒドガス濃度１６０ｐｐｍ以上を維持している間」，室圧調整装置６のコントロールユニット５８により室内の圧力を陽圧力に維持している（前記ア(ケ)）。 ⑷ 相違点２の容易想到性についてア訂正発明２の「庫内差圧検出手段」の意義等について(ア) 訂正発明２の特許請求の範囲（請求項２）の記載によれば，訂正発明２の「庫内差圧検出手段」は，「上記排気量制御手段により制御され る排気処理手段による上記暴露部の暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出」する検出手段であり，訂正発明２においては，「上記庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排気量制御手段により上記暴露部から排気するバイオ を検出」する検出手段であり，訂正発明２においては，「上記庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排気量制御手段により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内差圧を一定にする」ことを理解できる。 また，訂正発明２の特許請求の範囲（請求項２）中の「上記排気処理部により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御するバイオガスの排気量制御手段」との文言によれば，訂正発明２の「排気量制御手段」は，「上記排気処理部により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御」する制御手段であることを理解できる。 そして，訂正発明２の特許請求の範囲（請求項２）の記載によれば，訂正発明２の核酸分解処理装置は，「暴露部」の「バイオガスのホルムアルデヒド成分の濃度」の「ガス濃度情報」が「生成ガス量制御手段」に帰還され，「上記生成ガス量制御手段」及び「上記排気量制御手段」により「バイオガス発生部」における「生成ガス量」及び「暴露部」から排気する「バイオガスの排気量」を制御することにより，「暴露部」の「庫内ガス濃度」を一定にし，かつ，「庫内差圧情報」が「排気量制御手段」に帰還され，「上記排気量制御手段」により「暴露部から排気するバイオガスの排気量」を制御することにより，「暴露部」の「庫内差圧」を一定にすること，すなわち，「暴露部」の「ガス濃度情報」及び「庫内差圧情報」を基に，「生成ガス量」及び「バイオガスの排気量」を制御し，「暴露部」の「庫内ガス濃度」及び「庫内差圧」の両者を一定にする制御を行うものであることを理解できる。 しかるところ，訂正発明２の特許請求の範囲（請求項２）には，「庫内差圧検出手段」及び「排気量制御手段」の具体的な構造や装置構成に つい を一定にする制御を行うものであることを理解できる。 しかるところ，訂正発明２の特許請求の範囲（請求項２）には，「庫内差圧検出手段」及び「排気量制御手段」の具体的な構造や装置構成に ついて規定した記載はなく，また，「暴露部」の「庫内差圧」をいかなる数値又は数値範囲で一定にするのかについて規定した記載もない。 (イ) 次に，本件明細書の発明の詳細な説明には，「本発明」の実施形態として，核酸分解処理装置１００の制御部１５０が，暴露部１２０に設けられたガス濃度センサ１２９から供給された暴露空間内のガス濃度情報に基づき，バイオガス発生部１１０へのエア供給量及びメタノール供給量の制御及び排気処理部１４０の排気ブロア１４３の吸入量の制御により，暴露部１２０の庫内の濃度を一定にする制御を行うとともに，暴露部１２０に設けられた庫内圧力センサ１３２から供給された暴露空間内の圧力情報に基づき，排気処理部１４０の外気導入バルブ１４２の開閉度及び排気ブロア１４３の回転数の制御により，陰圧範囲内を目標値とした暴露部１２０の庫内差圧を一定にする制御を行うことが記載されている（【００２８】，【０１０３】，【０１１１】，【０１４０】～【０１４８】，【０１５０】，【０１６１】～【０１６４】，【０１８２】，【０１８３】，図１０)。これらの記載は，制御部１５０により暴露部１２０の庫内差圧を陰圧の数値範囲に制御することを開示するものと認められる。 他方で，本件明細書の「本発明の実施の形態について，図面を参照して詳細に説明する。なお，本発明は以下の例に限定されるものではなく，本発明の要旨を逸脱しない範囲で，任意に変更可能であることは言うまでもない。」（【００２６】）との記載に照らすと，本件明細書には，「本発明の要旨を逸脱しない範囲」であれば，「本発明」の実施 はなく，本発明の要旨を逸脱しない範囲で，任意に変更可能であることは言うまでもない。」（【００２６】）との記載に照らすと，本件明細書には，「本発明の要旨を逸脱しない範囲」であれば，「本発明」の実施形態が上記実施形態に限定されるものではないことの開示がある。 しかるところ，本件明細書には，「庫内差圧検出手段」及び「排気量制御手段」を特定の構造や装置構成のものに限定する記載はないし，また，「暴露部」の「庫内差圧を一定にする」にいう「一定」の数値範囲 を定義した記載もない。 また，訂正発明２の特許請求の範囲（請求項２）の記載から，訂正発明２の核酸分解処理装置は，「暴露部」の「ガス濃度情報」及び「庫内差圧情報」を基に，「生成ガス量」及び「バイオガスの排気量」を制御し，「暴露部」の「庫内ガス濃度」及び「庫内差圧」の両者を一定にする制御を行うものであることを理解できること（前記(ア)），本件明細書の発明の詳細な説明には，「本発明」は，訂正発明２の構成を採用したことにより，フィードバック制御により暴露部の暴露空間内における温度，湿度，濃度の定量的制御を行うことができ，検体の種類に対応した短時間で高効能を発揮する条件を定義することができるという効果を奏すること（【００２１】，【０１９６】）の開示があること（前記(1)イ(イ)）を総合すると，訂正発明２は，フィードバック制御により暴露部の暴露空間内の温度，湿度，「庫内ガス濃度」及び「庫内差圧」の定量的制御を行うことにより，検体の種類に対応した短時間で高効能を発揮する条件を定義することができるようにしたことに技術的意義があることが認められる。 そして，訂正発明２の上記技術的意義に照らすと，「庫内差圧」を陰圧の数値範囲に制御する必然性は見いだし難い。また，本件明細書全体をみても，「庫内 にしたことに技術的意義があることが認められる。 そして，訂正発明２の上記技術的意義に照らすと，「庫内差圧」を陰圧の数値範囲に制御する必然性は見いだし難い。また，本件明細書全体をみても，「庫内差圧」を陰圧の数値範囲に制御することによって，陽圧の数値範囲に制御することと比して有利な効果を生じるなどの技術的意義があることについての記載も示唆もない。 (ウ) 以上の訂正発明２の特許請求の範囲（請求項２）の記載及び本件明細書の記載に鑑みると，訂正発明２の「庫内差圧検出手段」の検出の対象となる「庫内差圧」は，「庫内」（暴露部の暴露空間内）の圧力と暴露空間外の圧力との差圧であれば，特定の数値範囲のものに限定されるものではなく，陰圧の数値範囲のものに限定されるものでもないと解す べきである。 したがって，訂正発明２の「庫内差圧検出手段」は，「滅菌タンク内がタンク外よりも陰圧であることを検出する庫内差圧検出手段」であって，滅菌タンク内のＭＲガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出するものであると限定解釈した本件審決の判断は誤りである。 イ甲２の開示事項について(ア) 前記⑶ア及びイ(イ)の記載事項を総合すると，甲２には，「本発明」の第２の実施の形態（図２）として，①ホルムアルデヒドガス供給排出装置４及び室圧調整装置６を備えて構成されるホルムアルデヒドガス殺菌装置であって，②ホルムアルデヒドガス供給排出装置４は，ホルムアルデヒドガス発生器３６，湿度調節器３２，温度調節器３４，排ガス処理器４６，外気を被殺菌空間内に導入するポンプ２６，被殺菌空間から外気へ排気するポンプ２８，ホルムアルデヒドガス濃度センサ１２，湿度センサ１４，温度センサ１６及び制御器２４を備え，制御器２４は，上記各センサにより得られた被殺菌空間１００内のホルムア 殺菌空間から外気へ排気するポンプ２８，ホルムアルデヒドガス濃度センサ１２，湿度センサ１４，温度センサ１６及び制御器２４を備え，制御器２４は，上記各センサにより得られた被殺菌空間１００内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度の値に基づいて，これらの値が所定の値となるように，ホルムアルデヒドガス発生器３６，湿度調節器３２，温度調節器３４，ポンプ２６及び２８を制御し，③室圧調整装置６は，室内に室外の空気を給気する給気ユニット５２，室内の空気を室外に排気する排気ユニット５４，室内と室外との圧力差を検出する微差圧検出器５６，コントロールユニット５８を備え，コントロールユニット５８は，微差圧検出器５６により検出された検出値に基づいて給気ユニット５２及び排気ユニット５４を制御し，排気ユニット５４には排気量調整電磁弁７４及び送風機８２が設けられ，室内から排気される空気に含まれるホルムアルデヒドガス等を処理した後に室外に排出することができ，給気ユニット５２及び排気ユニット５４の上記制御により，室内の圧力を「陽圧力」 に維持するものであることが開示されている。 このように，甲２における「本発明」の第２の実施の形態は，ホルムアルデヒドガスの給排気状況に依存して生じる被殺菌空間の室内と室外との圧力差を検出する微差圧検出器５６を備え，微差圧検出器５６により検出された検出値がコントロールユニット５８に帰還（フィードバック）され，コントロールユニット５８により被殺菌空間内の室内から室外に排気される空気に含まれるホルムアルデヒドガス等の排気量及び室内に給気する空気の給気量を制御することにより，被殺菌空間の室内の圧力を一定にするという構成を備えるものである。 そうすると，甲２における「本発明」の第２の実施の形態の「微差圧検出器５６」，「コントロールユニ 空気の給気量を制御することにより，被殺菌空間の室内の圧力を一定にするという構成を備えるものである。 そうすると，甲２における「本発明」の第２の実施の形態の「微差圧検出器５６」，「コントロールユニット５８」及び「排気量調整電磁弁７４及び送風機８２」は，それぞれ，訂正発明２における「庫内差圧検出手段」，「上記庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が…帰還され」る「上記排気量制御手段」及び「上記排気量制御手段により制御される排気処理手段」に相当するものと認められる。 したがって，甲２には，相違点２に係る訂正発明２の構成が開示されているものと認められる。 (イ) これに対し被告は，①訂正発明２の「庫内差圧検出手段」は，「滅菌タンク内がタンク外よりも陰圧であることを検出する庫内差圧検出手段であって，滅菌タンク内のＭＲガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出するもの」であり，訂正発明２の庫内差圧検出手段と甲２記載の微差圧検出器とは，圧力差の制御手法が正反対のものであるから，甲２記載の微差圧検出器５６は，訂正発明２の「庫内差圧検出手段」に相当するものとはいえない，②訂正発明２は，庫内ガス濃度情報及び庫内差圧情報という２つの情報を基に，生成ガス量及び排気量を調整し，庫内ガス濃度と庫内差圧の両者を一定にするという制御を行うものであ るのに対し，甲２に記載された発明では，ＭＲガスの濃度の制御はホルムアルデヒドガス供給排出装置４側の制御器２４で，処理室内外の気圧差の制御は室圧調整装置６側のコントロールユニット５８で，それぞれ別の装置で，別々に制御が行われており，庫内ガス濃度と庫内差圧の両者を同時に一定の値にする制御を行う訂正発明２の「排気量制御手段」と構成が異なるものであるから，甲２には，相違点２に係る訂正発明２の開示は 置で，別々に制御が行われており，庫内ガス濃度と庫内差圧の両者を同時に一定の値にする制御を行う訂正発明２の「排気量制御手段」と構成が異なるものであるから，甲２には，相違点２に係る訂正発明２の開示はない旨主張する。 しかしながら，上記①の点については，前記ア(ウ)のとおり，訂正発明２の「庫内差圧検出手段」の検出の対象となる「庫内差圧」は，特定の数値範囲のものに限定されるものではなく，陽圧の値のものも含むと解すべきであるから，甲２記載の微差圧検出器５６は，訂正発明２の「庫内差圧検出手段」に相当するものと認められる。 次に，上記②の点については，訂正発明２の特許請求の範囲（請求項２）には，訂正発明２の「排気量制御手段」の具体的な構造や装置構成について規定した記載はなく（前記ア(ア)），本件明細書の発明の詳細な説明にも，「排気量制御手段」を特定の構造や装置構成のものに限定する記載はないこと（前記ア(イ)）に鑑みると，訂正発明２は，「暴露部」の「ガス濃度情報」及び「庫内差圧情報」を基に，「生成ガス量」及び「バイオガスの排気量」を制御し，「暴露部」の「庫内ガス濃度」及び「庫内差圧」の両者を一定にする制御を行う構成のもの（前記ア(イ)）であれば，庫内ガス濃度の制御と庫内差圧の制御を同じ装置で行うものに限られるものではない。また，甲２に記載された第２の実施の形態に係るホルムアルデヒドガス殺菌装置は，「所定時間，室内の温度，湿度，ホルムアルデヒドガスの濃度がそれぞれ温度２０～４０℃の範囲，湿度５０～９０％（相対湿度）の範囲，ホルムアルデヒドガス濃度１６０ｐｐｍ以上を維持している間」，室圧調整装置６のコントロールユニット ５８により室内の圧力を陽圧力に維持しているから（前記(3)イ(イ)），甲２には，庫内ガス濃度と庫内差圧の両者を同時に制御す ｐｍ以上を維持している間」，室圧調整装置６のコントロールユニット ５８により室内の圧力を陽圧力に維持しているから（前記(3)イ(イ)），甲２には，庫内ガス濃度と庫内差圧の両者を同時に制御することが開示されていると認められる。 したがって，被告の上記主張は，その前提において，採用することができない。 ウ相違点２の容易想到性の有無について(ア) 前記(2)イ(イ)のとおり，甲１には，ラジカル化のための触媒反応温度を一定に保ち，安定した濃度の滅菌ガスを発生させる滅菌ガス発生装置を提供することを目的とすることについての開示があり，また，前記(3)イ(ア)のとおり，甲２には，甲２記載のホルムアルデヒドガス殺菌装置の構成を採用することにより，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ所定の値に制御し，かつ，室内温度の上昇により室内の空気が膨張したような場合においても室圧を一定に保つことができるので，十分に保証可能な殺菌効果を得られるという効果を奏することの開示がある。 そうすると，甲１及び甲２に接した当業者は，甲１発明において安定した濃度の滅菌ガスを発生させるとともに，十分に保証可能な殺菌効果を得るために，甲２記載の被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ所定の値に制御し，かつ，被殺菌空間の室圧を一定に保つための構成（前記イ(ア)）を適用する動機づけがあるものと認められる。 したがって，当業者は，甲１及び甲２に基づいて，甲１発明に甲２記載の上記構成を適用して相違点２に係る訂正発明２の構成を容易に想到することができたものと認められる。 (イ) これに対し被告は，甲２には，相違点２に係る訂正発明２の構成の開示はないから，当業者は，甲１発明に甲２に記載された発明を適用し ても，相違点 想到することができたものと認められる。 (イ) これに対し被告は，甲２には，相違点２に係る訂正発明２の構成の開示はないから，当業者は，甲１発明に甲２に記載された発明を適用し ても，相違点２に係る訂正発明２の構成を容易に想到することができたものではない旨主張する。 しかしながら，前記イ認定のとおり，甲２には相違点２に係る訂正発明２の構成の開示はあるものと認められるから，被告の上記主張は，その前提を欠くものであり，理由がない。 ⑸ 小括以上のとおり，相違点２に係る訂正発明２の構成は，当業者が容易に想到することができたものと認められる。 したがって，甲１発明に甲２に記載された発明を適用しても，相違点２を当業者が容易に想到することができたということはできないとして，訂正発明２は，当業者が容易に発明をすることができたものではないとした本件審決の判断は誤りであるから，原告主張の取消事由１－１は理由がある。 ２ 取消事由１－２（甲１を主引用例とする訂正発明３及び４の進歩性の判断の誤り）について本件審決は，訂正発明３は訂正発明２を引用する発明であり，また，訂正発明４は訂正発明３を引用する発明であるところ，訂正発明２が当業者が容易に発明をすることができたということはできないので，訂正発明３及び４についても当業者が容易に発明をすることができたということはできない旨判断した。 しかしながら，前記１⑸のとおり，本件審決のした訂正発明２の容易想到性の判断に誤りがあるから，訂正発明３及び４の容易想到性を否定した本件審決の上記判断は，その前提を欠くものであって，誤りである。 したがって，原告主張の取消事由１－２は理由がある。 ３ 結論以上によれば，原告主張の取消事由１－１及び１－２は理由があるから，その余の取消事由について判断 欠くものであって，誤りである。したがって，原告主張の取消事由１－２は理由がある。３ 結論以上によれば，原告主張の取消事由１－１及び１－２は理由があるから，その余の取消事由について判断するまでもなく，本件審決は取り消されるべきである。 知的財産高等裁判所第４部 裁判長裁判官 大鷹一郎 裁判官 山門優 裁判官 筈井卓矢 （別紙１） （別紙２） （別紙３）
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