平成１２年（行ケ）第１９号特許取消決定取消請求事件（平成１３年４月１２日口頭弁論終結）判決原告アーエスエムリソグラフイービーヴェー訴訟代理人弁理士杉村暁秀同杉村興作同杉村純子同徳永博同高見和明被告特許庁長官及川耕造指定代理人小林武同辻徹二同大野覚美同茂木静代 主文 特許庁が平成１０年異議第７２４３２号事件について平成１１年８月１８日にした決定を取り消す。 訴訟費用は各自の負担とする。 事実 第１ 請求主文第１項と同旨第２ 前提となる事実 １ 特許庁における手続の経緯（１） 原告は、発明の名称を「マスクと基板とを互に整列させるアラインメント方法及び装置」とする特許第２６７７５５８号の発明（優先権主張国をオランダ国、優先権主張日を１９８６年３月１２日として、昭和６２年３月１１日に出願され、平成９年７月２５日に設定登録を受けたもの。以下「本件発明」という。）の特許権者である（なお、本件発明の特許権の共 ンダ国、優先権主張日を１９８６年３月１２日として、昭和６２年３月１１日に出願され、平成９年７月２５日に設定登録を受けたもの。以下「本件発明」という。）の特許権者である（なお、本件発明の特許権の共有持分権者であったコーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィは、原告に対して、特許権の持分全部を譲渡し、本件訴訟提起後の平成１２年２月２８日に、その移転登録がされている。）。 本件発明に対して特許異議の申立てがされ、同申立ては平成１０年異議第７２４３２号事件として特許庁に係属したところ、原告は、平成１１年５月６日、本件発明に係る明細書（以下「本件明細書」という。）の特許請求の範囲を訂正する旨の訂正請求をした。 特許庁は、同事件を審理した上、平成１１年８月１８日、「訂正を認める。特許第２６７７５５８号の特許請求の範囲第１項ないし第４項、第５項ないし第１０項に記載された発明についての特許を取り消す。」との決定（以下「本件決定」という。別紙１決定書の理由写し参照）をし、その謄本は、同年９月１６日、原告に送達された。 （２） 原告は、本訴提起後の平成１２年１１月２９日、本件明細書の特許請求の範囲及び発明の詳細な説明の記載を特許請求の範囲の減縮等を目的として訂正する訂正審判の請求をしたところ、特許庁は、同請求を訂正２０００－３９１４６号事件として審理した上、平成１３年２月２０日、上記訂正を認める旨の審決（以下「本件訂正審決」という。別紙２審決書写し参照）をし、その謄本は、同月２８日、原告に送達され、本件訂正審決は確定した。 ２ 本件明細書の特許請求の範囲の記載（１） 本件訂正審決による訂正前の特許請求の範囲の記載「１．マスクおよび基板に存在するアラインメントマークを使用し、第１基板マークを第１マスクマークに対して直接に整 細書の特許請求の範囲の記載（１） 本件訂正審決による訂正前の特許請求の範囲の記載「１．マスクおよび基板に存在するアラインメントマークを使用し、第１基板マークを第１マスクマークに対して直接に整列させ、第２基板マークを第１マスクマークに対して直接に整列させ、この際基板上にマスクパターン像を形成するレンズ系によってアラインメントを行うことにより、マスクに形成したパターンと該マスクパターンの像を形成させるべき基板とを互に整列させるに当り、前記レンズ系を使用して、さらに、少くとも１個の基板マークを第２マスクマークに対して直接に整列させることを特徴とするマスクと基板とを互に整列させるアラインメント方法。 ２．個々のアラインメントを適切な時期に順次行う特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３．基板の投影区域の外側に位置し、前記第１および第２の基板マークの整列方向とは平行でない方向に整列された追加の２個の基板マークを２個のマスクマークに対して整列させる特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４．基板区域内および１個のマスクパターン像を形成させるべき各サブ区域の間に位置する基板マークをマスクマークに対して直接に整列させる特許請求の範囲第２項または第３項記載の方法。 ５．第１マスクマークを基板マークに対して直接に整列させるための第１光学的アラインメント系を具え、該アラインメント系はアラインメントビームを放出する放射源と、基板マークおよび前記第１マスクマークの像を互の上に形成させるためのレンズ系と、前記基板マークおよび前記第１マスクマークの両方と相互作用した前記アラインメントビームの通路中に位置する放射検出装置とを具え、該検出装置の出力信号が前記アラインメントマークの相互位置を示すものである、マスクに形成したマスクパターンと該マスクパターンの像を形成させるべき ンメントビームの通路中に位置する放射検出装置とを具え、該検出装置の出力信号が前記アラインメントマークの相互位置を示すものである、マスクに形成したマスクパターンと該マスクパターンの像を形成させるべき基板とを互に整列させるアラインメント装置において第２マスクマークと基板マークとを互に直接に整列させる同様な第２光学的アラインメント系を設け、前記レンズ系は前記第１および第２のアラインメント系に共通であることを特徴とするマスクと基板とを互に整列させるアラインメント装置。 ６．２個の前記アラインメント系の光軸間の距離が可変である特許請求の範囲第５項記載の装置。 ７．基板マークは位相回折格子からなり、マスクマークは振幅回折格子からなる特許請求の範囲第５項または第６項記載の装置。 ８．前記レンズ系と前記放射検出装置との間の前記アラインメントビームの放射通路中に位置する前記光学的直接アラインメント系のそれぞれに、前記検出装置によって観察されたマスクマークと該マスクマーク上の基板マーク像とを互に周期的に移動させるための周期的信号によって制御される手段が配置されている特許請求の範囲第５～７項のいずれか一つの項に記載の装置。 ９．前記マスクと前記放射検出装置との間の前記アラインメントビームの放射通路中に位置する前記光学的直接アラインメント系のそれぞれに、２個の前記アラインメント系に共通である前記レンズ系の瞳像を形成させるための第２レンズ系を配置し、前記瞳像の平面内に絞りを配置し、該絞りには基板格子によって一次の回折次数で回折され次いでマスク格子によって零次および一次の回折次数で回折されたサブビームの成分からなるビーム部分の入射位置に開口が設けられている特許請求の範囲第５～８項のいずれか一つの項に記載の装置。 1０. ２個の前記光学的アラインメント系に共通な前記レ 折次数で回折されたサブビームの成分からなるビーム部分の入射位置に開口が設けられている特許請求の範囲第５～８項のいずれか一つの項に記載の装置。 1０. ２個の前記光学的アラインメント系に共通な前記レンズ系と前記マスクマークとの間のアラインメントビームの放射通路中に位置する前記光学的直接アラインメント系のそれぞれに、このレンズ系によって形成される基板マーク像の大きさおよび軸線位置を補正するための光学的補正素子が配置されている特許請求の範囲第５～９項のいずれか一つの項に記載の装置。」（なお、本件決定は「アラインメント」を「アライメント」と表記している。）（２） 本件訂正審決による訂正後の特許請求の範囲の記載（上記（１）の１項は、次の下線部の箇所が追加され、５ないし１０項は、削除されている。）「１．マスクおよび基板に存在するアラインメントマークを使用し、第１基板マークを第１マスクマークに対して直接に整列させ、第２基板マークを第１マスクマークに対して直接に整列させ、この際基板上にマスクパターン像を形成するレンズ系によってアラインメントを行うことにより、マスクに形成したパターンと該マスクパターンの像を形成させるべき基板とを互に整列させるに当り、前記レンズ系を使用して、さらに、少くとも１個の基板マークを第２マスクマークに対して直接に整列させるとともに、該基板上のマスクパターン像の像倍率に関する情報を発生させることを特徴とするマスクと基板とを互に整列させるアラインメント方法。 ２．個々のアラインメントを適切な時期に順次行う特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３．基板の投影区域の外側に位置し、前記第１および第２の基板マークの整列方向とは平行でない方向に整列された追加の２個の基板マークを２個のマスクマークに対して整列させる特許請求の範囲第２項記載の 法。 ３．基板の投影区域の外側に位置し、前記第１および第２の基板マークの整列方向とは平行でない方向に整列された追加の２個の基板マークを２個のマスクマークに対して整列させる特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４．基板区域内および１個のマスクパターン像を形成させるべき各サブ区域の間に位置する基板マークをマスクマークに対して直接に整列させる特許請求の範囲第２項または第３項記載の方法。」（なお、本件訂正審決は「アラインメント」を「アライメント」と表記している。） ３ 本件決定の理由の要旨別紙１決定書の理由写しのとおり、本件決定は、上記１（１）の平成１１年５月６日付けの訂正請求を認めて、本件発明の要旨を上記２（１）の本件訂正審決による訂正前の特許請求の範囲に記載のとおりと認定した上で、本件発明は、本件発明の特許出願前に外国において頒布された刊行物（米国特許第４０５２６０３号明細書、１９７７年１０月４日発行）に記載された発明であって特許法２９条１項３号の規定に該当し、取り消されるべきであるとした。 第３ 当事者の主張の要点 １ 原告上記１（２）のとおり、本件訂正審決による訂正は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、本件発明の特許を取り消した本件決定の取消しを目的とする本件訴訟の係属中に、本件発明について特許請求の範囲の減縮を目的とする本件訂正審決が確定した。 そこで、本件決定が本件発明の要旨を上記２（１）の本件訂正審決による訂正前の特許請求の範囲に記載のとおりと認定したことは誤りに帰し、この瑕疵は違法であるから、本件決定は取り消されなければならない。 ２ 被告原告主張のとおり、本件発明について本件訂正審決が確定したことは認める。 なお、原告が特許庁における異議の審理において、今般の訂正審判請求のごとき適切な訂正請求を行ってさ ばならない。 ２ 被告原告主張のとおり、本件発明について本件訂正審決が確定したことは認める。 なお、原告が特許庁における異議の審理において、今般の訂正審判請求のごとき適切な訂正請求を行ってさえおれば、本件訴訟はもともと起こり得なかったのであり、本件訴訟が原告の権利の伸張若しくは防御に必要でない行為によって生じたことは明らかである。したがって、訴訟費用は、民事訴訟法６２条の規定を適用し、原告の負担とすべきである。 理由 １ 本件訂正審決の確定により本件発明について特許請求の範囲が前記のとおり訂正されたことは当事者間に争いがなく、この訂正によって本件発明について特許請求の範囲が減縮されたことは明らかである。 そうすると、本件決定が本件発明の要旨を本件訂正審決による訂正前の特許請求の範囲に記載のとおりと認定したことは、結果的に誤りがあることになり、この誤りは本件決定の結論に影響を及ぼすものとして違法であるから、本件決定は取消しを免れない。 ２ よって、原告の本訴請求は理由があるからこれを認容し、訴訟費用の負担につき、行政事件訴訟法７条、民事訴訟法６２条を適用して、主文のとおり判決する。 東京高等裁判所第１８民事部裁判長裁判官永井紀昭裁判官古城春実裁判官橋本英史
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